Anschaffung einer Vakuumbeschichtungsanlage zu Forschungszwecken
Ausschreibungsinformationen:
Anschaffungsgegenstand: Lieferung einer Vakuumbeschichtungsanlage zu Forschungszwecken.
Mögliche Schlagworte: PVD-Beschichtungsanlage, Vakuumbeschichtungsanlage,
Vakuumbedampfungsanlage.
Einordnung:
1 Eigenständiges Gerät.
Zweck der Anschaffung:
Das Gerät soll für small scale batch Beschichtungen und Prozessentwicklungen eingesetzt werden. Dabei sollen Beschichtungen und Beschichtungsprozesse für die Erzeugung von katalytisch aktiven Kompositschichten für solare Energieerzeugung und für optische Anwendungen untersucht werden. Hier stehen vor allem Mehrschichtsysteme und deren prozesstechnische Erzeugung im Vordergrund. Für die beiden genannten Anwendungen sind sehr unterschiedliche Schichtqualitäten erforderlich, so sind für den optische Bereich sehr dichte Schichten notwendig, dagegen spielen für katalytisch aktive Oberflächen vor allem porösere Strukturen eine Rolle. Durch die Kombination von Elektronenstrahl- und thermischen Verdampfern mit verschiedenen Plasmaquellen sind vielfältige Herangehensweisen der Schichterzeugung möglich und notwendig, um dadurch die unterschiedlichen Schichteigenschaften realisieren zu können. Umfangreiche Parameterstudien in Kombination mit der am INP vorhandenen hochwertigen Oberflächenanalytik erlauben einen ganzheitlichen Ansatz, der den Zusammenhang zwischen Prozessbedingungen und der Oberflächencharakteristik aufzeigen soll. Dazu wird eine hochwertige und flexibel ausgestattete Vakuumbeschichtungsanlage benötigt.
Allgemeine Bemerkungen:
Sämtliche Vergabeunterlagen, die zur Erstellung eines aussagekräftigen Angebotes benötigt werden, liegen elektronisch frei, direkt und vollständig bei der Vergabestelle vor und werden nach Anfrage umgehend per E-Mail versandt.
Die eingehenden Angebote müssen am Submissionstag postalisch und im Original unterschrieben der Vergabestelle vorliegen.
Aufgrund der elektronischen Bekanntmachung sowie des Vorliegens der Unterlagen in elektronischer Form wird die Angebotsfrist auf 40 Tage reduziert (siehe Richtlinie zu 111 des VHB, dort Ziffer 5.4.2).
Nach schriftlicher Beauftragung im Falle des Zuschlags wird eine Anzahlung in Höhe von mindestens 40 % der Brutto-Gesamtauftragssumme gegen Vorlage einer Bankbürgschaft in 2014 geleistet.
Technische Spezifikationen:
Prozesskammer:
— Material: Edelstahl,
— Kammer: frei zugänglicher Innenraum: Durchmesser mindestens 85 cm, Höhe mindestens 90 cm,
— Tür mit Schauglas mit Shutter und UV- und Röntgenfilter,
— Zugang zur Kammer über mehrere Öffnungen in Seitenwänden, Oberseite und Boden, bevorzugt in Standard-Flanschmaßen (KF oder CF),
– 6 Flasche KF 40 am Boden,
– 4 Flansche CF 63 an der Tür,
– 4 Flansche KF 40 an der Oberseite,
– Seiten, ein größtmöglicher Flansch (bezogen auf Innenraummaße), vorzugsweise rechteckig (mindestens 30 cm breit, 45 cm hoch),
— Warm- und Kaltwasserkreisläufe zur Kühlung und Heizung der Kammer und deren Komponenten, sofern konstruktionsbedingt notwendig (z. B. Plasmaquelle, Elektronenstrahlverdampfer) (Temperaturbereich 20 °C-50 °C),
— Kammer innen mit Blechen aus Edelstahl verkleidet um Reinigungszyklen einfach zu gewährleisten Anlagensteuerung und elektrische Verdrahtung,
— Visualisierung und Prozesskontrolle,
— Integration aller pneumatischer und elektrischer Aktuatoren in Anlagensteuerung,
— Zugang zu allen Ebenen, die sowohl Hand- als auch Automatikbetrieb ermöglichen,
— Programmierung von Prozessabläufen,
— mehrere freie analoge und digitale Ein- und Ausgänge zur optionalen Anbindung an die Anlagensteuerung.
Gasregelung:
— Gasmengenregelung: mindestens 4 automatische Gasflussregler, Auslegung der Maximalflüsse 20-50 sccm, entsprechend der geforderten Druckverhältnisse und Arbeitsparameter der Plasmaquelle.
Probenhalterung und -Heizung:
— Drehbare Probenkalotte entsprechend der Kammergröße mit Infrarotheizer/Plattenheizer für die Probenheizung bis 300 °C; der Betrieb der Heizer muss während des Plasmabetriebs möglich sein,
— Positionsgeber für Probenkalotte für einen späteren Diagnostikbetrieb (z. B. optisches Monitoring), der definierte Kalottenposition voraussetzt.
Vakuumsystem:
— Vorpumpensystem,
— Hochvakuumerzeugung mittels Turbomolekularpumpe(n),
— Gewährleistung eines Vakuumdrucks von <1—10-5 mbar, Pumpzeit < 30 min,
— Arbeitsdruck ca. 1—10-4 …5—10-4 mbar,
— Gasartunabhängige Druckmessung des Arbeitsdrucks,
— Druckmessbereich Mindestanforderung: 1—10-7 bis 1 000 mbar.
Quellen:
— 2 Elektronenstrahlverdampfer (Leistungsangabe: jew. mind. 6kW) mit jew. 2 Einsätzen: (1) drehbarer Viernapftiegel; (2) Rotationstiegel
— 1 Thermischer Verdampfer,
— gitterlose Plasmaquelle zur Erzeugung eines expandierenden Plasmas mit einer Ionenstrahlkomponente mit Ionenenergien bis zu 180 eV; Ionenstromdichte in der Substratebene mindestens 0.2 mA cm-2 auf der gesamten Fläche der Substrathalterung; Betriebsgase: Argon, Krypton, Xenon; Gaseinlass für Reaktivgase nahe Quellvolumen,
— die Plasmaquelle soll sich auf einem Trägerflansch befinden, der einen vakuum- und elektrotechnischen Umbau und Anschluss anderer Quellen ermöglicht, Position: mittig am Boden der Kammer,
— Alle Quellen mit Shuttersystem.
Weitere Module:
— Schichtdickenmessgerät (Schwingquarz mit 6 Messeinheiten).
Sonstige Mindestanforderungen:
— Einfahren eines Standardprozesses,
— Schulung am Betriebsort.
Optionale Anforderungen (bitte als separate Position im Angebot mit aufführen); diese können mit Zusatzpunkten in die Bewertung mit aufgenommen werden – siehe Vergabekriterien:
— Anlagensteuerung bietet Zugang zu allen Konfigurationsebenen; ebenso Programmierung von Prozessabläufen und Regelalgorithmen mit zusätzlichen Input-Kanälen,
— Warmwassererzeuger für Warmwasserkreislauf,
— Substrathalterung: Planetary carrier (als Umbauvariante),
— Vakuumsystem: Meißnerfalle und Kryogenerator (Lärmpegel Kryogenerator < 73 dB)- – Größe der zu kühlenden Fläche: 0,6 m²,
— Kühlleistung von mindestens 1 500 W,
— Kühlmittel-Temperatur ≤ -115 °C bei 1 000 W Wärmeleistung,
— Erreichbarer theoretischer Enddruck von mindestens 1 x 10-7 mbar,
— Optischer Breitbandmonitor,
— Massenspektrometer,
— Wartungsvertrag für 12 Monate und 48 Monate.
Leistungen die neben der Lieferung durchzuführen sind:
1 Einweisung,
1 Installation.
Vergabekriterien:
1 Preis 40 %,
1 Technischer Wert 50 %,
1 Ausführungsfrist/Lieferfrist 10 %.
Vergabekriterien aufgeschlüsselt:
-folgend-
Vergabekriterium/Unterkriterium (lt. Leistungsbeschreibung) maximale Punktzahl Berechnung/Ermittlung.
Preis 40 = günstigstes Angebot/
aktuelles Angebot x Punktzahl.
Technischer Wert 50 Punktzahl aller Kriterien.
Prozesskammer:
— Material: Edelstahl.
2 volle Punktzahl, wenn erfüllt.
— Kammer: frei zugänglicher Innenraum: Durchmesser mindestens 85 cm, Höhe mindestens 90 cm 2 volle Punktzahl, wenn erfüllt,
— Tür mit Schauglas mit Shutter und UV- und Röntgenfilter 2 volle Punktzahl, wenn erfüllt,
— Zugang zur Kammer über mehrere Öffnungen in Seitenwänden, Oberseite und Boden, bevorzugt in Standard-Flanschmaßen (KF oder CF) 2 volle Punktzahl, wenn erfüllt,
— 6 Flansche KF 40 am Boden,
— 4 Flansche CF 63 am der Tür,
— 4 Flansche KF 40 an der Oberfläche,
— Seiten, ein größtmöglicher Flansch (bezogen auf Innenraummaße), vorzugsweise rechteckig (mindestens 30 cm breit, 45 cm hoch),
— Warm- und Kaltwasserkreisläufe zur Kühlung und Heizung der Kammer und deren Komponenten, sofern konstruktionsbedingt notwendig (z. B. Plasmaquelle, Elektronenstrahlverdampfer) (Temperaturbereich 20°C-50°C) 3 volle Punktzahl, wenn erfüllt,
— Kammer innen mit Blechen aus Edelstahl verkleidet um Reinigungszyklen einfach zu gewährleisten 1 volle Punktzahl, wenn erfüllt.
Anlagensteuerung und elektrische Verdrahtung:
— Visualisierung und Prozesskontrolle 2 volle Punktzahl, wenn erfüllt,
— Integration aller pneumatischer und elektrischer Aktuatoren in Anlagensteuerung 2 volle Punktzahl, wenn erfüllt,
— Zugang zu allen Ebenen, die sowohl Hand- als auch Automatikbetrieb ermöglichen 2 volle Punktzahl, wenn erfüllt,
— Programmierung von Prozessabläufen 1 volle Punktzahl, wenn erfüllt,
— mehrere freie analoge und digitale Ein- und Ausgänge zur optionalen Anbindung an die Anlagensteuerung 1 volle Punktzahl, wenn erfüllt.
Gasregelung:
— Gasmengenregelung: mindestens 4 automatische Gasflussregler, Auslegung der Maximalflüsse 20-50 sccm, entsprechend der geforderten Druckverhältnisse und Arbeitsparameter der Plasmaquelle 1 volle Punktzahl, wenn erfüllt.
Probenhalterung und -Heizung:
— Drehbare Probenkalotte entsprechend der Kammergröße mit Infrarotheizer/Plattenheizer für die Probenheizung bis 300 °C ; der Betrieb der Heizer muss während des Plasmabetriebs möglich sein 2 volle Punktzahl, wenn erfüllt.
— Positionsgeber für Probenkalotte für einen späteren Diagnostikbetrieb (z.B. optisches Monitoring), der definierte Kalottenposition voraussetzt 2 volle Punktzahl, wenn erfüllt.
Vakuumsystem:
— Vorpumpensystem 2 volle Punktzahl, wenn erfüllt,
— Hochvakuumerzeugung mittels Turbomolekularpumpe(n) 1 volle Punktzahl, wenn erfüllt,
— Gewährleistung eines Vakuumdrucks von <1—10-5 mbar, Pumpzeit < 30 min 1 volle Punktzahl, wenn erfüllt,
— Arbeitsdruck ca. 1—10-4 …5—10-4 mbar 2 volle Punktzahl, wenn erfüllt,
— Gasartunabhängige Druckmessung des Arbeitsdrucks 1 volle Punktzahl, wenn erfüllt,
— Druckmessbereich Mindestanforderung: 1—10-7 bis 1000 mbar 1 volle Punktzahl, wenn erfüllt.
Quellen:
— 2 Elektronenstrahlverdampfer (Leistungsangabe: jew. mind. 6 kW) mit jew. 2 Einsätzen: (1) drehbarer Viernapftiegel; (2) Rotationstiegel 3 volle Punktzahl, wenn erfüllt,
— 1 Thermischer Verdampfer 3 volle Punktzahl, wenn erfüllt,
— gitterlose Plasmaquelle zur Erzeugung eines expandierenden Plasmas mit einer Ionenstrahlkomponente mit Ionenenergien bis zu 180 eV; Ionenstromdichte in der Substratebene mindestens 0.2 mA cm-2 auf der gesamten Fläche der Substrathalterung ; Betriebsgase: Argon, Krypton, Xenon; Gaseinlass für Reaktivgase nahe Quellvolumen 3 volle Punktzahl, wenn erfüllt,
— die Plasmaquelle soll sich auf einem Trägerflansch befinden, der einen vakuum- und elektrotechnischen Umbau und Anschluss anderer Quellen ermöglicht, Position: mittig am Boden der Kammer 2 volle Punktzahl, wenn erfüllt,
— alle Quellen mit Shuttersystem 2 volle Punktzahl, wenn erfüllt.
Weitere Module:
— Schichtdickenmessgerät (Schwingquarz mit 6 Messeinheiten) 1 volle Punktzahl, wenn erfüllt.
Sonstige Mindestanforderungen:
— Einfahren eines Standardprozesses.
2 volle Punktzahl, wenn erfüllt.
— Schulung am Betriebsort.
1 volle Punktzahl, wenn erfüllt.
Ausführungsfrist/Lieferfrist 10 wenn Lieferfrist erreicht bzw. unterschritten wird.
Optionale Anforderungen (Zusatzpunkte) 33 Punktzahl aller Kriterien.
— Anlagensteuerung bietet Zugang zu allen Konfigurationsebenen; ebenso Programmierung von Prozessabläufen und Regelalgorithmen mit zusätzlichen Input-Kanälen 5 volle Punktzahl, wenn erfüllt,
— Warmwassererzeuger für Warmwasserkreislauf 5 volle Punktzahl, wenn erfüllt,
— Substrathalterung: Planetary carrier (als Umbauvariante) 5 volle Punktzahl, wenn erfüllt,
— Vakuumsystem: Meißnerfalle und Kryogenerator (Lärmpegel Kryogenerator < 73 dB) 10 volle Punktzahl, wenn erfüllt,
— Größe der zu kühlenden Fläche: 0,6 m²,
— Kühlleistung von mind. 1 500 W,
— Kühlmittel-Temperatur ≤ -115 °C bei 1 000 W Wärmeleistung,
— Erreichbarer theoretischer Enddruck von mindestens 1 x 10-7 mbar,
— Optischer Breitbandmonitor.
5 volle Punktzahl, wenn erfüllt.
— Massenspektrometer.
3 volle Punktzahl, wenn erfüllt.
— Wartungsvertrag für 12 Monate und 48 Monate ohne Wertung.
Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2014-11-28.
Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2014-10-14.
Wer?
Wie?
Geschichte der Beschaffung
| Datum |
Dokument |
| 2014-10-14
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Auftragsbekanntmachung
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