Fertigung eines Organic Vapor Phase Deposition (OVPD) - Process Moduls
Herstellen eines OVPD (Organic Vapor Phase Deposition, Organische Dampfphasenabscheidung) Moduls:
1. OVPD (Organic Vapor Phase Deposition, Organische Dampfphasenabscheidung)
Revolutionäre Depositionstechnologie für die Abscheidung organischer Halbleitermaterialien.
Basierend auf mehr als 20 Jahre Erfahrung mit Gasphasendepositionstechnologien hat AIXTRON eine Technologie zur Abscheidung von organischen Materialien mit höchster Produktivität bei geringen Betriebskosten entwickelt. Mit unseren führenden Technologien zur Materialbeschichtung forcieren wir die strategischen Anwendungsmärkte organische Halbleiter. Für unsere Kunden bedeutet dies eine umfangreiche Auswahl an Technologien zur Herstellung verschiedenster Bauelementtypen.
AIXTRON bietet eine revolutionäre Depositionstechnologie für die Abscheidung organischer Halbleitermaterialien zu Herstellung von organischen Leuchtdioden (engl. Organic Light Emitting Diode - OLED) und flexibler Elektronik für die Anwendung in Flachbildschirmen und Beleuchtung sowie für weitere Halbleiterapplikationen an. OVPD ist eine innovative Technologie für die Dünnschichtabscheidung von sogenannten organischen „kleinen Molekülen“ (Small Molecules) auf dem Prinzip des Gasphasentransports.
In dem von Professor Stephen R. Forrest, Princeton University, USA entwickelten und patentierten Verfahren verdampfen die organischen Materialien im Feinvakuum und mittels eines inerten Trägergases zum Substrat transportiert, wo sie abgeschieden werden. Diese Technologie hat gegenüber konventionellen Technologien (Aufdampfen im Hochvakuum; engl.: Vacuum Thermal Evaporation - VTE) wesentliche Vorteile in Bezug auf Prozesskontrolle, Reproduzierbarkeit und Betriebskosten.
Die amerikanische Firma Universal Display Corp. (UDC) besitzt die Nutzungsrechte an den OVPD-Patenten und hat diese 1999 exklusiv an AIXTRON zur Entwicklung, Herstellung und zum Vertrieb von OVPD-Anlagen lizenziert.
Mit Unterstützung von UDC hat AIXTRON OVPD-Produktionsanlagen mit Fokus auf die Anforderungen für OLED-Technologien entwickelt. Hierzu hat AIXTRON OVPD mit der geschützten Close Coupled Showerhead (CCS)-Technologie kombiniert, die bereits in anderen AIXTRON Depositionsanlagen (MOCVD) erfolgreich zur Serienfertigung von Halbleiterbauelementen verwendet wird.
2. Umfang des Auftrags
Umfang des Auftragsist ein Prozessmodul zur Abscheidung von organischen Materialien mit der OVPD Methode. Das Prozessmodul beinhaltet diese funktionalen Komponenten:
- Depositionskammer,
- Beheizter Liner,
- Substrathalter,
- Maskenhalter,
- Handler Schnittstelle,
- Verschluss und Verschluss Kammer,
- Hubstift Mechanismus,
- Substrat Indexer,
- Kammer Deckel,
- Vakuum System,
- Gasversorgungs Gehäuse,
- Pneumatisches System,
- Kühlsystem,
- Elektrische Installation,
- 3D Thermische Modellierung der Prozesskammer Komponenten bezüglich mechanischen und thermischen Auswirkungen,
- FEM Modellierung der Prozesskammer Komponenten bezüglich mechanischen und thermischen Auswirkungen,
- Test der Anlagen Funktionen gemäß AIXTRON Test Spezifikationen,
- Dokumentation des Moduls gemäß AIXTRON Qualitäts Spezifikationen.
Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2013-06-24.
Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2013-04-26.
Anbieter
Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:
Wer?
Wie?
Geschichte der Beschaffung
| Datum |
Dokument |
| 2013-04-26
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Auftragsbekanntmachung
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| 2013-09-03
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Bekanntmachung über vergebene Aufträge
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