Beschaffung eines Vakuum-Aufdampf- und Sputtersystems
Mit dem anzuschaffenden Vakuum-Aufdampf-und Sputtersystem soll der Bereich der Dünnschichttechnologie mittels physikalischer Abscheideverfahren auf den momentan aktuellen Stand der Technik gebracht werden. Die Gerätekonfiguration soll aufgrund des technischen Fortschritts in den letzten Jahren über eine PC-gestützte, vollautomatische Prozessführung, ein modernes Vakuumsystem sowie technisch verbesserte Beschichtungsquellen verfügen, z.B. gleichzeitig DC und RF taugliche und betreibbare Sputterquellen, verbesserte Sweep-Funktion des Elektronenstrahls beim Elektronenstrahlverdampfen sowie eine erhöhte Verdampferleistung und ein verbessertes Vakuumsystem zur schnelleren Erreichung eines geringeren Restgasdrucks in der Beschichtungskammer haben. Der Auftraggeber weist darauf hin, dass es sich um ein Vorhaben handelt, das über Fördermittel finanziert wird. Die Vergabeentscheidung und der Zuschlag stehen daher unter dem Vorbehalt eines dafür ausreichenden Fördermittelbetrages.
Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2012-11-02.
Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2012-09-14.
Anbieter
Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:
Wer?
Wie?
Geschichte der Beschaffung
| Datum |
Dokument |
| 2012-09-14
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Auftragsbekanntmachung
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| 2013-01-30
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Bekanntmachung über vergebene Aufträge
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