„Semi-automatisches Oberseiten-Nano Imprint Lithography System“ AZ 025021/13

Technische Universität Dresden

Im Rahmen des Offenen Verfahrens soll ein halbautomatisches Oberseiten Nano Imprint Lithographie System beschafft werden, welches für die gemeinsam vom Biotec , B CUBE und CRTD betriebene Technologieplattform zur Mikrostrukturierung im Reinraum genutzt werden soll. Das zu beschaffende Gerät besteht aus einem Photolithographie und Bond Alignment-System und einem Werkzeug für UV-Nanoimprinting und Micro Contact Printing mit weichen Stempeln. Das Gerät muss Wafer mit einem Durchmesser von 1” bis 6” bearbeiten können und muss dabei eine Justiergenauigkeit von weniger als 1 µm aufweisen. Es muss Stempel für UV-NIL und µ-CP (Micro Contact Printing) Prozesse herstellen können. Die Auflösung für Soft UV-NIL muss bis zu 20 nm mit einer Justiergenauigkeit von bis zu 1 µm betragen. Beide Verfahren müssen unter Vakuum und in einer Gasumgebung möglich sein. Die vorhandenen Werkzeuge müssen sowohl für das weiche UV-NIL als auch Micro Contact Printing (µ-CP) für Wafergrössen bis 6” einsetzbar sein. Der Stempel-Masken-Halter muss flexibel für verschiedene Maskengrößen verwendbar sein (quadratische Masken mit Seitenlänge von bis zu 5” (für Folienmasken) als auch runde Stempel mit einem Durchmesser von 1” bis 5”).

Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2013-10-14. Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2013-08-29.

Anbieter
Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:

• • EV Group E.Thallner GmbH

Wer?

• • Technische Universität Dresden

Wie?

• • Erkennungs- und Analysegeräte › Spektrometer

Wo?

• • Dresden › Dresden, Kreisfreie Stadt