Elektronenstrahl-Aufdampfanlage
Benötigt wird eine flexibel einsetzbare Elektronenstrahl-Aufdampfanlage für Beschichtungen von Proben bis zu 4'' Größe mit Metallen wie zum Beispiel Platin Pt, einer Gold-Nickel-Germanium Legierung AuNiGe, Aluminium Al, Titan Ti, Gold Au, Kobalt Co, Paladium Pd, Chrom Cr, Niob Nb. Das Anwendungsfeld liegt in der Mikro- und Nanoprozessierung, vornehmlich mit Liftoff-Prozessen. Zur Probenreinigung muss eine Ionenquelle installiert werden. Darüber hinaus muss die Anlage die nachträgliche Installation von 2 Sputterquellen erlauben. Vakuumtechnik und Prozesse müssen vollautomatisiert sein, wobei Prozesse alternativ auch manuell kontrollierbar sein müssen. Die Anlage muss mit einem um zwei Achsen schwenkbaren Probenhalter ausgestattet sein, Höhenverstellung ist erwünscht.
Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2014-02-28.
Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2014-01-17.
Wer?
Wie?
Geschichte der Beschaffung
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Dokument |
| 2014-01-17
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Auftragsbekanntmachung
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