Zwei-Photonen-3D-Laser-Lithographiesystem
Ein Zwei-Photonen 3D-Laser-Lithographiesystem, das es erlaubt dreidimensionale Strukturen mit Sub-Mikrometerauflösung zu erzeugen. Damit soll es ermöglicht werden, Mikrooptik, Beugungsgitter, Lab-On-Chip mit Mikrofluidik, photonische Kristalle und Strukturen mit definierten mechanischen Eigenschaften herzustellen. Um makroskopische Systeme beschichten zu können, soll die strukturierbare Fläche mindestens 100x100mm² betragen. Die Strukturhöhe die in einem Arbeitsgang erzeugt werden kann,
sollte mindestens einen Millimeter erreichen ohne zusätzliche Ätzvorgänge oder Maskenwechsel zu benötigen. Als Strukturmaterialien sollen UV-aushärtbare Photolacke (z.B. SU-8) sowie solche mit hoher Festigkeit (z.B. Ormocere) zum Einsatz kommen.
Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2013-03-14.
Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2013-01-28.
Wer?
Wie?
Wo?
Geschichte der Beschaffung
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Dokument |
| 2013-01-28
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Auftragsbekanntmachung
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