Hochvakuum-Beschichtungsanlage für Metallschichten
— Hochvakuum-Bedampfungsanlage für Metallschichten mit Widerstandsverdampfern, Elektronenstrahlverdampfern und Plasmaquelle
— Die Anlage wird zur Abscheidung von Metallschichten (mit hoher Rate) und metallbasierten Schichten bzw. Schichtsystemen für optische Anwendungen im Spektralbereich VUV bis NIR Verwendung finden.
— Fluoridschichten mit hoher optischer Qualität sollen sowohl in Heißprozessen als auch in Kaltprozessen herstellbar sein
— Teile mit einer Größe bis zu 750mm Durchmesser und einem Gewicht bis zu 30kg sollen beschichtet werden können.
Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2015-06-11.
Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2015-05-12.
Anbieter
Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:
Wer?
Wie?
Wo?
Geschichte der Beschaffung
| Datum |
Dokument |
| 2015-05-12
|
Auftragsbekanntmachung
|
| 2015-12-02
|
Bekanntmachung über vergebene Aufträge
|