CVD-Anlage

Fraunhofer Gesellschaft e.V.

Eine CVD-Anlage soll so ausgelegt sein, dass sie den Anforderungen einer elektrischen Isolation von TSVs für Interposer und hochentwickelte CMOS Schaltungen genügen. Dabei können als Substratmaterialien reine Siliziumsubstrate oder SOI (Silicon-on-Insulator) oder gedünnte Substrate dieser Art auf Trägerwafern verwendet werden. Die Anlage muss die spezifizierten Prozessanforderungen auf angemessenen Testsubstraten wie z.B. Testwafern erfüllen. Die für die Akzeptanzkriterien benötigten Testsubstrate und Strukturen werden vor dem Termin der Anlagenabnahme vom Fraunhofer IZM festgelegt.

Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2012-09-27. Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2012-08-28.

Anbieter
Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:

• • Altatech Semiconductor

Wer?

• • Fraunhofer Gesellschaft e.V.

Wie?

• • Maschinen für allgemeine und besondere Zwecke › Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke

Wo?

• • Deutschland › Berlin