Beschaffung eines Lithographie-Clusters für das Halbleiterlabor des Institutes

Max-Planck-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V. - Max-Planck-Institut für extraterrestrische Physik

Automatische Anlage zur Belackung und Entwicklung doppelseitig polierter 6-8 Zoll Siliziumwafer für Photolithographie.

Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2011-09-02. Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2011-07-12.

Wer?

• • Max-Planck-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V. - Max-Planck-Institut für extraterrestrische Physik

Wie?

• • Maschinen für allgemeine und besondere Zwecke › Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke

Wo?

• • Oberbayern › München, Kreisfreie Stadt