Magnetron Sputteranlage
Magnetron - Sputteranlage, ausgerüstet mit 4 Sputterkathoden, DC, HF und MF Betrieb.
Die Anlage wird zur Abscheidung von metallischen, metall-dielektrischen und dielektrischen Schichten bzw. Schichtsystemen für optische Anwendungen im Spektralbereich VUV bis NIR Verwendung finden.
Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2012-07-20.
Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2012-06-13.
Anbieter
Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:
Wer?
Wie?
Wo?
Geschichte der Beschaffung
| Datum |
Dokument |
| 2012-06-13
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Auftragsbekanntmachung
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| 2013-01-07
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Bekanntmachung über vergebene Aufträge
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