Hochleistungs-fs-Lasersystem für die Erzeugung von XUV-Strahlung
Lieferung und funktionsbereite Aufstellung eines gepulsten Hochleistungslasersystems für die Erzeugung von extrem ultravioletter Strahlung und weicher Röntgenstrahlung (sog. hoher harmonischer Frequenzen der Fundamentalwellenlänge des Lasersystems bei 800 nm). Das System soll dem Nutzer die Möglichkeit bieten, elektronische Spektroskopie auf ultrakurzer Zeitskala an kondensierter Materie im Bereich von Grenzflächen (Interfaces) durchzuführen. Dazu soll eine hochspezialisierte Laborquelle für XUV- und weiche Röntgenstrahlung mit mehreren Messplätzen (insbesondere für die Photoelektronenspektroskopie) aus Einzelkomponenten aufgebaut werden. Das Hochleistungslasersystem stellt die zentrale Komponente dieser Apparatur dar. Die lasergetriebene und durchstimmbare Laborquelle soll den Wellenlängenbereich zwischen 30nm (EUV) und 2nm (XUV und weicher Röntgenbereich) abdecken und insbesondere die Spektroskopie (ESCA, NEXAFS) in sog. Wasserfenster an chemischen und in biologischen Proben ermöglichen. Es sollen damit schnelle Prozesse im Piko- und unteren Femtosekundenbereich (bis in den Attosekundenbereich mit entsprechender Zusatzausstattung) mit hoher Zeit- und Ortsauflösung verfolgt werden. Der Messplatz mit gepulster XUV(laserähnlicher) Strahlung soll dabei einzigartige spektroskopische (und Beugungs-) Experimente ermöglichen.
Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2011-10-17.
Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2011-09-01.
Anbieter
Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:
Wer?
Wie?
Geschichte der Beschaffung
Datum |
Dokument |
2011-09-01
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Auftragsbekanntmachung
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2013-02-21
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Bekanntmachung über vergebene Aufträge
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