Niederdruck-Gasphasenabscheidungssystem

Fraunhofer Gesellschaft e.V.

Ein vertikales Niederdruck-Gasphasenabscheidungssystem für die Abscheidung von Polysiliciumschichten im Dickenbereich von 10 nm bis 2 μm auf Siliciumscheiben mit maximal 200 mm Scheibendurchmesser und vorzugsweise einer Batchgröße von 25 Scheiben. Um für die dotierte Abscheidung eine möglichst hohe Homogenität des spezifischen Widerstands, sowohl über die Scheibe, als auch über das Boot erreichen zu können, ist ein fortschrittliches Gasinjektionssystem und eine Scheibenrotation wünschenswert. Da wir vor allem in der Forschung tätig sind, müssen ziemlich unterschiedliche Abscheiderezepte in ein und demselben Rohr gefahren werden.
Daher ist eine hohe Flexibilität gefordert.

Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2012-01-20. Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2011-12-12.

Anbieter
Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:
Wer?

Wie?

Wo?

Geschichte der Beschaffung
Datum Dokument
2011-12-12 Auftragsbekanntmachung
2012-09-11 Bekanntmachung über vergebene Aufträge