Pulsed Laser Depositon (PLD) Anlage
Für Forschungs- und Entwicklungsarbeiten zur Synthese von funktionellen dünnen Schichten bis 2 µm, speziell auch fernab vom thermodynamischen Gleichgewicht, wird eine flexible Laserpulsbedampfungs (Pulsed Laser Deposition, PLD) - Anlage für physikalische Abscheideprozesse mittels vollständig ionisierter Beschichtungsplasmen bei hochenergetischer Anregung benötigt.
Die Anlage besteht aus folgenden Komponenten:
— PLD-Kammer, wassergekühlt
— Pumpensystem
— Substrathalter, Substratgröße bis 1“, heizbar bis 1000 °C
— Targetmanipulator für 4 x 2“ Targets
— Edelstahlrahmen
— Integriertes Lasersystem und Strahlgang
— Integriertes Gaskabinett (Lasergas, He)
— Steuereinheit mit PC und Prozesssoftware
— Kühleinheit
Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2013-05-21.
Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2013-04-04.
Wer?
Wie?
Geschichte der Beschaffung
Datum |
Dokument |
2013-04-04
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Auftragsbekanntmachung
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2013-06-28
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Ergänzende Angaben
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2013-07-16
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Ergänzende Angaben
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