Beschaffung eines Lithographie-Clusters für das Halbleiterlabor des Institutes
Automatische Anlage zur Belackung und Entwicklung doppelseitig polierter 6-8 Zoll Siliziumwafer für Photolithographie.
Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2011-09-02.
Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2011-07-12.
Wer?
Wie?
Wo?
Geschichte der Beschaffung
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Dokument |
| 2011-07-12
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Auftragsbekanntmachung
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