200mm Sputter-Cluster-Tool

Fraunhofer Gesellschaft e. V.

Beschaffung Sputter-Clusteranlage (IPMS-Budget-Titel: BEoL.PVD_.01)
Beschreibung:
Die Anlage(n) muss 5 bis 6 Prozesskammern für die Materialien Ti/TiN, (Al), AlSiCu (Gruppe 1) und AlSiTi, TiAl, Al2O3 (Gruppe 2) bieten. Die Anlage ist für den Einsatz in der Halbleiter-MEMS-Fertigung von 200 mm Si-Substraten in einem ISO 4 CMOS-Reinraum zur Herstellung von Leitbahnen, Diffusionsbarrieren und Oberflächen-MEMS-Strukturen vorgesehen.
— Aufbau
o 3 Konfigurationen können angeboten werden, in der Reihenfolge absteigender Präferenz:
a. ein Mainframe mit 6 Prozesskammern
b. zwei Mainframes für jede Material-Gruppe mit je 3 Prozesskammern
c. ein Mainframe mit 5 Prozesskammern ohne dedizierte Al-Kammer
o Jeder Mainframe muss folgende Merkmale aufweisen:
Robotersystem, dass den frei programmierbaren Transfer der Wafer von den Eingabestationen durch sämtliche Kammern in beliebiger Reihenfolge gewährleistet.
2 Eingabestationen für standard Kunststoff-Kassettten.
Eine Möglichkeit zum Ausheizen (min. 200°C) und Ar-Plasma Vorreinigung der Wafer.
Eine Möglichkeit zur Kühlung der Substrate zwischen den Prouess-Schritten bzw. vor dem Rücktransport in die Kassette.
o 3 Prozess-Kammern müssen auf mind. 200°C beheizbar sein.
o Zumindest die Ti/TiN-Kammer muss die Möglichkeit bieten mit Substrat-Bias abzuscheiden.
o Mindestens eine Kammer (vorzugsweise alle) muss die Möglichkeit zur Prozessdruckkontrolle über eine PID-gesteuerte Drosselklappe bieten.
o Bei allen Prozesskammern lässt sich der Target-Substrat-Abstand rezeptgesteuert variieren.
o Alle Kammern sind mit Shutter versehen, um das Target ohne Dummy-Wafer einsputtern zu können. Wenn nicht alle Kammern mit Shutter versehen werden können, muss es die Möglichkeit geben mindestens 5 Dummy-Wafer unabhängig von der Eingabestation am Mainframe bereitzustellen.
o Alle Prozesskammern sind mit Ar als Prozessgas versehen, eine Kammer zusätzlich mit Sauerstoff und Stickstoff, weitere 2 Kammern jeweils nur mit Sauerstoff bzw. Stickstoff.
— Eigenschaften
o Die Anlage ist nach dem aktuellen Stand der Technik aufgebaut und mit allen notwendigen Einrichtungen versehen, um qualitativ hochwertige, homogene Schichten (< 1 % 15mm Randausschluss) mit sehr niedriger Defektdichte zu erzeugen.
o Das abgeschiedene Al2O3 wird als optische Vergütung der MEMS Bauelemente verwendet und darf keine Absorption bei Bestrahlung mit Licht der Wellenlänge 190 nm aufweisen.
o Der Steuerungsrechner erlaubt ein komfortables Rezept-Management, die zeitaufgelöste Aufzeichnung aller relevanter Prozess-Daten, einen Remote-Zugriff über TCP/IP und verfügt über eine dokumentierte Kommunikationsschnittstelle zur Kontrolle über eine Fertigungssteuerungssoftware (MES).
o Die Anlage verfügt über alle notwendigen Sicherheitseinrichtungen und eine CE Zertifizierung.
— Sonstiges
Während der Angebotsphase innerhalb der Ausschreibung werden an ausgewählte Bewerber Wafer für Demo-Zwecke verschickt. Die maximalen Kosten für den Demo-Lauf übernimmt das Institut IPMS nur in Höhe bis 3.000 Euro gegen Nachweis.
Die Details für die Demos werden mit der ausführlichen Spezifikation bekannt gegeben.

Deadline

Die Frist für den Eingang der Angebote war 2015-04-15. Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2015-03-31.

Anbieter

Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:

Wer? Wie? Wo?
Geschichte der Beschaffung
Datum Dokument
2015-03-31 Auftragsbekanntmachung
2016-05-17 Bekanntmachung über vergebene Aufträge
Auftragsbekanntmachung (2015-03-31)
Objekt
Umfang der Beschaffung
Titel: Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke
Menge oder Umfang: 1 Stück.
Metadaten der Bekanntmachung
Originalsprache: Deutsch 🗣️
Dokumenttyp: Auftragsbekanntmachung
Art des Auftrags: Lieferungen
Verordnung: Europäische Union, mit GPA-Beteiligung
Gemeinsames Vokabular für öffentliche Aufträge (CPV)
Code: Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke 📦

Verfahren
Verfahrensart: Beschleunigtes Verhandlungsverfahren
Angebotsart: Angebot für alle Lose
Vergabekriterien
Wirtschaftlichstes Angebot

Öffentlicher Auftraggeber
Identität
Land: Deutschland 🇩🇪
Art des öffentlichen Auftraggebers: Sonstiges
Name des öffentlichen Auftraggebers: Fraunhofer Gesellschaft e. V.
Postanschrift: Hansastr. 27 c
Postleitzahl: 80686
Postort: München
Kontakt
Internetadresse: http://www.fraunhofer.de 🌏

Referenz
Daten
Absendedatum: 2015-03-31 📅
Einreichungsfrist: 2015-04-15 📅
Veröffentlichungsdatum: 2015-04-04 📅
Kennungen
Bekanntmachungsnummer: 2015/S 067-118568
Verweist auf Bekanntmachung: 2014/S 207-366329
ABl. S-Ausgabe: 67
Zusätzliche Informationen
Bewerber unterliegen mit der Angebotsabgabe auch den Bestimmungen über nichtberücksichtigte Angebot (§22 EG VOL) Die Nutzung der Plattform www.deutsche-evergabe.de ist kostenpflichtig.

Objekt
Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung:
Beschaffung Sputter-Clusteranlage (IPMS-Budget-Titel: BEoL.PVD_.01)
Beschreibung:
Die Anlage(n) muss 5 bis 6 Prozesskammern für die Materialien Ti/TiN, (Al), AlSiCu (Gruppe 1) und AlSiTi, TiAl, Al2O3 (Gruppe 2) bieten. Die Anlage ist für den Einsatz in der Halbleiter-MEMS-Fertigung von 200 mm Si-Substraten in einem ISO 4 CMOS-Reinraum zur Herstellung von Leitbahnen, Diffusionsbarrieren und Oberflächen-MEMS-Strukturen vorgesehen.
Mehr anzeigen
— Aufbau
o 3 Konfigurationen können angeboten werden, in der Reihenfolge absteigender Präferenz:
a. ein Mainframe mit 6 Prozesskammern
b. zwei Mainframes für jede Material-Gruppe mit je 3 Prozesskammern
c. ein Mainframe mit 5 Prozesskammern ohne dedizierte Al-Kammer
o Jeder Mainframe muss folgende Merkmale aufweisen:
Robotersystem, dass den frei programmierbaren Transfer der Wafer von den Eingabestationen durch sämtliche Kammern in beliebiger Reihenfolge gewährleistet.
2 Eingabestationen für standard Kunststoff-Kassettten.
Eine Möglichkeit zum Ausheizen (min. 200°C) und Ar-Plasma Vorreinigung der Wafer.
Eine Möglichkeit zur Kühlung der Substrate zwischen den Prouess-Schritten bzw. vor dem Rücktransport in die Kassette.
o 3 Prozess-Kammern müssen auf mind. 200°C beheizbar sein.
o Zumindest die Ti/TiN-Kammer muss die Möglichkeit bieten mit Substrat-Bias abzuscheiden.
o Mindestens eine Kammer (vorzugsweise alle) muss die Möglichkeit zur Prozessdruckkontrolle über eine PID-gesteuerte Drosselklappe bieten.
o Bei allen Prozesskammern lässt sich der Target-Substrat-Abstand rezeptgesteuert variieren.
o Alle Kammern sind mit Shutter versehen, um das Target ohne Dummy-Wafer einsputtern zu können. Wenn nicht alle Kammern mit Shutter versehen werden können, muss es die Möglichkeit geben mindestens 5 Dummy-Wafer unabhängig von der Eingabestation am Mainframe bereitzustellen.
Mehr anzeigen
o Alle Prozesskammern sind mit Ar als Prozessgas versehen, eine Kammer zusätzlich mit Sauerstoff und Stickstoff, weitere 2 Kammern jeweils nur mit Sauerstoff bzw. Stickstoff.
— Eigenschaften
o Die Anlage ist nach dem aktuellen Stand der Technik aufgebaut und mit allen notwendigen Einrichtungen versehen, um qualitativ hochwertige, homogene Schichten (< 1 % 15mm Randausschluss) mit sehr niedriger Defektdichte zu erzeugen.
o Das abgeschiedene Al2O3 wird als optische Vergütung der MEMS Bauelemente verwendet und darf keine Absorption bei Bestrahlung mit Licht der Wellenlänge 190 nm aufweisen.
o Der Steuerungsrechner erlaubt ein komfortables Rezept-Management, die zeitaufgelöste Aufzeichnung aller relevanter Prozess-Daten, einen Remote-Zugriff über TCP/IP und verfügt über eine dokumentierte Kommunikationsschnittstelle zur Kontrolle über eine Fertigungssteuerungssoftware (MES).
Mehr anzeigen
o Die Anlage verfügt über alle notwendigen Sicherheitseinrichtungen und eine CE Zertifizierung.
— Sonstiges
Während der Angebotsphase innerhalb der Ausschreibung werden an ausgewählte Bewerber Wafer für Demo-Zwecke verschickt. Die maximalen Kosten für den Demo-Lauf übernimmt das Institut IPMS nur in Höhe bis 3.000 Euro gegen Nachweis.
Die Details für die Demos werden mit der ausführlichen Spezifikation bekannt gegeben.
Es werden Varianten akzeptiert ✅
Dauer: 6 Monate
Referenznummer: BM: 048/239707/cl-bla
Ort der Leistung
Hauptstandort oder Erfüllungsort: Dresden.

Rechtliche, wirtschaftliche, finanzielle und technische Informationen
Bedingungen für die Teilnahme
Befähigung zur Berufsausübung: Firmenprofil.
Wirtschaftliche und finanzielle Leistungsfähigkeit:
- Angaben zum Umsatz der letzten 3 Geschäftsjahre
- Eigenerklärung über das ordnungsgemäße. Abführen von Steuern und Abgaben sowie der Beiträge zur gesetzlichen Sozialversicherung
- Eigenerklärung, dass weder ein Insolvenzverfahren in Eröffnung ist, eröffnet wurde oder mangels Masse abgelehnt wurde noch das sich das Unternehmen in Liquidation befindet
- Eigenerklärung, dass nachweislich keine schweren Verfehlungen begangen wurden, die die Zuverlässigkeit als Bewerber in Frage stellen.
Technische und berufliche Fähigkeiten:
- Bestätigung der Bereitschaft und Möglichkeit im Zeitraum April-Juni 2015 die Demo-Wafer für TiAl und Al2O3 zu prozessieren
- Komplette Referenzen ( Ansprechpartner, Kontaktdaten) von vergleichbaren Anlagen im Feld produktiv in einem BEOL CMOS-Reinraum installiert.
Auftragsausführung
Wichtigste Finanzierungsbedingungen und Zahlungsmodalitäten und/oder Verweis auf die einschlägigen Bestimmungen, die sie regeln: Siehe Verdingungsunterlagen.
Rechtsform der Gruppe von Wirtschaftsteilnehmern, an die der Auftrag vergeben werden soll:
Falls zutreffend für Bietergemeinschaft: Gesmatschuldnerisch haftend mit bevollmächtigte Vertreter.
Sonstige besondere Bedingungen:
Die unter III.2 geforderten Unterlagen müssen spätestens zum unter IV.3.4 genannten Termin vollständig vorliegen. Unvollständige Unterlagen können zum Ausschluss führen. Bei evtl. Einsatz von Subunternehmern sind diese im Angebot zu benennen. Ferner ist zu bestätigen, dass sie im Auftragsfall zur Verfügung stehen; deren Anteil am Umfang des Auftragsgegenstandes ist darzulegen. Deren Eignung ist ebenfalls anhand der unter III.2 aufgeführten Unterlagen nachzuweisen.
Mehr anzeigen

Verfahren
Begründung des beschleunigten Verfahrens: Vorveröffentlichung.
Mindestzahl der Bewerber: 5
Höchstzahl der Bewerber: 8
Objektive Auswahlkriterien:
Gemäß Eignungskriterien Referenzen, Demo-Zusage für angegebenen Zeitraum, Umsatz.
Sprachen
Sprache: Deutsch 🗣️
Englisch 🗣️

Öffentlicher Auftraggeber
Identität
Andere Art des öffentlichen Auftraggebers: Other
Kontakt
Kontaktperson: Carla Lönz
URL der Teilnahme: http://www.deutsche-evergabe.de 🌏
Name: Fraunhofer-Gesellschaft e. V. über Vergabeportal eVergabe
Postanschrift: Wilhelmstraße 20-22
Postort: Wiesbaden
Postleitzahl: 65185
Telefon: +49 6119491060 📞
E-Mail: fraunhofer@deutsche-evergabe.de 📧
URL für weitere Informationen: http://www.deutsche-evergabe.de 🌏
URL der Dokumente: http://www.deutsche-evergabe.de 🌏

Referenz
Daten
Veröffentlichungsdatum: 2014-10-28 📅
Kennungen
Vom öffentlichen Auftraggeber vergebene Referenznummer: BM: 048/239707/cl-bla
Nummer der Bekanntmachung im Amtsblatt S: 2014/S 207-366329
Zusätzliche Informationen
Bewerber unterliegen mit der Angebotsabgabe auch den Bestimmungen über nichtberücksichtigte Angebot (§22 EG VOL)
Die Nutzung der Plattform www.deutsche-evergabe.de ist kostenpflichtig.

Ergänzende Informationen
Körper überprüfen
Name: Vergabekammer des Bundes
Postanschrift: Villemomblerstr. 76
Postort: Bonn
Postleitzahl: 53123
Land: Deutschland 🇩🇪
Name: Vergabeprüfstelle des BMBF, Referat Z 23
Informationen zu Fristen für Nachprüfungsverfahren:
Solange ein wirksamer Zuschlag (Vertragsschluss) noch nicht erteilt ist, kann als Rechtsbehelf ein Nachprüfungsantrag bei der unter VI 4.1 genannten Stelle gestellt werden. Bewerber/Bieter müssen Vergaberechtsverstöße unverzüglich bei der unter I 1 genannten Vergabestelle rügen, bevor sie einen Nachprüfungsantrag stellen. Wir weisen ausdrücklich auf die Antragsfrist des § 107 Abs. 3 Satz 1 Nr. 4 Gesetz gegen Wettbewerbsbeschränkungen (GWB) hin. Bieter, deren Angebote nicht berücksichtigt werden sollen, werden vor dem Zuschlag gem. § 101a GWB informiert.
Mehr anzeigen
Für Mediationsverfahren zuständige Stelle
Postanschrift: Heinemannstr. 2
Postleitzahl: 53175
Quelle: OJS 2015/S 067-118568 (2015-03-31)
Bekanntmachung über vergebene Aufträge (2016-05-17)
Objekt
Metadaten der Bekanntmachung
Dokumenttyp: Bekanntmachung über vergebene Aufträge

Verfahren
Verfahrensart: Verhandlungsverfahren
Angebotsart: Entfällt

Öffentlicher Auftraggeber
Identität
Postanschrift: Hansastraße 27
Kontakt
E-Mail: einkauf@zv.fraunhofer.de 📧
Telefon: +49 891205-3229 📞
Fax: +49 891205-7547 📠

Referenz
Daten
Absendedatum: 2016-05-17 📅
Veröffentlichungsdatum: 2016-05-19 📅
Kennungen
Bekanntmachungsnummer: 2016/S 095-170776
Verweist auf Bekanntmachung: 2015/S 067-118568
ABl. S-Ausgabe: 95

Objekt
Umfang der Beschaffung
Referenznummer: E_848_219411 cl

Verfahren
Vergabekriterien
Kriterium: 1. Preis (40)
2. Demo-Ergebnisse (15)
3. Technische Ausführun/non-compliance list (25)
4. Optionale Anforderungen/Anlagenflexibilität (10)
5. Service, Cost of Ownership (10)

Auftragsvergabe
Datum des Vertragsabschlusses: 2016-04-12 📅
Name: Von Ardenne GmbH
Postanschrift: Plattleite 19/29
Postort: Dresden
Postleitzahl: 01324
Land: Deutschland 🇩🇪
Informationen über Ausschreibungen
Anzahl der eingegangenen Angebote: 5

Ergänzende Informationen
Körper überprüfen
Name: Vergabekammer des Bundes beim Bundeskartellamt
Postanschrift: Villemomblerstraße 76
Informationen zu Fristen für Nachprüfungsverfahren:
Solange ein wirksamer Zuschlag (Vertragsschluss) noch nicht erteilt ist, kann als Rechtsbehelf ein Nachprüfungsantrag bei der unter VI.4.1) genannten Stelle gestellt werden. Bewerber/Bieter müssen Vergaberechtsverstöße unverzüglich bei der unter I.1) genannten Vergabestelle rügen, bevor sie einen Nachprüfungsantrag stellen. Wir weisen ausdrücklich auf die Antragsfrist des § 107 Abs. 3 Satz 1 Nr. 4 Gesetz gegen Wettbewerbsbeschränkungen (GWB) hin. Bieter, deren Angebote nicht berücksichtigt werden sollen, werden vor dem Zuschlag gem. § 101a GWB informiert.
Mehr anzeigen
Quelle: OJS 2016/S 095-170776 (2016-05-17)
Neue Beschaffungen in verwandten Kategorien 🆕
Verwandte Suchen 🔍
Region:
Deutschland Sachsen Dresden
Produkte/Dienstleistungen:
Industrielle Maschinen Maschinen für allgemeine und besondere Zwecke Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke