PECVD-System und RIE-Anlage
PECVD-System zur Abscheidung dielektrischer Schichten und eine RIE-Anlage zum Trockenätzen von dielektrischen Schichten, Silizium und Polymermaterialien.
Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2011-10-03.
Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2011-09-16.
Anbieter
Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:
Wer?
Wie?
Wo?
Geschichte der Beschaffung
| Datum |
Dokument |
| 2011-09-16
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Auftragsbekanntmachung
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| 2012-03-09
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Bekanntmachung über vergebene Aufträge
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