Neuere Beschaffungen, bei denen der Anbieter ION BEAM Services erwähnt wird
2014-02-12Niederenergie-Hochstrom-Implantationsanlage (Universität Leipzig)
Gefordert ist eine Forschungs- und Entwicklungs-Niederenergie-Hochstrom-Implantationsanlage für den Energiebereich 20-200 keV mit einem Ionenstrom bis 1 mA für die Implantation in Substrate mit einem Durchmesser bis 15 cm. Die Anlage muss die Implantation sowohl Gas- als auch ausgewählter Metallionen einschließlich ihrer Isotope im Massenbereich von 1-250 amu ermöglichen. Der Gas-Ionenstrom muss zwingend größer 1 mA sein.
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