Stepper
Im Bereich Forschung und Entwicklung der Leistungselektronik, der Sensor- und der MEMS-Technologie (Mikro-Elektro-Mechanische Systeme) ist in der Photolithographie ein Step- und Repeat-Verfahren mit Auflösungen bis zu 0,8 mm größtenteils ausreichend, insbesondere wenn es mit Elektronenstrahllithographie kombiniert werden kann. Konventionelle Flächenbelichter (Mask Aligner) haben Probleme mit der Homogenität der Justiergenauigkeit über die ganze Scheibe, vor allem nach vielen Lithographieschritten, wenn der mechanische Stress in der Siliciumscheibe aufgrund unterschiedlicher abgeschiedener Schichten ein Verbiegen oder Verziehen der Scheibe verursacht. Darüber hinaus ist vor allem für die Sensortechnologie die traditionelle Vorderseitenjustage der Masken nicht mehr ausreichend. Da sowohl die Vorder- als auch die Rückseite der Scheiben parallel prozessiert werden müssen, ist ein Ausrichtung der Masken, bei der die Frontseite zur Rückseite und umgekehrt justiert werden kann, unbedingt nötig. Ein weiterer wichtiger Gesichtspunkt für die Forschung ist eine hohe Flexibilität des verwendeten Gerätes. So ist vor allem die Handhabung von verschiedenen Scheibendurchmessern (3“ bis 200 mm) bis hin zu kleinen Stücken ein wichtiges Kriterium für eine solche Anlage. Durchsatz hingegen spielt nur eine sehr untergeordnete Rolle. Deshalb sollte ein einfaches und schnelles Wechseln der Probenhalter und Belichtungsschablone möglich sein.
Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2011-06-09.
Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2011-05-03.
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Geschichte der Beschaffung
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Dokument |
| 2011-05-03
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Auftragsbekanntmachung
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