E_848_249412_cl-wit – PE-CVD Cluster-Anlage

Fraunhofer Gesellschaft e. V.

E_848_249412_cl-wit – PE-CVD Cluster-Anlage:
Die Anlage muss zwei Prozesskammern für die Abscheidung der Materialien USG, BPSG, PSG, aSi, aSi:B, Si3N4 und SiON, sowie eine Prozesskammer zum Ar-Rücksputtern bieten. Es soll auch ein Angebot über eine vierte optionale Prozesskammer für die HDP-SiO2-Abscheidung mit Silan/Sauerstoff Plasma abgegeben werden.
Die Anlage ist für den Einsatz in der Halbleiter-MEMS-Fertigung von 200 mm Si-Substraten in einem ISO 4 CMOS-Reinraum zur Herstellung von Isolationsschichten, Diffusionsbarrieren und Hartmasken, sowie Oberflächen-MEMS-Strukturen vorgesehen.
Aufbau:
— Kammer 1: TEOS-basierte PE-CVD Abscheidung von USG, BPSG und PSG;
— Kammer 2: Silan-basierte PE-CVD Abscheidung von Si3N4, SiON, SiO2 und aSi:B: Diese Kammer soll optional ebenfalls die SiGe-Abscheidung ermöglichen;
— Kammer 3: Sputterätzung mittels Ar-Plasma;
— Optionale Kammer 4: HDP-Abscheidung von SiO2 mit Silan/O2;
— Jede der Prozesskammern muss über eine materialschonende Insitu-Kammerreinigung verfügen;
— Der Mainframe muss folgende Merkmale aufweisen:
Alle Kammern müssen die hochpräzise Regelung von Druck, Temperatur, rf-Leistung und Prozessgasflüssen ermöglichen. Robotersystem, das den frei programmierbaren Transfer der Wafer von den Eingabestationen durch sämtliche Kammern in beliebiger Reihenfolge gewährleistet.
2 Eingabestationen für Standard-Kunststoff-Kassetten.
Möglichkeit zur Orientierung der Wafer auf dem Chuck (Ausrichtung von Flat/Notch)
Eine Möglichkeit zur Kühlung der Substrate zwischen den Prozess-Schritten bzw. vor dem Rücktransport in die Kassette. Selbst wenn alle Prozesskammern parallel betrieben werden, darf weder das Waferhandling, noch die Waferkühlung den Mainframe-Durchsatz limitieren.
Eigenschaften:
— Die Anlage ist nach dem aktuellen Stand der Technik aufgebaut und mit allen notwendigen Einrichtungen versehen, um qualitativ hochwertige, homogene Schichten (< 1 % 15 mm Randausschluss) mit sehr niedriger Defektdichte zu erzeugen.
— Der Steuerungsrechner erlaubt ein komfortables Rezept-Management, die zeitaufgelöste Aufzeichnung aller relevanter Prozess-Daten, einen Remote-Zugriff über TCP/IP und verfügt über eine dokumentierte Kommunikationsschnittstelle zur Kontrolle über eine Fertigungssteuerungssoftware (MES).
— Die Anlage verfügt über alle notwendigen Sicherheitseinrichtungen und eine CE Zertifizierung.
— Es können sowohl Neu-als auch Gebrauchtgeräte angeboten werden.

Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2016-01-26. Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2015-12-15.

Anbieter
Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:
Wer?

Wie?

Wo?

Geschichte der Beschaffung
Datum Dokument
2015-12-15 Auftragsbekanntmachung
2015-12-17 Ergänzende Angaben
2016-05-17 Bekanntmachung über vergebene Aufträge