Pulsed Laser Depositon (PLD) Anlage

Fraunhofer Gesellschaft e.V.

Für Forschungs- und Entwicklungsarbeiten zur Synthese von funktionellen dünnen Schichten bis 2 µm, speziell auch fernab vom thermodynamischen Gleichgewicht, wird eine flexible Laserpulsbedampfungs (Pulsed Laser Deposition, PLD) - Anlage für physikalische Abscheideprozesse mittels vollständig ionisierter Beschichtungsplasmen bei hochenergetischer Anregung benötigt.
Die Anlage besteht aus folgenden Komponenten:
— PLD-Kammer, wassergekühlt
— Pumpensystem
— Substrathalter, Substratgröße bis 1“, heizbar bis 1000 °C
— Targetmanipulator für 4 x 2“ Targets
— Edelstahlrahmen
— Integriertes Lasersystem und Strahlgang
— Integriertes Gaskabinett (Lasergas, He)
— Steuereinheit mit PC und Prozesssoftware
— Kühleinheit

Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2013-05-21. Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2013-04-04.

Wer?

Wie?

Geschichte der Beschaffung
Datum Dokument
2013-04-04 Auftragsbekanntmachung
2013-06-28 Ergänzende Angaben
2013-07-16 Ergänzende Angaben