Lithographie-System

Freie Universität Berlin

Der Fachbereich Physik der Freien Universität benötigt ein hochauflösendes Elektronenstrahl-Lithographie System mit integriertem Rasterelektronenmikroskop zur Herstellung einzelner Nanostrukturen auf nicht leitenden Substraten.

Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2016-01-19. Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2015-12-16.

Wer?

• • Freie Universität Berlin

Wie?

• • Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)

Wo?

• • Berlin › Berlin