Vakuum CVD Anlage

Fraunhofer Gesellschaft e.V.

Zur Bearbeitung von verschiedenen Entwicklungsprojekten soll eine Vakuum CVD zur Abscheidung von Silizium bzw. Silizium-Oxidschichten beschafft werden. Die Schichtabscheidung sollte einerseits mit einer Plasmaanregung (Plasma CVD) and andererseits über das geheizte Substrat (thermische CVD) erfolgen. Ein Anlagenkonzept als sogenannte Batchanlage (ohne Substrateinschleusung) ist ausreichend. Die minimalen Substratabmessungen betragen 200 mm x 300 mm bei einer maximalen Substratdicke bis 10 mm. Die Homogenitätsabweichungen der Schichtabscheidung sollten maximal 4 % der mittleren Schichtdicke betragen (für Plasma und thermische CVD). Folgende Hauptanlagenkomponenten sollten Bestandteil der Ausschreibung sein:
— Prozesskammer mit Substrat Träger,
— Plasmaquelle bzw. Substratheizung,
— Vakuumsystem,
— Gasversorgung,
— Anlagensteuerung.

Deadline

Die Frist für den Eingang der Angebote war 2013-05-02. Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2013-03-19.

Wer? Wie? Wo?
Geschichte der Beschaffung
Datum Dokument
2013-03-19 Auftragsbekanntmachung
Auftragsbekanntmachung (2013-03-19)
Objekt
Umfang der Beschaffung
Titel: Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke
Menge oder Umfang: 1 Stück.
Metadaten der Bekanntmachung
Originalsprache: Deutsch 🗣️
Dokumenttyp: Auftragsbekanntmachung
Art des Auftrags: Lieferungen
Verordnung: Europäische Union, mit GPA-Beteiligung
Gemeinsames Vokabular für öffentliche Aufträge (CPV)
Code: Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke 📦

Verfahren
Verfahrensart: Offenes Verfahren
Angebotsart: Angebot für alle Lose
Vergabekriterien
Wirtschaftlichstes Angebot

Öffentlicher Auftraggeber
Identität
Land: Deutschland 🇩🇪
Art des öffentlichen Auftraggebers: Sonstiges
Name des öffentlichen Auftraggebers: Fraunhofer Gesellschaft e.V.
Postanschrift: Hansastraße 27c
Postleitzahl: 80686
Postort: München

Referenz
Daten
Absendedatum: 2013-03-19 📅
Einreichungsfrist: 2013-05-02 📅
Veröffentlichungsdatum: 2013-03-22 📅
Kennungen
Bekanntmachungsnummer: 2013/S 058-095638
ABl. S-Ausgabe: 58
Zusätzliche Informationen
Bewerber unterliegen mit der Angebotsabgabe auch den Bestimmungen über nichtberücksichtigte Angebote (VOL/A §22 EG). Die Nutzung der Plattform www.deutsche-evergabe.de ist kostenpflichtig.

Objekt
Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung:
Zur Bearbeitung von verschiedenen Entwicklungsprojekten soll eine Vakuum CVD zur Abscheidung von Silizium bzw. Silizium-Oxidschichten beschafft werden. Die Schichtabscheidung sollte einerseits mit einer Plasmaanregung (Plasma CVD) and andererseits über das geheizte Substrat (thermische CVD) erfolgen. Ein Anlagenkonzept als sogenannte Batchanlage (ohne Substrateinschleusung) ist ausreichend. Die minimalen Substratabmessungen betragen 200 mm x 300 mm bei einer maximalen Substratdicke bis 10 mm. Die Homogenitätsabweichungen der Schichtabscheidung sollten maximal 4 % der mittleren Schichtdicke betragen (für Plasma und thermische CVD). Folgende Hauptanlagenkomponenten sollten Bestandteil der Ausschreibung sein:
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— Prozesskammer mit Substrat Träger,
— Plasmaquelle bzw. Substratheizung,
— Vakuumsystem,
— Gasversorgung,
— Anlagensteuerung.
Es werden Varianten akzeptiert
Dauer: 6 Monate
Referenznummer: BM: 062/247834/cl-ScD
Ort der Leistung
Hauptstandort oder Erfüllungsort: Dresden.

Rechtliche, wirtschaftliche, finanzielle und technische Informationen
Bedingungen für die Teilnahme
Befähigung zur Berufsausübung: — Firmenprofil.
Wirtschaftliche und finanzielle Leistungsfähigkeit:
— Umsatz der letzten drei Geschäftsjahre,
— Eigenerklärung über das ordnungsgemäße. Abführen von Steuern und Abgaben sowie der Beiträge zur gesetzlichen Sozialversicherung,
— Eigenerklärung, dass weder ein Insolvenzverfahren in Eröffnung ist, eröffnet wurde oder mangels Masse abgelehnt wurde noch das sich das Unternehmen in Liquidation befindet,
— Eigenerklärung, dass nachweislich keine schweren Verfehlungen begangen wurden, die die Zuverlässigkeit als Bewerber in Frage stellen.
Technische und berufliche Fähigkeiten:
- Komplette Referenzen von mindestens 3 vergleichbaren Projekten, nicht älter als drei Jahre
Auftragsausführung
Wichtigste Finanzierungsbedingungen und Zahlungsmodalitäten und/oder Verweis auf die einschlägigen Bestimmungen, die sie regeln: Siehe Verdingungsunterlagen.
Rechtsform der Gruppe von Wirtschaftsteilnehmern, an die der Auftrag vergeben werden soll:
Falls zutreffend für Bietergemeinschaften: Gesamtschuldnerisch haftend mit bevollmächtigten Vertreter.
Sonstige besondere Bedingungen:
Die unter III.2 geforderten Unterlagen müssen spätestens bis zum unter IV.3.4 genannten Termin vollständig vorgelegt werden. Unvollständige Unterlagen können zum Ausschluss führen.

Verfahren
Gültigkeitsdauer des Angebots: 2013-06-21 📅
Datum der Angebotseröffnung: 2013-05-03 📅
Sprachen
Sprache: Deutsch 🗣️

Öffentlicher Auftraggeber
Identität
Andere Art des öffentlichen Auftraggebers: Other
Kontakt
Name: Fraunhofer Gesellschaft über Vergabeportal Deutsche eVergabe
Postanschrift: Wilhelmstr. 20-22
Postort: Wiesbaden
Postleitzahl: 65185
URL für weitere Informationen: http://www.deutsche-evergabe.de/ 🌏
URL der Dokumente: http://www.deutsche-evergabe.de/ 🌏
URL der Teilnahme: http://www.deutsche-evergabe.de/ 🌏

Referenz
Kennungen
Vom öffentlichen Auftraggeber vergebene Referenznummer: BM: 062/247834/cl-ScD

Ergänzende Informationen
Körper überprüfen
Name: Vergabekammern des Bundes
Postanschrift: Villemomblerstraße 76
Postort: Bonn
Postleitzahl: 53123
Land: Deutschland 🇩🇪
Name: Vergabeprüfstelle des BMBF Referat Z 23
Informationen zu Fristen für Nachprüfungsverfahren:
Solange ein wirksamer Zuschlag (Vertragsschluss) noch nicht erteilt ist, kann als Rechtsbehelf ein Nachprüfungsantrag bei der unter VI.4.1 genannten Stelle gestellt werden. Bewerber/Bieter müssen Vergaberechtsverstöße unverzüglich bei der unter I.1 genannten Vergabestelle rügen, bevor sie einen Nachprüfantrag stellen. Wir weisen ausdrücklich auf die Antragsfrist des § 107 Abs.3 Satz 1 Nr. 4 Gesetz gegen Wettbewerbsbeschränkungen (GWB) hin. Bieter, deren Angebote nicht berücksichtigt werden sollen, werden vor dem Zuschlag dem. § 101 a GWB informiert.
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Für Mediationsverfahren zuständige Stelle
Postanschrift: Heinemannstraße 2
Postleitzahl: 53175
Quelle: OJS 2013/S 058-095638 (2013-03-19)