Pulsed Laser Deposition (PLD) Anlage
Um das Portfolio der im Rahmen der Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF) verfügbaren Präparationsmethoden zu erweitern, soll eine Laserablationsanlagen zur Herstellung von dünnen Schichten (PLD) beschafft werden.
Der Anwendungsschwerpunkt der PLD liegt auf der Abscheidung epitaktischer, hoch-kristalliner Schichten von Metallen und binären, ternären und höheren Oxiden auf vergleichsweise kleine Einkristallsubstrate.
Die für die KNMF geplante PLD-Anlage soll mittels einer Laser-Substratheizung einen sehr großen Prozesstemperaturbereich (bis 1200°C) abdecken und in Verbindung mit fünf sequenziell nutzbaren Targetpositionen das Wachstum aller gängigen Metall- und Oxidschichtsysteme ermöglichen.
Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2013-06-07.
Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2013-05-08.
Wer?
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Wo?
Geschichte der Beschaffung
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Dokument |
| 2013-05-08
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Auftragsbekanntmachung
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