Dünnschicht-Sputteranlage mit integriertem Trockenätzverfahren (RIE)
Das Max-Planck-Institut für Polymerforschung, Ackermannweg 10, 55128 Mainz beabsichtigt den Kauf einer Dünnschicht-Sputteranlage mit integriertem Trockenätzverfahren (RIE); eine Kombination aus einer RIE-Ätzanlage zur Vorreinigung mit anschließendem Sputter-Beschichtungsprozess. Die Anlage wird in einem Reinraum der Klasse 6 installiert und dient zur Einzelstückfertigung von Metall- und Halbleiterstrukturen für die Grundlagenforschung am Max-Planck-Institut für Polymerforschung. Insbesondere zur Bearbeitung wissenschaftlicher Fragestellungen in den Bereichen der molekularen Elektronik und organischer Halbleiter.
— Es sollen Substrate mit einem maximalen Durchmesser von 152,6 mm aus Siliziumoxid, Borosilikatglas oder Quarz beschichtet werden.
— Der Beschichtungsvorgang muss im Hochvakuum stattfinden und eine definierte Schichtdickenhomogenität von ≤ 5 % erreichen.
— Die zu bearbeitenden Substrate sind dabei über ein Handlersystem, unter einem definierten Vakuum, in der Anlage zu positionieren.
— Metallschichten aus Gold, Titan, Kobalt, Chrom, Platin, Tantal und Halbleiterschichten aus Siliziumoxid, Aluminiumoxid und Siliziumnitrid müssen herstellbar sein.
Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2015-12-22.
Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2015-11-06.
Anbieter
Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:
Wer?
Wie?
Wo?
Geschichte der Beschaffung
| Datum |
Dokument |
| 2015-11-06
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Auftragsbekanntmachung
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| 2016-02-19
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Bekanntmachung über vergebene Aufträge
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