Beschaffung einer Ion Beam Sputtering (IBS)-Anlage (DFG-GZ: A 670)

Deutsche Forschungsgemeinschaft e. V., Zentrale Beschaffungsstelle

Leistungsbeschreibung einer Beschichtungsanlage für Laseroptiken.
Benötigt wird eine Hochvakuum-Beschichtungsanlage, mit der dielektrische Dünnschichtsysteme auf einem oder mehreren Substraten aufgebracht werden.
Mit der Anlage sollen dielektrische Interferenzbeschichtungen für Laseranwendungen hergestellt werden. Zum einen sollen höchstreflektierende Spiegel für Laser realisiert werden. Die Beschichtung besteht bei solchen Spiegeln aus bis zu 50 Schichten. Die
optischen Verluste, das heißt die Summe aus Transmission, Streuung und Absorption sollen bei der Wellenlänge von 800 nm kleiner als 1ppm sein. Die Reinheit, die Packungsdichte und die Stöchiometrie der Schichten sind hierfür ausschlaggebend. Essenziell ist auch eine Hochvakuum-Schleuse (Load-Lock) an der Anlage, die es erlaubt, Substrate in den Prozessraum einzuführen, ohne diesen zu belüften.
Zum anderen werden mit der Beschichtungsanlage sogenannte dispersive Spiegel entwickelt.
Solche Spiegel werden für Ultrakurzpulslaser benötigt. Die einzelnen Schichtdicken werden mit einer vorhandenen Software in Simulationen derart optimiert, dass die spektralen Komponenten des Laserpulses in unterschiedlicher Tiefe der Beschichtung reflekt iert werden. Die zeitliche und räumliche Pulsform wird somit geändert. Die Anzahl der Schichten kann hier 200 erreichen. Die einzelnen Schichtdicken müssen mit einer Abweichung von kleiner als 0,5 % abgeschieden werden. Dies kann unserer Erfahrung nach nur mit einem optischen Breitbandmonitor zur Prozessüberwachung realisiert werden.
Die Anlage soll außerdem in der Lage sein, Substrate mit einem Durchmesser von bis zu 250 mm zu beschichten. Die Inhomogenität, also die Abweichung der Schichtdicken auf der beschichteten Fläche, soll kleiner als 0,5 % sein.
Im Wechsel sollen mindestens zwei verschiedene Materialien in einem Prozessablauf verwendet werden. Am häufigsten werden Titandioxid, Tantalpentoxid und Nioboxid verwendet. Als Materialien mit niedrigem Brechungsindex kommen außerdem Siliziumdioxid und Aluminiumoxid in Frage. Für zukünftige Forschungen soll es auch möglich sein, die Materialien im Prozess zu mischen. Damit werden sogenannte Rugate -Filter hergestellt.
Im Folgenden sind die wesentlichen geforderten Spezifikationen aufgelistet:
- Inhomogenität der Beschichtung von < 0.5 % auf einem Durchmesser von 250 mm
- Optische Verluste der Beschichtungen < 1ppm bei λ = 800 nm
- Schichtdickenungenauigkeit der Einzelschichten von < 0.5 %
- In situ Messung der Schichtdicke mit Breitband Monitor (380 nm – 1050 nm)
- Load-Lock System
- Drei Beschichtungsmaterialien: Tantalpentoxid, Titandioxid, Siliziumdioxid
- Möglichkeit der Mischung von Materialien (Rugate)
- Demonstrationsbeschichtungen:
o Spiegel für 800 nm mit Verlusten < 1 ppm
o Dispersiver Spiegel mit einer Bandbreite von 600 nm bis 1000 nm. Reflexion > 99,5 %. Die
Group Delay Dispersion (GDD) soll kleiner als -50 fs² sein.

Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2013-12-08. Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2013-11-08.

Anbieter
Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:

• • CEC GmbH

Wer?

• • Deutsche Forschungsgemeinschaft e. V., Zentrale Beschaffungsstelle

Wie?

• • Industrielle Maschinen › Maschinen für allgemeine und besondere Zwecke

Wo?

• • Oberbayern › München, Kreisfreie Stadt