Magnetron-Sputteranlage

Universität Leipzig

Gefordert ist eine vielseitige FuE-Magnetron-Sputteranlage zur Herstellung von Dünnschichten (oxidische Isolatoren, Halbleiter, Leiter; Metalle) auf Substraten mit einem maximalen Durchmesser von 4 Zoll. Die Anlage ist mit einem kühlbaren und beheizbaren Substrathalter, programmiert rotierbar bis 40 U/min, mit der Möglichkeit eine zusätzliche RF/DC Spannung anzulegen, ausgestattet. Die Vielzahl herzustellender Materialien wird erreicht durch 8 Sputterquellen in konfokaler Bauweise, die ohne Vakuumunterbrechung geschwenkt werden können. 3 DC-, 1 gepulste DC, sowie 3 RF-Generatoren ermöglichen alle gängigen Verfahrensweisen der Sputter-Dünnfilmabscheidung, inkl. Co-Sputtern.

Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2013-03-20. Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2013-02-01.

Anbieter
Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:

• • Mantis Deposition GmbH

Wer?

• • Universität Leipzig

Wie?

• • Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)