Optischer Kontrollplatz für Defektdichte-Review
Optischer Kontrollplatz für Defektdichte-Review
Benötigt wird eine Anlage zum Mikroskopieren und Klassifizieren von Defekten auf Wafern im Reinraum. Das System wird für MEMS Wafer im CMOS front- und backend- Bereich in einem Reinraum mit der Reinraumklasse 10 betrieben.
Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2013-07-26.
Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2013-06-11.
Wer?
Wie?
Wo?
Geschichte der Beschaffung
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Dokument |
| 2013-06-11
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Auftragsbekanntmachung
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| 2013-08-08
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Ergänzende Angaben
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