Laser-Lithography-System
Das Laser-Lithography-System soll als Tischsystem aufgebaut sein und dient zur Einbelichtung freiräumlicher, dreidimensionaler Nano-/ Mikrostrukturen in kommerziell verfügbare Resiste und Chalkogenid-Gläser mittels 2-Photonen-Laserabsorption.
Hardwareausstattung:
— Mikroskop,
— Hochleistungslaser für 2-Photonenbelichtung,
— Feinpositioniersystem bis 4" Größe,
— Kamerasystem für Arbeitsbereich inkl. entsprechender Objektive,
— Schwingungsisolierte optische Bank,
— Steuersoftware.
Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2011-08-25.
Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2011-08-04.
Wer?
Wie?
Wo?
Geschichte der Beschaffung
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Dokument |
| 2011-08-04
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Auftragsbekanntmachung
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