E_066_233493 cl-Ols – Ionenstrahlätzanlage IBF / RIBE

Fraunhofer Gesellschaft e. V.

E_066_233493 cl-Ols – Ionenstrahlätzanlage IBF / RIBE
Es wird eine Ionenstrahlätzanlage für die physikalische Formkorrektur (Ion Beam Figuring – IBF) optischer Oberflächen und die reaktive Mikrostrukturierung (reactive ion beam etching – RIBE) von Kieselglassubstraten mit Abmessungen bis 340mm Durchmesser benötigt. Dazu soll die Anlage mit einer Ionenstrahlquelle zum physikalischen Ätzen mit fokussiertem Ionenstrahl und einer zweiten reaktiven Breitstrahl-Ionenquelle ausgerüstet sein.
Die Formkorrektur optischer Oberflächen ist mit dem fokussierten Ionenstrahl vorgesehen, mit dem die Oberfläche abgescannt wird. Der lokale Abtrag erfolgt dabei über eine Verweilzeitsteuerung. Die Anlagensoftware muss in der Lage sein, interferometrische Messdaten der zu korrigierenden Oberfläche für die Berechnung der Verweilzeit zu verarbeiten und daraus die resultierende Prozesssteuerung rezeptgestützt vorzunehmen. Ziel ist u.a. die Korrektur von Plansubstraten für die Lithographie (Mask-Blanks aus Kieselglas) auf Formfehler <20nm PV in maximal zwei Korrekturdurchläufen.
Mit der reaktiven Breitstrahlquelle soll die Bearbeitung dicker Kieselglassubstrate (z.B. Prismen) mit maximalen Abmessungen von bis zu 150mm x 150mm x 150mm durchgeführt werden. Insbesondere ist eine Übertragung lithographisch erzeugter Chrom-Maskenstrukturen in das Kieselglas vorgesehen. Hierbei soll eine Selektivität des Ätzabtrags zwischen Kieselglas und Chrom von >15:1 erreicht werden. Um die geforderte Homogenität des Ätzabtrags zu gewährleisten ist eine Relativbewegung zwischen Substrat und Ionenstrahlquelle möglich.
Die Anlage muss mit einer Beladungsschleuse ausgerüstet sein, die das Schleusen von Substraten mit Abmessungen von bis zu 340mm Durchmesser, rechteckig 230mm x 230mm und 292mm x 150mm und jeweils 25mm Dicke bzw. 150mm x 150mm x 150mm ohne Unterbrechung des Vakuums in der Prozesskammer zulässt.
Die Lieferung umfasst Rezepte für die Formkorrektur optischer Elemente und das reaktive Ätzen von Kieselglas mit der vereinbarten Qualität.
Die Probenschleuse der Anlage muss in einem Reinraum der ISO Klasse 2 installiert werden. Die Vakuumkammer ist im Nachbarraum (Durch-Wandmontage) aufzustellen. Abgase sind in ein vorhandenes Abgasreinigungssystem zu integrieren.
Die benötigte Anlagen- und Prozesstechnologie ist auf spezielle Anforderungen des „Center for Advanced Micro- and Nano Optics“ des Fraunhofer IOF angepasst und weicht daher von Standardkonfigurationen am Markt erhältlicher Ionenstrahlätzanlagen ab. Aus diesem Grund ist ein Nachweis der geforderten Funktionalität zur Ionenstrahlkorrektur und zum reaktiven Strahlätzen gegen eine Chrom-Maske entsprechend der spezifizierten Prozesse zwingend erforderlich. Dieser Nachweis kann durch Testbearbeitungen oder durch Referenzen zu bereits realisierten Anlagen erbracht werden.

Deadline

Die Frist für den Eingang der Angebote war 2016-01-28. Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2015-12-21.

Anbieter

Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:

• NTG Neue Technologien GmbH

Wer?

• Fraunhofer Gesellschaft e. V.

Wie?

• Maschinen für allgemeine und besondere Zwecke › Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke

Wo?

• Thüringen › Jena, Kreisfreie Stadt

Geschichte der Beschaffung

Datum	Dokument
2015-12-21	Auftragsbekanntmachung
2016-08-02	Bekanntmachung über vergebene Aufträge

Auftragsbekanntmachung (2015-12-21)
Objekt
Umfang der Beschaffung
Titel: Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke
Menge oder Umfang: 1 Stück.
Metadaten der Bekanntmachung
Originalsprache: Deutsch 🗣️
Dokumenttyp: Auftragsbekanntmachung
Art des Auftrags: Lieferungen
Verordnung: Europäische Union, mit GPA-Beteiligung
Gemeinsames Vokabular für öffentliche Aufträge (CPV)
Code: Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke 📦

Verfahren
Verfahrensart: Verhandlungsverfahren
Angebotsart: Angebot für alle Lose
Vergabekriterien
Wirtschaftlichstes Angebot

Öffentlicher Auftraggeber
Identität
Land: Deutschland 🇩🇪
Art des öffentlichen Auftraggebers: Sonstiges
Name des öffentlichen Auftraggebers: Fraunhofer Gesellschaft e. V.
Postanschrift: Hansastr. 27c
Postleitzahl: 80686
Postort: München
Kontakt
Internetadresse: http://www.fraunhofer.de 🌏
E-Mail: einkauf@zv.fraunhofer.de 📧

Referenz
Daten
Absendedatum: 2015-12-21 📅
Einreichungsfrist: 2016-01-28 📅
Veröffentlichungsdatum: 2015-12-26 📅
Kennungen
Bekanntmachungsnummer: 2015/S 250-457059
ABl. S-Ausgabe: 250
Zusätzliche Informationen

Anforderung Unterlagen – erhältlich bei: Die Vergabeunterlagen können ausschließlich über das Vergabeportal der deutschen eVergabe unter www.deutsche-evergabe.de abgerufen werden. Nach §11 der Vergabeordnung haben wir uns entschieden die Vergabeunterlagen ausschließlich digital über die deutsche eVergabe anzubieten. Die Nutzung der Plattform www.deutsche-evergabe.de ist kostenpflichtig. Bewerber unterliegen mit der Angebotsabgabe auch den Bestimmungen über nichtberücksichtigte Angebote (§22 EG VOL). Die Zentrale der Fraunhofer Gesellschaft ist vom 23.12.2015 bis 6.1.2016 geschlossen. In dieser Zeit können auch keine Informationen zu lfd. Vergabeverfahren erteilt werden. Sie erreichen uns wieder ab dem 7.1.2016.

Objekt
Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung:

E_066_233493 cl-Ols – Ionenstrahlätzanlage IBF / RIBE

Es wird eine Ionenstrahlätzanlage für die physikalische Formkorrektur (Ion Beam Figuring – IBF) optischer Oberflächen und die reaktive Mikrostrukturierung (reactive ion beam etching – RIBE) von Kieselglassubstraten mit Abmessungen bis 340mm Durchmesser benötigt. Dazu soll die Anlage mit einer Ionenstrahlquelle zum physikalischen Ätzen mit fokussiertem Ionenstrahl und einer zweiten reaktiven Breitstrahl-Ionenquelle ausgerüstet sein.

Die Formkorrektur optischer Oberflächen ist mit dem fokussierten Ionenstrahl vorgesehen, mit dem die Oberfläche abgescannt wird. Der lokale Abtrag erfolgt dabei über eine Verweilzeitsteuerung. Die Anlagensoftware muss in der Lage sein, interferometrische Messdaten der zu korrigierenden Oberfläche für die Berechnung der Verweilzeit zu verarbeiten und daraus die resultierende Prozesssteuerung rezeptgestützt vorzunehmen. Ziel ist u.a. die Korrektur von Plansubstraten für die Lithographie (Mask-Blanks aus Kieselglas) auf Formfehler <20nm PV in maximal zwei Korrekturdurchläufen.

Mit der reaktiven Breitstrahlquelle soll die Bearbeitung dicker Kieselglassubstrate (z.B. Prismen) mit maximalen Abmessungen von bis zu 150mm x 150mm x 150mm durchgeführt werden. Insbesondere ist eine Übertragung lithographisch erzeugter Chrom-Maskenstrukturen in das Kieselglas vorgesehen. Hierbei soll eine Selektivität des Ätzabtrags zwischen Kieselglas und Chrom von >15:1 erreicht werden. Um die geforderte Homogenität des Ätzabtrags zu gewährleisten ist eine Relativbewegung zwischen Substrat und Ionenstrahlquelle möglich.

Die Anlage muss mit einer Beladungsschleuse ausgerüstet sein, die das Schleusen von Substraten mit Abmessungen von bis zu 340mm Durchmesser, rechteckig 230mm x 230mm und 292mm x 150mm und jeweils 25mm Dicke bzw. 150mm x 150mm x 150mm ohne Unterbrechung des Vakuums in der Prozesskammer zulässt.

Die Lieferung umfasst Rezepte für die Formkorrektur optischer Elemente und das reaktive Ätzen von Kieselglas mit der vereinbarten Qualität.

Die Probenschleuse der Anlage muss in einem Reinraum der ISO Klasse 2 installiert werden. Die Vakuumkammer ist im Nachbarraum (Durch-Wandmontage) aufzustellen. Abgase sind in ein vorhandenes Abgasreinigungssystem zu integrieren.

Die benötigte Anlagen- und Prozesstechnologie ist auf spezielle Anforderungen des „Center for Advanced Micro- and Nano Optics“ des Fraunhofer IOF angepasst und weicht daher von Standardkonfigurationen am Markt erhältlicher Ionenstrahlätzanlagen ab. Aus diesem Grund ist ein Nachweis der geforderten Funktionalität zur Ionenstrahlkorrektur und zum reaktiven Strahlätzen gegen eine Chrom-Maske entsprechend der spezifizierten Prozesse zwingend erforderlich. Dieser Nachweis kann durch Testbearbeitungen oder durch Referenzen zu bereits realisierten Anlagen erbracht werden.

Es werden Varianten akzeptiert ✅
Beschreibung der Optionen: Optional ist Zubehör entsprechend der Ausschreibung anzubieten.
Dauer: 12 Monate
Referenznummer: E_066_233493 cl-Ols
Ort der Leistung
Hauptstandort oder Erfüllungsort: Jena.

Rechtliche, wirtschaftliche, finanzielle und technische Informationen
Bedingungen für die Teilnahme
Befähigung zur Berufsausübung: — Firmenprofil.
Wirtschaftliche und finanzielle Leistungsfähigkeit:

— Umsätze der letzten 3 Geschäftsjahre

— Eigenerklärung über das ordnungsgemäße Abführen von Steuern und Sozialabgaben

— Eigenerklärung, dass kein Insolvenzverfahren in Eröffnung ist, eröffnet wurde oder mangels Masse abgelehnt wurde

— Eigenerklärung, dass nachweislich keine schweren Verfehlungen begangen wurden, die die Zuverlässigkeit als Bewerber in Frage stellen

— Auszug aus dem Gewerbezentralregister gemäß § 150 a GewO (wird durch den Auftraggeber angefordert).

Technische und berufliche Fähigkeiten:

— Komplette Referenzen (Kontaktdaten, Ansprechpartner) von vergleichbaren Anlagen bzw. Nachweis der geforderten Bearbeitungsprozesse, nicht älter als drei Jahre

— Nachweis der Zertifizierung nach DIN EN ISO 9001.

Auftragsausführung
Wichtigste Finanzierungsbedingungen und Zahlungsmodalitäten und/oder Verweis auf die einschlägigen Bestimmungen, die sie regeln: Nach VOL und Vergabeunterlagen.
Rechtsform der Gruppe von Wirtschaftsteilnehmern, an die der Auftrag vergeben werden soll: Gesamtschuldnerisch haftend mit bevollmächtigtem Vertreter.
Sonstige besondere Bedingungen:

Bei evtl. Einsatz von Subunternehmern ist spätestens mit Abgabe des Angebots sowie der Eignungsunterlagen bekanntzugeben. Ihre Eignung ist ebenfalls anhand der unter III.2 geforderten Unterlagen nachzuweisen. Der Anteil am Leistungsumfang ist dazulegen. Ferner ist vom Unterauftragnehmer rechtsverbindlich zu bestätigen, dass er im Auftragsfall uneingeschränkt zur Verfügung steht.

Verfahren
Mindestzahl der Bewerber: 3
Höchstzahl der Bewerber: 5
Objektive Auswahlkriterien: Gemäß Eignungskriterien, Referenzen.
Sprachen
Sprache: Deutsch 🗣️
Englisch 🗣️

Öffentlicher Auftraggeber
Identität
Andere Art des öffentlichen Auftraggebers: Other
Kontakt
Kontaktperson: C2 – Einkauf
URL der Teilnahme: http://www.deutsche-evergabe.de 🌏
Name: Fraunhofer Gesellschaft e. V. über Vergabeportal deutsche-eVergabe
Postanschrift: Wilhelmstr. 20-22
Postort: Wiesbaden
Postleitzahl: 65185
Telefon: +49 6119491060 📞
E-Mail: fraunhofer@deutsche-evergabe.de 📧
URL für weitere Informationen: http://www.deutsche-evergabe.de 🌏
URL der Dokumente: http://www.deutsche-evergabe.de 🌏

Referenz
Kennungen
Vom öffentlichen Auftraggeber vergebene Referenznummer: E_066_233493 cl-Ols
Zusätzliche Informationen

Anforderung Unterlagen – erhältlich bei: Die Vergabeunterlagen können ausschließlich über das Vergabeportal der deutschen eVergabe unter www.deutsche-evergabe.de abgerufen werden.

Nach §11 der Vergabeordnung haben wir uns entschieden die Vergabeunterlagen ausschließlich digital über die deutsche eVergabe anzubieten.

Die Nutzung der Plattform www.deutsche-evergabe.de ist kostenpflichtig.

Bewerber unterliegen mit der Angebotsabgabe auch den Bestimmungen über nichtberücksichtigte Angebote (§22 EG VOL).

Die Zentrale der Fraunhofer Gesellschaft ist vom 23.12.2015 bis 6.1.2016 geschlossen. In dieser Zeit können auch keine Informationen zu lfd. Vergabeverfahren erteilt werden.

Sie erreichen uns wieder ab dem 7.1.2016.

Ergänzende Informationen
Körper überprüfen
Name: Vergabekammer des Bundes beim Bundeskartellamt
Postanschrift: Villemomblerstr. 76
Postort: Bonn
Postleitzahl: 53123
Land: Deutschland 🇩🇪
Informationen zu Fristen für Nachprüfungsverfahren:

Solange ein wirksamer Zuschlag (Vertragsschluss) noch nicht erteilt ist, kann als Rechtsbehelf ein Nachprüfungsantrag bei der unter VI 4.1 genannten Stelle gestellt werden. Bewerber/Bieter müssen Vergaberechtsverstöße unverzüglich bei der unter I.1 genannten Vergabestelle rügen, bevor sie einen Nachprüfungsantrag stellen. Wir weisen ausdrücklich auf die Antragsfrist des §107 Abs. 3 Nr. 4 Gesetz gegen Wettbewerbsbeschränkungen (GWB) hin.

Bieter, deren Angebote nicht berücksichtigt werden soll, werden vor dem Zuschlag gem. §101a GWB informiert.

Dienststelle, bei der Informationen über das Überprüfungsverfahren eingeholt werden können
Name: Vergabestelle siehe I.1
Quelle: OJS 2015/S 250-457059 (2015-12-21)

Bekanntmachung über vergebene Aufträge (2016-08-02)
Objekt
Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung: E_066_233493 cl-Ols – Ionenstrahlätzanlage.
Gesamtwert des Auftrags: 1 EUR 💰
Metadaten der Bekanntmachung
Dokumenttyp: Bekanntmachung über vergebene Aufträge
Ort der Leistung
NUTS-Region: Jena, Kreisfreie Stadt 🏙️

Verfahren
Verfahrensart: Verhandlungsverfahren
Angebotsart: Entfällt

Öffentlicher Auftraggeber
Kontakt
Telefon: +49 891205-3229 📞
Fax: +49 891205-7547 📠

Referenz
Daten
Absendedatum: 2016-08-02 📅
Veröffentlichungsdatum: 2016-08-06 📅
Kennungen
Bekanntmachungsnummer: 2016/S 151-273029
Verweist auf Bekanntmachung: 2015/S 250-457059
ABl. S-Ausgabe: 151

Verfahren
Vergabekriterien
Qualitätskriterium (Bezeichnung): Erfüllung der ausgeschriebenen Spezifikation
Qualitätskriterium (Gewichtung): 55
Qualitätskriterium (Bezeichnung): Lieferzeit
Qualitätskriterium (Gewichtung): 5
Qualitätskriterium (Bezeichnung): Wartungskonzept
Gewichtung des Preises: 35

Auftragsvergabe
Datum des Vertragsabschlusses: 2016-07-22 📅

Öffentlicher Auftraggeber
Identität
Andere Art des öffentlichen Auftraggebers: Forschungsgesellschaft e. V.
Kontakt
Kontaktperson: Carla Lönz

Ergänzende Informationen
Körper überprüfen
Informationen zu Fristen für Nachprüfungsverfahren:

Solange ein wirksamer Zuschlag (Vertragsschluss) noch nicht erteilt ist, kann als Rechtsbehelf ein Nachprüfungsantrag bei der unter VI.4.1) genannten Stelle gestellt werden. Bewerber/Bieter müssen Vergaberechtsverstöße unverzüglich bei der unter I.1) genannten Vergabestelle rügen, bevor sie einen Nachprüfungsantrag stellen. Wir weisen ausdrücklich auf die Antragsfrist des § 107 Abs. 3 Nr. 4 Gesetz gegen Wettbewerbsbeschränkungen (GWB) hin.

Bieter, deren Angebote nicht berücksichtigt werden soll, werden vor dem Zuschlag gem. § 101a GWB informiert.

Für Mediationsverfahren zuständige Stelle
Name: Vergabeprüfstelle des BMBF, Referat Z 23
Postanschrift: Heinemannstraße 2
Postort: Bonn
Postleitzahl: 53175
Land: Deutschland 🇩🇪
Quelle: OJS 2016/S 151-273029 (2016-08-02)

Neue Beschaffungen in verwandten Kategorien 🆕

Industrielle Maschinen (>20 neue Beschaffungen)

Maschinen für allgemeine und besondere Zwecke (>20)

Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke (18)