2019-09-06UHV Electron Beam Deposition System (Walther-Meissner-Institut)
UHV Dünnschicht-Depositionssystem für die Herstellung supraleitender Quantenschaltkreise mit Hilfe von Elektronenstrahlverdampfung und Sputter-Deposition. Das System muss UHV-Bedingungen zur Verfügung stellen und eine Ladeschleuse mit der Möglichkeit für die Reinigung von Substratoberflächen besitzen. Die Depositionskammer muss einen dreh- und kippbaren Substrathalter für 4-Zoll Substrate besitzen, um eine Schrägbedampfung unter verschiedenen Winkeln zu ermöglichen (Näheres siehe Leistungsbeschreibung).
Ansicht der Beschaffung » Erwähnte Lieferanten:Plassys Bestek SAS