Kauf einer kombinierten PECVD/PVD - Anlage für Mehrfach- und Multilagen (PVD-PECVD) im Kombibetrieb mit definiertem Prozess, um Mehrfach- und Multilagen im Kombibetrieb herzustellen
Kauf einer kombinierten PECVD/PVD - Anlage für Mehrfach- und Multilagen (PVD-PECVD) im Kombibetrieb mit definiertem Prozess, um Mehrfach- und Multilagen im Kombibetrieb herzustellen.
PECVD -Prozesse: SiOx, Diamond Like Carbon DLC.
PVD - Prozesse: Metalle (Cr, Ti, Al, W) rein, Metalloxide und Metallnitride.
Prozesskammer: Edelstahl, 1.4301 mit tauschbaren Verkleidungsblechen, Volumen ca. 350 l mit Sichtfenstern.
PVD: 2 Sputtertargets für leit- und nichtleitfähige Targets (RF-Sputtern) Nitride - Carbide und Metall - DLC möglich; Balanced Magnetron mit RF; Generator mit 13,56 MHz; automatische Impedanzanpassung.
1 Sputtertarget für reaktiv gesputterte Metall Nitride-Carbide-Oxide; Balanced Magnetron;
Bipolar gepulster Generator.
1 Sputtertarget für leitfähige Targets (DC-Sputtern); Balanced Magnetron, DC-Generator.
Shutter-Systeme am Target zum "Beschichtungsschutz" und Blindsputtern/Reinigung des Targets.
PECVD: 13,56 MHz, eingekoppelt über eine drehbare, wassergekühlte Koaxialdurchführung;
Prozesskontrolle über PC-Steuerung;
8 Gaskanäle (MFC), 3 davon für Flüssigprecursoren;
Chemiefenster Pumpstand;
Arbeitsdruck: 0.1 - 10 Pa; erreichbarer Enddruck: < 0.0001 Pa;
Abluftausgang über DN KF 40 Flansch;
Beschichtungskarussell mit 2-fach und 1-fach Drehung (entnehmbar);
Heizung bis 250°C (Strahlungsheizung).
Prozessanforderung:
a) Kombination aus Metall/Metalloxid/Metallnitrid mit glasartigem Topcoat und einem Wasser-Kontaktwinkel von > 105°, einer Oberflächenenergie von < 21 mN/m (polarer Anteil < 1 mN/m);
b) reaktives DC-Sputtern von nanokolumnaren Titannitridschichten und Iridiumoxidschichten bei Prozessdrucken >1Pa zur Herstellung von Elektrodenschichten mit einer Grenzflächenkapazität von 1 mF/cm²;
c) DLC-Schichten im PECVD-Verfahren abgeschieden mit einer Schichtdickenhomogenität von 10 % über einer Kammerhöhe von 40 cm (in Rotation abgeschieden).
Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2012-05-29.
Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2012-04-17.
Anbieter
Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:
Wer?
Wie?
Wo?
Geschichte der Beschaffung
| Datum |
Dokument |
| 2012-04-17
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Auftragsbekanntmachung
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| 2012-09-27
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Bekanntmachung über vergebene Aufträge
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