Fertigung eines Organic Vapor Phase Deposition (OVPD) - Process Moduls

Aixtron SE

Herstellen eines OVPD (Organic Vapor Phase Deposition, Organische Dampfphasenabscheidung) Moduls:
1. OVPD (Organic Vapor Phase Deposition, Organische Dampfphasenabscheidung)
Revolutionäre Depositionstechnologie für die Abscheidung organischer Halbleitermaterialien.
Basierend auf mehr als 20 Jahre Erfahrung mit Gasphasendepositionstechnologien hat AIXTRON eine Technologie zur Abscheidung von organischen Materialien mit höchster Produktivität bei geringen Betriebskosten entwickelt. Mit unseren führenden Technologien zur Materialbeschichtung forcieren wir die strategischen Anwendungsmärkte organische Halbleiter. Für unsere Kunden bedeutet dies eine umfangreiche Auswahl an Technologien zur Herstellung verschiedenster Bauelementtypen.
AIXTRON bietet eine revolutionäre Depositionstechnologie für die Abscheidung organischer Halbleitermaterialien zu Herstellung von organischen Leuchtdioden (engl. Organic Light Emitting Diode - OLED) und flexibler Elektronik für die Anwendung in Flachbildschirmen und Beleuchtung sowie für weitere Halbleiterapplikationen an. OVPD ist eine innovative Technologie für die Dünnschichtabscheidung von sogenannten organischen „kleinen Molekülen“ (Small Molecules) auf dem Prinzip des Gasphasentransports.
In dem von Professor Stephen R. Forrest, Princeton University, USA entwickelten und patentierten Verfahren verdampfen die organischen Materialien im Feinvakuum und mittels eines inerten Trägergases zum Substrat transportiert, wo sie abgeschieden werden. Diese Technologie hat gegenüber konventionellen Technologien (Aufdampfen im Hochvakuum; engl.: Vacuum Thermal Evaporation - VTE) wesentliche Vorteile in Bezug auf Prozesskontrolle, Reproduzierbarkeit und Betriebskosten.
Die amerikanische Firma Universal Display Corp. (UDC) besitzt die Nutzungsrechte an den OVPD-Patenten und hat diese 1999 exklusiv an AIXTRON zur Entwicklung, Herstellung und zum Vertrieb von OVPD-Anlagen lizenziert.
Mit Unterstützung von UDC hat AIXTRON OVPD-Produktionsanlagen mit Fokus auf die Anforderungen für OLED-Technologien entwickelt. Hierzu hat AIXTRON OVPD mit der geschützten Close Coupled Showerhead (CCS)-Technologie kombiniert, die bereits in anderen AIXTRON Depositionsanlagen (MOCVD) erfolgreich zur Serienfertigung von Halbleiterbauelementen verwendet wird.
2. Umfang des Auftrags
Umfang des Auftragsist ein Prozessmodul zur Abscheidung von organischen Materialien mit der OVPD Methode. Das Prozessmodul beinhaltet diese funktionalen Komponenten:
- Depositionskammer,
- Beheizter Liner,
- Substrathalter,
- Maskenhalter,
- Handler Schnittstelle,
- Verschluss und Verschluss Kammer,
- Hubstift Mechanismus,
- Substrat Indexer,
- Kammer Deckel,
- Vakuum System,
- Gasversorgungs Gehäuse,
- Pneumatisches System,
- Kühlsystem,
- Elektrische Installation,
- 3D Thermische Modellierung der Prozesskammer Komponenten bezüglich mechanischen und thermischen Auswirkungen,
- FEM Modellierung der Prozesskammer Komponenten bezüglich mechanischen und thermischen Auswirkungen,
- Test der Anlagen Funktionen gemäß AIXTRON Test Spezifikationen,
- Dokumentation des Moduls gemäß AIXTRON Qualitäts Spezifikationen.

Deadline

Die Frist für den Eingang der Angebote war 2013-06-24. Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2013-04-26.

Anbieter

Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:

Wer? Wie?
Geschichte der Beschaffung
Datum Dokument
2013-04-26 Auftragsbekanntmachung
2013-09-03 Bekanntmachung über vergebene Aufträge
Auftragsbekanntmachung (2013-04-26)
Objekt
Umfang der Beschaffung
Titel: Maschinen, Apparate und Geräte mit eigener Funktion
Menge oder Umfang: 1 Stück OVPD-Prozessmodul.
Metadaten der Bekanntmachung
Originalsprache: Deutsch 🗣️
Dokumenttyp: Auftragsbekanntmachung
Art des Auftrags: Lieferungen
Verordnung: Europäische Union, mit GPA-Beteiligung
Gemeinsames Vokabular für öffentliche Aufträge (CPV)
Code: Maschinen, Apparate und Geräte mit eigener Funktion 📦

Verfahren
Verfahrensart: Offenes Verfahren
Angebotsart: Angebot für alle Lose
Vergabekriterien
Wirtschaftlichstes Angebot

Öffentlicher Auftraggeber
Identität
Land: Deutschland 🇩🇪
Art des öffentlichen Auftraggebers: Sonstiges
Name des öffentlichen Auftraggebers: Aixtron SE
Postanschrift: Kaiserstr. 98
Postleitzahl: 52134
Postort: Herzogenrath
Kontakt
Internetadresse: http://www.aixtron.com 🌏
E-Mail: h.wenk@aixtron.com 📧
Telefon: +49 2418909506 📞
Fax: +49 2418909577 📠

Referenz
Daten
Absendedatum: 2013-04-26 📅
Einreichungsfrist: 2013-06-24 📅
Veröffentlichungsdatum: 2013-04-27 📅
Kennungen
Bekanntmachungsnummer: 2013/S 083-139949
ABl. S-Ausgabe: 83
Zusätzliche Informationen
Projekt: COPT.NRW, Protect Förderkennzeichen: 005-1105-0026 Projektnummer: PtJ-Az.: z1105oe002b

Objekt
Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung:
Herstellen eines OVPD (Organic Vapor Phase Deposition, Organische Dampfphasenabscheidung) Moduls:
1. OVPD (Organic Vapor Phase Deposition, Organische Dampfphasenabscheidung)
Revolutionäre Depositionstechnologie für die Abscheidung organischer Halbleitermaterialien.
Basierend auf mehr als 20 Jahre Erfahrung mit Gasphasendepositionstechnologien hat AIXTRON eine Technologie zur Abscheidung von organischen Materialien mit höchster Produktivität bei geringen Betriebskosten entwickelt. Mit unseren führenden Technologien zur Materialbeschichtung forcieren wir die strategischen Anwendungsmärkte organische Halbleiter. Für unsere Kunden bedeutet dies eine umfangreiche Auswahl an Technologien zur Herstellung verschiedenster Bauelementtypen.
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AIXTRON bietet eine revolutionäre Depositionstechnologie für die Abscheidung organischer Halbleitermaterialien zu Herstellung von organischen Leuchtdioden (engl. Organic Light Emitting Diode - OLED) und flexibler Elektronik für die Anwendung in Flachbildschirmen und Beleuchtung sowie für weitere Halbleiterapplikationen an. OVPD ist eine innovative Technologie für die Dünnschichtabscheidung von sogenannten organischen „kleinen Molekülen“ (Small Molecules) auf dem Prinzip des Gasphasentransports.
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In dem von Professor Stephen R. Forrest, Princeton University, USA entwickelten und patentierten Verfahren verdampfen die organischen Materialien im Feinvakuum und mittels eines inerten Trägergases zum Substrat transportiert, wo sie abgeschieden werden. Diese Technologie hat gegenüber konventionellen Technologien (Aufdampfen im Hochvakuum; engl.: Vacuum Thermal Evaporation - VTE) wesentliche Vorteile in Bezug auf Prozesskontrolle, Reproduzierbarkeit und Betriebskosten.
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Die amerikanische Firma Universal Display Corp. (UDC) besitzt die Nutzungsrechte an den OVPD-Patenten und hat diese 1999 exklusiv an AIXTRON zur Entwicklung, Herstellung und zum Vertrieb von OVPD-Anlagen lizenziert.
Mit Unterstützung von UDC hat AIXTRON OVPD-Produktionsanlagen mit Fokus auf die Anforderungen für OLED-Technologien entwickelt. Hierzu hat AIXTRON OVPD mit der geschützten Close Coupled Showerhead (CCS)-Technologie kombiniert, die bereits in anderen AIXTRON Depositionsanlagen (MOCVD) erfolgreich zur Serienfertigung von Halbleiterbauelementen verwendet wird.
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2. Umfang des Auftrags
Umfang des Auftragsist ein Prozessmodul zur Abscheidung von organischen Materialien mit der OVPD Methode. Das Prozessmodul beinhaltet diese funktionalen Komponenten:
- Depositionskammer,
- Beheizter Liner,
- Substrathalter,
- Maskenhalter,
- Handler Schnittstelle,
- Verschluss und Verschluss Kammer,
- Hubstift Mechanismus,
- Substrat Indexer,
- Kammer Deckel,
- Vakuum System,
- Gasversorgungs Gehäuse,
- Pneumatisches System,
- Kühlsystem,
- Elektrische Installation,
- 3D Thermische Modellierung der Prozesskammer Komponenten bezüglich mechanischen und thermischen Auswirkungen,
- FEM Modellierung der Prozesskammer Komponenten bezüglich mechanischen und thermischen Auswirkungen,
- Test der Anlagen Funktionen gemäß AIXTRON Test Spezifikationen,
- Dokumentation des Moduls gemäß AIXTRON Qualitäts Spezifikationen.
Bezeichnung des von der EU finanzierten Projekts oder Programms:
Zuwendung im Rahmen des Ziel 2 Programm 2007-2013 (EFRE), auf Grundlage der Förderrichtlinie Forschung, Innovation und Technologie des Landes NRW (FIT).
Ort der Leistung
Hauptstandort oder Erfüllungsort: Herzogenrath.

Rechtliche, wirtschaftliche, finanzielle und technische Informationen
Bedingungen für die Teilnahme
Befähigung zur Berufsausübung:
Eignungskriterien des Zulieferers:
Die Anlage von diesem Auftrag wird dazu verwendet werden, um auf dem neuesten Stand Halbleiter-und optoelektronische Strukturen zu entwickeln.
Der Zulieferer muß hinreichende Nachweise vorlegen, das er den Auftrag erfüllen kann. Der Zulieferer muß diese Nachweise vorlegen bevor dem Zulieferer weitere Dokumentation zu dem Auftrag zur Verfügung gestellt werden kann.
Der Zulieferer muß vorlegen:
- Dokumentation über seinen Gesamtumsatz über die letzten 3 Jahre.
- Dokumentation über seinen Umsatz bezüglich Vakuumkammern für die Halbleiterindustrie über die letzten 3 Jahre.
- Dokumentation über seine Kreditwürdigkeit nicht älter als 3 Monate.
- Ein offizielles Dokument über die Registrierung des Zulieferers bei der zuständigen Regierungsbehörde nicht älter als 3 Monate.
Technische und berufliche Fähigkeiten:
Der Zulieferer muß hinreichende Nachweise vorlegen, das er den Auftrag erfüllen kann. Der Zulieferer muß diese Nachweise vorlegen bevor dem Zulieferer weitere Dokumentation zu dem Auftrag zur Verfügung gestellt werden kann.
Der Zulieferer muß vorlegen:
- Dokumentation, das der Zulieferer > 10 Referenzaufträge von Vakuumkammern von mindestens vergleichbarem Umfang durchgeführt hat. Dokumentation über Lieferzeit dieser Aufträge.
- Dokumentation, das der Zulieferer Projekte mit zertifizierten Projektmanagern durchführt.
- Dokumentation, das der Zulieferer das notwendige qualifizierte Personal hat, um den Auftrag durchzuführen.
- Dokumentation, das der Zulieferer die notwendigen Maschinen hat, um den Auftrag durchzuführen.
- Nachweis, das der Zulieferer Reinraum Einrichtungen zur Herstellung von Halbleiter Anlagen hat.
- Nachweis, das der Zulieferer ISO 9001 zertifiziert ist.
- Abschluss eines Geheimhaltungsabkommen mit AIXTRON
Der Zulieferer muß folgende Erfahrungen haben:
- Bau von Halbleiter Vakuum Anlagen > 3 Jahre Erfahrung
- Erfahrung mit Design gemäß Halbleiter Standards SEMI S2, SEMI S8, SEMI S14
- Erfahrung mit Konzept und Design von Gasflussanalyse innerhalb von Prozessanlagen
- Erfahrung mit Design Verifikation mit FMEA Methoden inklusive umfangreiche FMEA Dokumentation.
- Erfahrung mit Herstellung von Vakuumkammern für die Halbleiter Industrie.
- Erfahrung mit Test, Installation, Inbetriebnahme, Instandhaltung von Halbleiter Anlagen
- Erfahrung und Vorrichtungen bezüglich integralen He- Leck Tests
- Erfahrung und Vorrichtungen bezüglich Anwendungen von Bewegungsregelung
- Erfahrung und Vorrichtungen bezüglich elektrischen Installationen von Halbleiter Anlagen
- Erfahrung und Fähigkeit, um CE, UL und EMC Zertifizierungen durchzuführen
- Erfahrung und Fähigkeit, um 3D Thermische Modellierung der Prozesskammer Komponenten bezüglich mechanischen und thermischen Auswirkungen durchzuführen
- Erfahrung und Fähigkeit, um FEM Modellierung der Prozesskammer Komponenten bezüglich mechanischen und thermischen Auswirkungen durchzuführen

Verfahren
Gültigkeitsdauer des Angebots: 6 Monate
Datum der Angebotseröffnung: 2013-06-25 📅
Vergabekriterien
Kriterium: 1. Preis des OVPD Moduls (50)
2. Lieferzeit des OVPD Moduls (30)
3. Durchschnittszeit für die Reparatur (MTTR - Mean Time To Repair) des OVPD Moduls (20)
Sprachen
Sprache: Deutsch 🗣️
Englisch 🗣️

Öffentlicher Auftraggeber
Identität
Andere Art des öffentlichen Auftraggebers: Other
Kontakt
Kontaktperson: Purchase Prototype
Hans-Jürgen Wenk

Referenz
Zusätzliche Informationen
Projekt: COPT.NRW, Protect
Förderkennzeichen: 005-1105-0026
Projektnummer: PtJ-Az.: z1105oe002b

Ergänzende Informationen
Körper überprüfen
Name: Vergabekammer bei der Bezirksregierung Köln
Postanschrift: Blumenthalstr. 33
Postort: Köln
Postleitzahl: 50670
Land: Deutschland 🇩🇪
E-Mail: roland.gloeckner@bezreg-koeln.nrw.de 📧
Telefon: +49 2217740439 📞
Fax: +49 2217740197 📠
Quelle: OJS 2013/S 083-139949 (2013-04-26)
Bekanntmachung über vergebene Aufträge (2013-09-03)
Objekt
Umfang der Beschaffung
Gesamtwert des Auftrags: 271 483 💰
Metadaten der Bekanntmachung
Dokumenttyp: Bekanntmachung über vergebene Aufträge

Verfahren
Angebotsart: Entfällt

Referenz
Daten
Absendedatum: 2013-09-03 📅
Veröffentlichungsdatum: 2013-09-04 📅
Kennungen
Bekanntmachungsnummer: 2013/S 171-295947
Verweist auf Bekanntmachung: 2013/S 83-139949
ABl. S-Ausgabe: 171

Objekt
Ort der Leistung
Hauptstandort oder Erfüllungsort: Herzogenrath

Auftragsvergabe
Datum des Vertragsabschlusses: 2013-08-01 📅
Name: VDL ETG Research bv
Postanschrift: High Tech Campus 7
Postort: Eindhoven
Postleitzahl: 5656 AE
Land: Niederlande 🇳🇱
Informationen über Ausschreibungen
Anzahl der eingegangenen Angebote: 1
Quelle: OJS 2013/S 171-295947 (2013-09-03)