Zwei-Photonen 3D-Laser Lithographiesystem

Fraunhofer Gesellschaft e.V.

Anlagentechnik zum Erzeugen dreidimensionaler Strukturen mit Submikrometerauflösung. Beispiele dafür sind Mikrooptike, Beugungsgitter, Lab-On-Chip-Systeme und Photonische Kristalle. Die im direkten Schreibvorgang zu erzeugenden Strukturen sollen eine Höhe von 1 mm haben und müssen mit dem System in einem Arbeitsgang herstellbar sein, d.h. ohne zusätzliche Ätzvorgänge oder Maskenwechsel. Das System soll höchste Flexibilität besitzen und eine Fläche von 100 x 100 mm2 strukturieren können. Damit sollen auch z.B. Lab-On-Chip-Systeme mit Mikrofluidikkanälen sowie Computer-Generierte-Hologramme herstellbar sein. Als Strukturmaterialien werden UV-aushärtbare Photolacke eingesetzt, zum Teil auch keramische Lacke auf Ormocer-Basis für höchstmögliche Festigkeit.

Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2012-04-30. Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2012-03-07.

Anbieter
Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:

• • Nanoscribe GmbH

Wer?

• • Fraunhofer Gesellschaft e.V.

Wie?

• • Optische Fachinstrumente › Laser