Hochvakuum-Beschichtungsanlage
Ausgeschrieben wird eine Hochvakuum-Beschichtungsanlage für die Ionen-unterstützte reaktive Elektronenstrahlaufdampfung oxidischer dielektrischer Vielschichtsysteme (IAD-Verfahren für SiO2, TiO2, Ta2O5). Die Anlage soll als Kammeranlage mit Fronttür („Box-Coater”) für den Wandeinbau im Reinraumbereich ausgebildet sein (Bedienfront im Weißraum, Aggregate im Grauraum). Die Anlage soll getrennte Elektronenstrahlverdampfer für hoch- und niedrigbrechendes Material und eine filamentlose Ionenquelle für eine oxidierende Ionenunterstützung enthalten. Die Anlage soll Prozessrechner-gestützt eine Verlinkung aller wesentlichen Komponenten enthalten, so dass auf Basis einer Rezepturverwaltung eine automatische Steuerung und Datenerfassung während der Beschichtungsprozesse möglich ist.
Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2014-01-08.
Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2013-11-28.
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Geschichte der Beschaffung
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Dokument |
| 2013-11-28
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Auftragsbekanntmachung
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