Ionen-Ätzanlage mit Parallelplatten-Reaktor und Ionen-Ätzanlage mit ICP-Reaktor

Fraunhofer Gesellschaft e.V.

2 Trockenätzanlagen zum Strukturieren von InP-Wafern mittels RIE

Deadline

Die Frist für den Eingang der Angebote war 2011-10-20. Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2011-09-13.

Anbieter

Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:

• Oxford Instruments GmbH Plasma Technology

Wer?

• Fraunhofer Gesellschaft e.V.

Wie?

• Industrielle Maschinen

Wo?

• Berlin › Berlin

Geschichte der Beschaffung

Datum	Dokument
2011-09-13	Auftragsbekanntmachung
2012-01-20	Ergänzende Angaben
2012-02-16	Bekanntmachung über vergebene Aufträge

Auftragsbekanntmachung (2011-09-13)
Objekt
Umfang der Beschaffung
Titel: Industrielle Maschinen
Menge oder Umfang: Je 1 Stck.
Metadaten der Bekanntmachung
Originalsprache: Deutsch 🗣️
Dokumenttyp: Auftragsbekanntmachung
Art des Auftrags: Lieferungen
Verordnung: Europäische Union, mit GPA-Beteiligung
Gemeinsames Vokabular für öffentliche Aufträge (CPV)
Code: Industrielle Maschinen 📦

Verfahren
Verfahrensart: Verhandlungsverfahren
Angebotsart: Angebot für ein oder mehrere Los(e)
Vergabekriterien
Wirtschaftlichstes Angebot

Öffentlicher Auftraggeber
Identität
Land: Deutschland 🇩🇪
Art des öffentlichen Auftraggebers: Einrichtung des öffentlichen Rechts
Postanschrift: Hansastr. 27c
Postleitzahl: 80686
Postort: München
Kontakt
Internetadresse: http://www.fraunhofer.de 🌏
E-Mail: einkauf@zv.fraunhofer.de 📧
Telefon: +49 891205-3229 📞
Fax: +49 891205-7548 📠

Referenz
Daten
Absendedatum: 2011-09-13 📅
Einreichungsfrist: 2011-10-20 📅
Veröffentlichungsdatum: 2011-09-15 📅
Kennungen
Bekanntmachungsnummer: 2011/S 177-290487
ABl. S-Ausgabe: 177
Zusätzliche Informationen

Bewerber unterliegen mit der Angebotsabgabe auch den Bestimmungen über nichtberücksichtigte Angebote (§§ 19, 22 EG).

Objekt
Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung: 2 Trockenätzanlagen zum Strukturieren von InP-Wafern mittels RIE
Losnummer: 1
Bezeichnung des Loses: Ionen-Ätzanlage mit Parallelplatten-Reaktor
Kurze Beschreibung:

Die gesuchte Anlage soll eine durch Maskierung vorgegebene Struktur in den Halbleiter übertragen. Hier wird als gängiges Verfahren das reaktive Ionenätzen gefordert. Um eine Kontinuität der gegenwärtigen Prozessierung zu gewährleisten, soll das Ätzen mit einer Parallelplattenanlage und den Gasen CH4 und H2 durchgeführt werden. Geätzt werden sollen die Materialien InP, InGaAsP und InGaAs in einem Multiwafer Betrieb 3x3“ und 4x2“. Die Wafer sollen ohne thermische Ankopplung mit Lackmaske ätzbar sein. Desweiteren muss die Ätzanlage über ein Endpunktkontrollsystem verfügen, das die Erkennung von Materialübergängen und/oder der Ätztiefe erlaubt. Neben den Ätzrezepten soll auch eine Reinigungsprozedur zur normalen Reinigung des Rezipienten mitgeliefert werden.

Menge oder Umfang: 1 Stck
Losnummer: 2
Bezeichnung des Loses: Ionen-Ätzanlage mit ICP-Reaktor
Kurze Beschreibung:

Die gesuchte Anlage soll eine durch Maskierung vorgegebene Struktur in den Halbleiter übertragen. Hier wird als gängiges Verfahren das reaktive Ionenätzen gefordert. Sie soll zusätzlich mit hohen Ätzraten Tiefenätzungen durchführen. Dieses ist durch eine ICP-Quelle und reaktiven Gasen (z.B. Cl2) zu erreichen. Geätzt werden sollen die Materialien InP, InGaAsP und InGaAs in einem Multiwafer Betrieb 3x3“ und 4x2“. Die Wafer sollen sowohl mit SiNx- als auch mit einer Lackmaske ätzbar sein. Auch eine Ätzung im RIE-Mode mit CH4/H2-Prozess soll möglich…

… sein.Desweiteren muss die Ätzanlage über ein Endpunktkontrollsystem verfügen, das die Erkennung von Materialübergängen und/oder der Ätztiefe erlaubt. Neben den Ätzrezepten soll auch eine Reinigungsprozedur zur normalen Reinigung des Rezipienten nach Cl2-Prozessen sowie vor einem Übergang von Cl2-Prozessen zu CH4/H2-Prozessen mitgeliefert werden.

… sein.

Desweiteren muss die Ätzanlage über ein Endpunktkontrollsystem verfügen, das die Erkennung von Materialübergängen und/oder der Ätztiefe erlaubt. Neben den Ätzrezepten soll auch eine Reinigungsprozedur zur normalen Reinigung des Rezipienten nach Cl2-Prozessen sowie vor einem Übergang von Cl2-Prozessen zu CH4/H2-Prozessen mitgeliefert werden.

Menge oder Umfang: 1 Stck.
Es werden Varianten akzeptiert ✅
Beschreibung der Optionen:

Optional ist ein Massenspektrometer und die Endpunkterkennung für Multiwaferbetrieb anzubieten.

Dauer: 6 Monate
Referenznummer: BM 124/217972/CL
Ort der Leistung
Hauptstandort oder Erfüllungsort: Berlin.

Rechtliche, wirtschaftliche, finanzielle und technische Informationen
Bedingungen für die Teilnahme
Befähigung zur Berufsausübung: — Firmenprofil.
Wirtschaftliche und finanzielle Leistungsfähigkeit:

— Umsätze der letzten 3 Geschäftsjahre,

— Eigenerklärung über das ordnungsgemäße Abführen von Steuern und Sozialabgaben,

— Eigenerklärung, dass kein Insolvenzverfahren in Eröffnung ist, eröffnet wurde oder mangels Masse abgelehnt wurde.

Technische und berufliche Fähigkeiten: — Komplette Referenzen von vergleichbaren Anlagen, nicht älter als 3 Jahre.
Auftragsausführung
Wichtigste Finanzierungsbedingungen und Zahlungsmodalitäten und/oder Verweis auf die einschlägigen Bestimmungen, die sie regeln: Siehe Verdingungsunterlagen.
Sonstige besondere Bedingungen:

— Die unter III.2 geforderten Unterlagen sind spätestens bis zu dem unter IV 3.4 genannten Termin vollständig vorzulegen,

— Bitte senden Sie die geforderten Unterlagen per Email an Einkauf@zv.fraunhofer.de. Vermerken Sie bitte die Bezugsnummer BM 124/217972/CL in der Betreffzeile.

Verfahren
Mindestzahl der Bewerber: 3
Höchstzahl der Bewerber: 6
Objektive Auswahlkriterien: Gemäß Eignungskriterien.
Sprachen
Sprache: Deutsch 🗣️
Englisch 🗣️

Öffentlicher Auftraggeber
Identität
Name des öffentlichen Auftraggebers: Fraunhofer Gesellschaft e.V.
Kontakt
Kontaktperson: Carla Lönz
Internetadresse: www.fraunhofer.de 🌏
Name: Fraunhofer Gesellschaft
Postanschrift: Nur Elektronisch
Kontaktperson: BM 124/217972/CL
Frau Lönz
E-Mail: einkauf@zv.fraunhofer.de 📧

Referenz
Kennungen
Vom öffentlichen Auftraggeber vergebene Referenznummer: BM 124/217972/CL

Ergänzende Informationen
Körper überprüfen
Name: Vergabekammer des Bunedes beim Bundeskartellamt
Postanschrift: Kaiser-Friedrich-Str. 16
Postort: Bonn
Postleitzahl: 53175
Land: Deutschland 🇩🇪
Name: Vergabeprüfstelle des BMBF Referat Z 23
Informationen zu Fristen für Nachprüfungsverfahren:

Solange ein wirksamer Zuschlag (Vertragsschluss) noch nicht erteilt ist, kann als Rechtsbehelf ein Nachprüfungsantrag bei der unter VI 4.1 genannten Stelle gestellt werden. Bewerber/Bieter müssen Vergaberechtsverstöße unverzüglich bei der unter I 1 genannten Vergabestelle rügen, bevor sie einen Nachprüfungsantrag stellen. Wir weisen ausdrücklich auf die Antragsfrist des §107 Abs. 3 Satz1 Nr. 4 Gesetz gegen Wettbewerbsbeschränkungen (GWB) hin. Bieter, deren Angebote nicht berücksichtigt werden sollen, werden vor dem Zuschlag gem. §101a GWB informiert.

Für Mediationsverfahren zuständige Stelle
Postanschrift: Heinemannstr. 2
Quelle: OJS 2011/S 177-290487 (2011-09-13)

Ergänzende Angaben (2012-01-20)
Objekt
Metadaten der Bekanntmachung
Dokumenttyp: Ergänzende Angaben

Referenz
Daten
Absendedatum: 2012-01-20 📅
Veröffentlichungsdatum: 2012-01-25 📅
Kennungen
Bekanntmachungsnummer: 2012/S 16-024353
Verweist auf Bekanntmachung: 2011/S 177-290487
ABl. S-Ausgabe: 16
Quelle: OJS 2012/S 016-024353 (2012-01-20)

Bekanntmachung über vergebene Aufträge (2012-02-16)
Objekt
Metadaten der Bekanntmachung
Dokumenttyp: Bekanntmachung über vergebene Aufträge

Verfahren
Angebotsart: Entfällt

Öffentlicher Auftraggeber
Identität
Art des öffentlichen Auftraggebers: Sonstiges
Name des öffentlichen Auftraggebers: Fraunhofer-Gesellschaft e.V.
Postanschrift: Hansastr. 27 c

Referenz
Daten
Absendedatum: 2012-02-16 📅
Veröffentlichungsdatum: 2012-02-21 📅
Kennungen
Bekanntmachungsnummer: 2012/S 35-055603
ABl. S-Ausgabe: 35
Zusätzliche Informationen

Los 1. Ionenätzanlage mit Parallelplatten-Reaktor wurde aufgehoben 25.1.2012 – 2012/S 16-024353.

Objekt
Umfang der Beschaffung
Referenznummer: BM 124/217972/ cl

Verfahren
Vergabekriterien
Kriterium: 1. Preis (35)
2. Vorversuche (30)
3. Technische Ausführung (25)
4. Zusätzliche Randbedingungen siehe Pkt. c (10)

Auftragsvergabe
Datum des Vertragsabschlusses: 2012-02-10 📅
Name: Oxford Instruments GmbH Plasma Technology
Postanschrift: Postfach 4509
Postort: Wiesbaden
Postleitzahl: 65035
Land: Deutschland 🇩🇪
Informationen über Ausschreibungen
Anzahl der eingegangenen Angebote: 4

Öffentlicher Auftraggeber
Identität
Andere Art des öffentlichen Auftraggebers: Other

Ergänzende Informationen
Körper überprüfen
Name: Vergabekammer des Bundes beim Bundeskartellamt
Für Mediationsverfahren zuständige Stelle
Vergabeprüfstelle des BMBF Referat Z 23
Quelle: OJS 2012/S 035-055603 (2012-02-16)

Neue Beschaffungen in verwandten Kategorien 🆕

Industrielle Maschinen (>20 neue Beschaffungen)