Nasschemische Batchbadreinigungsanlage
Nasschemische Batchbadreinigungsanlage.
Die Anlage soll hierbei eine klassische nasschemische Batchbadreinigung ermöglichen. Die einzelnen Prozessschritte werden in separate Becken durchgeführt. Nach dem Reinigungsprozess sollen die Wafer die Spezifikationen für eine Zuführung in einen industriellen Zellprozess mit dort durchgeführter Damageätze und Texturierung erfüllen.
Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2012-12-14.
Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2012-10-29.
Wer?
Wie?
Wo?
Geschichte der Beschaffung
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Dokument |
2012-10-29
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Auftragsbekanntmachung
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2012-11-12
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Ergänzende Angaben
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