Lieferung und Inbetriebnahme eines Vertikalofens zur chemischen Dampfphasenabscheidung von Siliziumdioxidschichten bei Niederdruck (LPCVD-Verfahren). Die Abscheidung erfolgt mittels Tetraethylorthosilicat (TEOS). Ferner, fachgerechter Abbau und Katalogisierung eines vorhandenen Ofensystems
Ein Vertikalofensystem zur Deposition von Siliziumdioxidschichten soll geliefert und im Reinraum der AMO GmbH in Betrieb genommen werden, welcher auf chemischer Dampfphasenabscheidung bei Niederdruckatmosphäre basiert, kurz LPCVD-Verfahren (engl. Low Pressure Chemical Vapor Deposition). Die Schichten müssen in einem TEOS-Prozess (Tetraethylorthosilane) gewachsen werden. Ein Prozess zur Deposition von ca. 1µm dicken Siliziumdioxidschichten soll auf dem System implementiert sein. Die AMO definiert in der Leistungsbeschreibung die Spezifikationen für den Prozess und die deponierten Siliziumdioxidschichten. Darüber hinaus ist der fachgerechte Rückbau eines bestehenden Horizontalofen zu leisten. Die anfallenden Bauteile müssen katalogisiert und bei AMO eingelagert werden.
Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2014-09-15.
Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2014-07-29.
Anbieter
Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:
Wer?
Wie?
Geschichte der Beschaffung
| Datum |
Dokument |
| 2014-07-29
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Auftragsbekanntmachung
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| 2014-10-01
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Bekanntmachung über vergebene Aufträge
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