Fertigung eines Polymer Vapor Phase Deposition (PVPD) - Moduls
Herstellen eines PVPD (Polymer Vapor Phase Deposition, Polymer Dampfphasenabscheidung) Moduls
1. PVPD (Polymer Vapor Phase Deposition, Polymer Dampfphasenabscheidung)
Revolutionäre Depositionstechnologie für die Abscheidung von polymerbasierten Dünnschichten
Basierend auf mehr als 20 Jahre Erfahrung mit Gasphasendepositionstechnologien hat AIXTRON eine Technologie zur Abscheidung von organischen Materialien mit höchster Produktivität bei geringen Betriebskosten entwickelt. Mit unseren führenden Technologien zur Materialbeschichtung forcieren wir die strategischen Anwendungsmärkte organische Halbleiter. Für unsere Kunden bedeutet dies eine umfangreiche Auswahl an Technologien zur Herstellung verschiedenster Bauelementtypen.
AIXTRON bietet mit der PVPD-Technologie einen innovativen Ansatz zur kontrollierten Abscheidung von polymerbasierten Dünnschichten aus der Gasphase. Die Technologie ermöglicht die Abscheidung funktioneller Dünnschichtstrukturen und ist in der Lage, verschiedene Polymerisationsprozesse in diesem skalierbaren Verfahren umzusetzen. Während konventionelle Polymerisationsverfahren auf lösungsmittelbasierten Technologien beruhen, setzt die PVPD-Technologie auf dem Prinzip der trägergasgestützten Gasphasendeposition auf.
Die Ausgangsmaterialien, in der Regel Monomere, werden dabei in speziell optimierten Quellensystemen verdampft und durch ein inertes Trägergas dem Depositionsprozess zugeführt. Durch den Einsatz von AIXTRONs patentierter Close Coupled Showerhead (CCS)-Technologie ist das Verfahren auf beliebige Substratgrößen skalierbar und kann sowohl in batchbasierten Prozessen wie auch in kontinuierlichen Inline- oder Rolle-zu-Rolle-Prozessen zur Anwendung kommen. Die präzise Kontrolle der zugeführten Materialmengen erlaubt die Abscheidung komplexer Verbindungen z.B. durch kontrollierte Ko-Polymerisation.
Durch den flexiblen, modularen Aufbau können Anlagen für verschiedene Polymerisationsprozesse optimiert werden und somit einen breiten Anwendungsbereich bedienen. Das Verfahren bietet präzise Schichtdicken-Kontrolle und exzellente Homogenität der abgeschiedenen Filme.
Aufgrund des lösungsmittelfreien Verfahrens entfallen Trocknungsschritte und die Schichten können konturkonform abgeschieden werden. Die moderaten Prozesstemperaturen ermöglichen die Abscheidung auf nahezu jedem, auch organischem Substratmaterial.
Typische Anwendungen sind z.B. funktionelle Polymerschichten zur Oberflächenfunktionalisierung (z.B. hydrophobe oder oleophobe Schichten), zur Abscheidung funktioneller Schichten im Bereich organischer Elektronik, Barriereschichten u.v.m.
2. Umfang des Auftrags
Umfang des Auftragsist ein Prozessmodul zur Abscheidung von organischen Materialien mit der Methode. Das Prozessmodul beinhaltet diese funktionalen Komponenten:
- Depositionskammer;
- Beheizter Liner;
- Substrathalter;
- Maskenhalter;
- Handler Schnittstelle;
- Verschluss und Verschluss Kammer;
- Hubstift Mechanismus;
- Substrat Indexer;
- Kammer Deckel;
- Vakuum System;
- Gasversorgungs Gehäuse;
- Pneumatisches System;
- Kühlsystem;
- Elektrische Installation;
- 3D Thermische Modellierung der Prozesskammer Komponenten bezüglich mechanischen und thermischen Auswirkungen;
- FEM Modellierung der Prozesskammer Komponenten bezüglich mechanischen und thermischen Auswirkungen;
- Test der Anlagen Funktionen gemäß AIXTRON Test Spezifikationen;
- Dokumentation des Moduls gemäß AIXTRON Qualitäts Spezifikationen.
Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2013-06-24.
Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2013-04-26.
Anbieter
Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:
Wer?
Wie?
Geschichte der Beschaffung
| Datum |
Dokument |
| 2013-04-26
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Auftragsbekanntmachung
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| 2013-09-03
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Bekanntmachung über vergebene Aufträge
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