200mm Sputter-Cluster-Tool
Fraunhofer Gesellschaft e. V.
Beschaffung Sputter-Clusteranlage (IPMS-Budget-Titel: BEoL.PVD_.01)
Beschreibung:
Die Anlage(n) muss 5 bis 6 Prozesskammern für die Materialien Ti/TiN, (Al), AlSiCu (Gruppe 1) und AlSiTi, TiAl, Al2O3 (Gruppe 2) bieten. Die Anlage ist für den Einsatz in der Halbleiter-MEMS-Fertigung von 200 mm Si-Substraten in einem ISO 4 CMOS-Reinraum zur Herstellung von Leitbahnen, Diffusionsbarrieren und Oberflächen-MEMS-Strukturen vorgesehen.
— Aufbau
o 3 Konfigurationen können angeboten werden, in der Reihenfolge absteigender Präferenz:
a. ein Mainframe mit 6 Prozesskammern
b. zwei Mainframes für jede Material-Gruppe mit je 3 Prozesskammern
c. ein Mainframe mit 5 Prozesskammern ohne dedizierte Al-Kammer
o Jeder Mainframe muss folgende Merkmale aufweisen:
Robotersystem, dass den frei programmierbaren Transfer der Wafer von den Eingabestationen durch sämtliche Kammern in beliebiger Reihenfolge gewährleistet.
2 Eingabestationen für standard Kunststoff-Kassettten.
Eine Möglichkeit zum Ausheizen (min. 200°C) und Ar-Plasma Vorreinigung der Wafer.
Eine Möglichkeit zur Kühlung der Substrate zwischen den Prouess-Schritten bzw. vor dem Rücktransport in die Kassette.
o 3 Prozess-Kammern müssen auf mind. 200°C beheizbar sein.
o Zumindest die Ti/TiN-Kammer muss die Möglichkeit bieten mit Substrat-Bias abzuscheiden.
o Mindestens eine Kammer (vorzugsweise alle) muss die Möglichkeit zur Prozessdruckkontrolle über eine PID-gesteuerte Drosselklappe bieten.
o Bei allen Prozesskammern lässt sich der Target-Substrat-Abstand rezeptgesteuert variieren.
o Alle Kammern sind mit Shutter versehen, um das Target ohne Dummy-Wafer einsputtern zu können. Wenn nicht alle Kammern mit Shutter versehen werden können, muss es die Möglichkeit geben mindestens 5 Dummy-Wafer unabhängig von der Eingabestation am Mainframe bereitzustellen.
o Alle Prozesskammern sind mit Ar als Prozessgas versehen, eine Kammer zusätzlich mit Sauerstoff und Stickstoff, weitere 2 Kammern jeweils nur mit Sauerstoff bzw. Stickstoff.
— Eigenschaften
o Die Anlage ist nach dem aktuellen Stand der Technik aufgebaut und mit allen notwendigen Einrichtungen versehen, um qualitativ hochwertige, homogene Schichten (< 1 % 15mm Randausschluss) mit sehr niedriger Defektdichte zu erzeugen.
o Das abgeschiedene Al2O3 wird als optische Vergütung der MEMS Bauelemente verwendet und darf keine Absorption bei Bestrahlung mit Licht der Wellenlänge 190 nm aufweisen.
o Der Steuerungsrechner erlaubt ein komfortables Rezept-Management, die zeitaufgelöste Aufzeichnung aller relevanter Prozess-Daten, einen Remote-Zugriff über TCP/IP und verfügt über eine dokumentierte Kommunikationsschnittstelle zur Kontrolle über eine Fertigungssteuerungssoftware (MES).
o Die Anlage verfügt über alle notwendigen Sicherheitseinrichtungen und eine CE Zertifizierung.
— Sonstiges
Während der Angebotsphase innerhalb der Ausschreibung werden an ausgewählte Bewerber Wafer für Demo-Zwecke verschickt. Die maximalen Kosten für den Demo-Lauf übernimmt das Institut IPMS nur in Höhe bis 3.000 Euro gegen Nachweis.
Die Details für die Demos werden mit der ausführlichen Spezifikation bekannt gegeben.
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2015-04-15. Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2015-03-31.
AnbieterDie folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:
Wer? Wie? Wo?| Datum | Dokument |
|---|---|
| 2015-03-31 | Auftragsbekanntmachung |
| 2016-05-17 | Bekanntmachung über vergebene Aufträge |
Objekt
Umfang der Beschaffung
Titel: Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke
Menge oder Umfang:
“1 Stück.”
Metadaten der Bekanntmachung
Originalsprache: Deutsch 🗣️
Dokumenttyp: Auftragsbekanntmachung
Art des Auftrags: Lieferungen
Verordnung: Europäische Union, mit GPA-Beteiligung
Gemeinsames Vokabular für öffentliche Aufträge (CPV)
Code: Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke 📦
Verfahren
Verfahrensart: Beschleunigtes Verhandlungsverfahren
Angebotsart: Angebot für alle Lose
Vergabekriterien
Wirtschaftlichstes Angebot
Öffentlicher Auftraggeber
Identität
Land: Deutschland 🇩🇪
Art des öffentlichen Auftraggebers: Sonstiges
Name des öffentlichen Auftraggebers: Fraunhofer Gesellschaft e. V.
Postanschrift: Hansastr. 27 c
Postleitzahl: 80686
Postort: München
Kontakt
Internetadresse: http://www.fraunhofer.de 🌏
Referenz
Daten
Absendedatum: 2015-03-31 📅
Einreichungsfrist: 2015-04-15 📅
Veröffentlichungsdatum: 2015-04-04 📅
Kennungen
Bekanntmachungsnummer: 2015/S 067-118568
Verweist auf Bekanntmachung: 2014/S 207-366329
ABl. S-Ausgabe: 67
Zusätzliche Informationen
“Bewerber unterliegen mit der Angebotsabgabe auch den Bestimmungen über nichtberücksichtigte Angebot (§22 EG VOL) Die Nutzung der Plattform...”
Objekt
Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung:
“Beschaffung Sputter-Clusteranlage (IPMS-Budget-Titel: BEoL.PVD_.01)”
“Beschreibung:”
Mehr anzeigen (25)
“Die Anlage(n) muss 5 bis 6 Prozesskammern für die Materialien Ti/TiN, (Al), AlSiCu (Gruppe 1) und AlSiTi, TiAl, Al2O3 (Gruppe 2) bieten. Die Anlage ist für...”
“— Aufbau”
“o 3 Konfigurationen können angeboten werden, in der Reihenfolge absteigender Präferenz:”
“a. ein Mainframe mit 6 Prozesskammern”
“b. zwei Mainframes für jede Material-Gruppe mit je 3 Prozesskammern”
“c. ein Mainframe mit 5 Prozesskammern ohne dedizierte Al-Kammer”
“o Jeder Mainframe muss folgende Merkmale aufweisen:”
“Robotersystem, dass den frei programmierbaren Transfer der Wafer von den Eingabestationen durch sämtliche Kammern in beliebiger Reihenfolge gewährleistet.”
“2 Eingabestationen für standard Kunststoff-Kassettten.”
“Eine Möglichkeit zum Ausheizen (min. 200°C) und Ar-Plasma Vorreinigung der Wafer.”
“Eine Möglichkeit zur Kühlung der Substrate zwischen den Prouess-Schritten bzw. vor dem Rücktransport in die Kassette.”
“o 3 Prozess-Kammern müssen auf mind. 200°C beheizbar sein.”
“o Zumindest die Ti/TiN-Kammer muss die Möglichkeit bieten mit Substrat-Bias abzuscheiden.”
“o Mindestens eine Kammer (vorzugsweise alle) muss die Möglichkeit zur Prozessdruckkontrolle über eine PID-gesteuerte Drosselklappe bieten.”
“o Bei allen Prozesskammern lässt sich der Target-Substrat-Abstand rezeptgesteuert variieren.”
“o Alle Kammern sind mit Shutter versehen, um das Target ohne Dummy-Wafer einsputtern zu können. Wenn nicht alle Kammern mit Shutter versehen werden können,...”
“o Alle Prozesskammern sind mit Ar als Prozessgas versehen, eine Kammer zusätzlich mit Sauerstoff und Stickstoff, weitere 2 Kammern jeweils nur mit...”
“— Eigenschaften”
“o Die Anlage ist nach dem aktuellen Stand der Technik aufgebaut und mit allen notwendigen Einrichtungen versehen, um qualitativ hochwertige, homogene...”
“o Das abgeschiedene Al2O3 wird als optische Vergütung der MEMS Bauelemente verwendet und darf keine Absorption bei Bestrahlung mit Licht der Wellenlänge 190...”
“o Der Steuerungsrechner erlaubt ein komfortables Rezept-Management, die zeitaufgelöste Aufzeichnung aller relevanter Prozess-Daten, einen Remote-Zugriff...”
“o Die Anlage verfügt über alle notwendigen Sicherheitseinrichtungen und eine CE Zertifizierung.”
“— Sonstiges”
“Während der Angebotsphase innerhalb der Ausschreibung werden an ausgewählte Bewerber Wafer für Demo-Zwecke verschickt. Die maximalen Kosten für den...”
“Die Details für die Demos werden mit der ausführlichen Spezifikation bekannt gegeben.”
Dauer: 6 Monate
Referenznummer: BM: 048/239707/cl-bla
Ort der Leistung
Hauptstandort oder Erfüllungsort:
“Dresden.”
Rechtliche, wirtschaftliche, finanzielle und technische Informationen
Bedingungen für die Teilnahme
Befähigung zur Berufsausübung:
“Firmenprofil.”
Wirtschaftliche und finanzielle Leistungsfähigkeit:
“- Angaben zum Umsatz der letzten 3 Geschäftsjahre”
“- Eigenerklärung über das ordnungsgemäße. Abführen von Steuern und Abgaben sowie der Beiträge zur gesetzlichen Sozialversicherung”
Mehr anzeigen (2)
“- Eigenerklärung, dass weder ein Insolvenzverfahren in Eröffnung ist, eröffnet wurde oder mangels Masse abgelehnt wurde noch das sich das Unternehmen in...”
“- Eigenerklärung, dass nachweislich keine schweren Verfehlungen begangen wurden, die die Zuverlässigkeit als Bewerber in Frage stellen.”
“- Bestätigung der Bereitschaft und Möglichkeit im Zeitraum April-Juni 2015 die Demo-Wafer für TiAl und Al2O3 zu prozessieren”
“- Komplette Referenzen ( Ansprechpartner, Kontaktdaten) von vergleichbaren Anlagen im Feld produktiv in einem BEOL CMOS-Reinraum installiert.”
Auftragsausführung
Wichtigste Finanzierungsbedingungen und Zahlungsmodalitäten und/oder Verweis auf die einschlägigen Bestimmungen, die sie regeln:
“Siehe Verdingungsunterlagen.”
Rechtsform der Gruppe von Wirtschaftsteilnehmern, an die der Auftrag vergeben werden soll:
“Falls zutreffend für Bietergemeinschaft: Gesmatschuldnerisch haftend mit bevollmächtigte Vertreter.”
Sonstige besondere Bedingungen:
“Die unter III.2 geforderten Unterlagen müssen spätestens zum unter IV.3.4 genannten Termin vollständig vorliegen. Unvollständige Unterlagen können zum...”
Verfahren
Justification of the accelerated procedure:
“Vorveröffentlichung.”
Mindestzahl der Bewerber: 5
Höchstzahl der Bewerber: 8
Objective criteria for selection:
“Gemäß Eignungskriterien Referenzen, Demo-Zusage für angegebenen Zeitraum, Umsatz.”
Languages
Language: Deutsch 🗣️
Englisch 🗣️
Öffentlicher Auftraggeber
Identität
Andere Art des öffentlichen Auftraggebers: Other
Kontakt
Kontaktperson: Carla Lönz
URL der Teilnahme: http://www.deutsche-evergabe.de 🌏
Name: Fraunhofer-Gesellschaft e. V. über Vergabeportal eVergabe
Postanschrift: Wilhelmstraße 20-22
Postort: Wiesbaden
Postleitzahl: 65185
Land: Deutschland 🇩🇪
Telefon: +49 6119491060 📞
E-Mail: fraunhofer@deutsche-evergabe.de 📧
URL für weitere Informationen: http://www.deutsche-evergabe.de 🌏
URL der Dokumente: http://www.deutsche-evergabe.de 🌏
Referenz
Daten
Veröffentlichungsdatum: 2014-10-28 📅
Kennungen
Reference number attributed by the contracting authority: BM: 048/239707/cl-bla
Nummer der Bekanntmachung im Amtsblatt S: 2014/S 207-366329
Zusätzliche Informationen
“Bewerber unterliegen mit der Angebotsabgabe auch den Bestimmungen über nichtberücksichtigte Angebot (§22 EG VOL)”
“Die Nutzung der Plattform www.deutsche-evergabe.de ist kostenpflichtig.”
Ergänzende Informationen
Körper überprüfen
Name: Vergabekammer des Bundes
Postanschrift: Villemomblerstr. 76
Postort: Bonn
Postleitzahl: 53123
Land: Deutschland 🇩🇪
Name: Vergabeprüfstelle des BMBF, Referat Z 23
Informationen zu Fristen für Nachprüfungsverfahren:
“Solange ein wirksamer Zuschlag (Vertragsschluss) noch nicht erteilt ist, kann als Rechtsbehelf ein Nachprüfungsantrag bei der unter VI 4.1 genannten Stelle...”
Für Mediationsverfahren zuständige Stelle
Name: Vergabeprüfstelle des BMBF, Referat Z 23
Postanschrift: Heinemannstr. 2
Postort: Bonn
Postleitzahl: 53175
Quelle: OJS 2015/S 067-118568 (2015-03-31)
Objekt
Metadaten der Bekanntmachung
Dokumenttyp: Bekanntmachung über vergebene Aufträge
Verfahren
Verfahrensart: Verhandlungsverfahren
Angebotsart: Entfällt
Öffentlicher Auftraggeber
Identität
Postanschrift: Hansastraße 27
Kontakt
E-Mail: einkauf@zv.fraunhofer.de 📧
Telefon: +49 891205-3229 📞
Fax: +49 891205-7547 📠
Referenz
Daten
Absendedatum: 2016-05-17 📅
Veröffentlichungsdatum: 2016-05-19 📅
Kennungen
Bekanntmachungsnummer: 2016/S 095-170776
Verweist auf Bekanntmachung: 2015/S 067-118568
ABl. S-Ausgabe: 95
Objekt
Umfang der Beschaffung
Referenznummer: E_848_219411 cl
Verfahren
Vergabekriterien
Kriterium: 1. Preis (40)
2. Demo-Ergebnisse (15)
3. Technische Ausführun/non-compliance list (25)
4. Optionale Anforderungen/Anlagenflexibilität (10)
5. Service, Cost of Ownership (10)
Auftragsvergabe
Datum des Vertragsabschlusses: 2016-04-12 📅
Name: Von Ardenne GmbH
Postanschrift: Plattleite 19/29
Postort: Dresden
Postleitzahl: 01324
Land: Deutschland 🇩🇪
Informationen über Ausschreibungen
Anzahl der eingegangenen Angebote: 5
Ergänzende Informationen
Körper überprüfen
Name: Vergabekammer des Bundes beim Bundeskartellamt
Postanschrift: Villemomblerstraße 76
Informationen zu Fristen für Nachprüfungsverfahren:
“Solange ein wirksamer Zuschlag (Vertragsschluss) noch nicht erteilt ist, kann als Rechtsbehelf ein Nachprüfungsantrag bei der unter VI.4.1) genannten Stelle...”
Quelle: OJS 2016/S 095-170776 (2016-05-17)
- Industrielle Maschinen (>20 neue Beschaffungen)
- Maschinen für allgemeine und besondere Zwecke (>20)
- Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke (16)
- Maschinen für Papier- und Druckwerk, zum Bucheinbinden und Teile dafür
- Elektrogeräte für besondere Zwecke (1)
- Maschinen für die chemische Industrie (1)
- Maschinen für die Verarbeitung von Kautschuk oder Kunststoffen (1)
- Reinigungsmaschinen
- Maschinen zur Reinigung von Abwasser (6)
- Rohrleitungs-Ausrüstung (1)
- Palettenwählsystem
- Staubsauger und Bohnermaschinen, nicht für den Hausgebrauch (1)