Photolithography mask/reticle for MPW-Service and Research
Das IHP bietet verschiedene SiGe-BiCMOS Technologien für ein Multi-Wafer Programm (MPW) an.
Pro Jahr bestellt das IHP ungefähr 300 Einzelmasken mit verschiedenen Anforderungen/Spezifikationen. Abhängig von den Anforderungen nutzt das IHP Multi-Ebenen-Photomasken für seine Maskensätze.
Bevor das IHP die Masken in die Produktion von Wafern überführen kann, müssen die Maskenanbieter eine Bewertungsprozedur/Evaluierung durchlaufen.
1) Der Photomaskenanbieter hat die Anforderungen bezüglich der Maskenqualität zu erfüllen, welche im Dokument ?IHP_mask_requirements.pdf aufgeführt sind.
2) Für die Evaluierung sollte der Maskenlieferant vier Photomasken mit kritischen Maskenebenen für einen feststehenden MPW-Durchlauf bereitstellen.
Diese kritischen Maskenebenen sind beschrieben in ?IHP_mask_requirements.pdf?. Das IHP wird bestimmte/dedizierte Wafer mit entsprechenden Maskenebenen prozessieren und die Qualität hinsichtlich folgender Merkmale prüfen:
a) Messungen von photolithographischen Kontrollstrukturen
b) Messungen von elektrischen PKM (Prozess-Kontroll-Monitore) Strukturen
c) Evaluierung der Ausbeute
3) Die Evaluierungsergebnisse werden mit den Maskenanbietern ausgetauscht.
Die Beschaffung erfolgt bedarfsgerecht über den Nutzungszeitraum auf Basis eines Rahmenvertrages.
Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2015-09-22.
Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2015-07-29.
Anbieter
Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:
Wer?
Wie?
Geschichte der Beschaffung
| Datum |
Dokument |
| 2015-07-29
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Auftragsbekanntmachung
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| 2016-03-09
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Bekanntmachung über vergebene Aufträge
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