Beschaffung eines Tieftemperatur Rastersondenmikroskops (DFG-GZ: A 724)

Deutsche Forschungsgemeinschaft e. V., Zentrale Beschaffungsstelle

Leistungsbeschreibung „Tieftemperatur Rastersondenmikroskop“.
Ausgeschrieben wird die Herstellung, Lieferung und vor Ort Inbetriebnahme eines Tieftemperatur Rastersondenmikroskops für simultane Messung von Tunnelstrom und Frequenzverschiebung auf Oberflächen metallischer, halbleitender und nichtleitender Materialien mittels kombinierter Rastertunnel- und dynamischer Rasterkraftmikroskopie zum Betrieb unter Ultrahochvakuumbedingungen und bei Temperaturen von 300K bis zu weniger als 6K. Das Mikroskop soll inklusive der für den Betrieb benötigten Vakuumkammer geliefert werden. Ein weiterer, mit dieser Kammer verbundene aber per Ventil abtrennbare Rezipient soll Probenpräparation mittels Ionenbeschuss und Heizen sowie die Deposition von Molekülen, Metallen und anorganischen Verbindungen auf bis zu mindestens 150K gekühlte und bis zu mindestens 1070K geheizte Proben unterstützen.
Im Speziellen soll die Lieferung folgende Komponenten umfassen, welche in den nächsten Abschnitten detailliert spezifiziert werden: (1) Ein Ultrahochvakuumsystem bestehend aus zwei Rezipienten sowie einer Schleuse, inklusive Methodik zur Vakuumerzeugung, Vakuumkontrolle sowie Restgasanalyse; (2) ein Tieftemperatur Rastersondenmikroskop für die rauscharme simultane Messung von Tunnelstrom und Frequenzverschiebung zur atomaren Abbildung von Oberflächen metallischer, halbleitender und speziell nichtleitender Materialien; (3) Elektronik und Software zur Ansteuerung des Rastersondenmikroskops und (4) Methodik zur Präparation von Probenoberflächen sowie zur Deposition von Molekülen, Metallen und anorganischen Verbindungen inklusive einer Schichtdickenmessung. Weitere Vorgaben bezüglich Inbetriebnahme, Einweisung und Dokumentation sind unter (5) gelistet.
Das System soll als einsatzbereites System geliefert werden und abgesehen von üblichen Verbrauchsmaterialien und Proben keine zusätzlichen Komponenten für die spezifizierte Leistung erfordern.
(1) Ultrahochvakuumsystem:
Das Ultrahochvakuumsystem soll aus 2 getrennt gepumpten Rezipienten bestehen. Hierbei ist Rezipient A für den Einbau eines Tieftemperatur Rastersondenmikroskops und Rezipient B für die Propenpräparation und ggf. Vorcharakterisierung (abgesehen von rastersondenmikroskopischen Experimenten) ausgelegt. Die Rezipienten sollen durch ein Ventil voneinander abtrennbar sein und eine Vorrichtung für den Probentransfer unter Vakuum zwischen den Rezipienten muss gegeben sein.
Rezipient A muss die Voraussetzungen für den Betrieb des unter (2) beschriebenen Rastersondenmikroskops erfüllen. Rezipient B soll so ausgelegt sein, dass neben Einbau der unter (4) beschriebenen Methodik eine Erweiterung für weitere typische Analysemethoden der Oberflächenphysik – wie zum Beispiel Photoelektronenspektroskopie – zu einem späteren Zeitpunkt möglich ist.
Jeder Rezipient soll getrennt mit Ionengetterpumpen und Titansublimationspumpen gepumpt sein, sowie getrennt oder kombiniert mit einer Turbomolekularpumpe und Vorvakuumpumpe ausgestattet sein.
Die Pumpleistung ist so auszulegen, dass eine Druckspezifikation von mindestens 3×10-10 mbar oder besser getrennt für jede Kammer erzielt werden kann. Beide Rezipienten sind jeweils mit geeigneten Messsensoren und Anzeigegeräten für die Druckmessung auszustatten. Die Ultrahochvakuumkammer soll aus nichtmagnetischem Edelstahl gefertigt sein.
Zusätzlich zu diesen beiden Rezipienten soll das System mit einer Schleuse zur Einbringung von Proben und Messsonden (für das Rastersondenmikroskop) ausgestattet sein, welche ein getrenntes Abpumpen und Ausheizen in einem dritten Rezipienten ermöglicht und dadurch speziell ein Belüften des gesamten Systems vermeidet. Eine Transfermöglichkeit von der Schleuse in einen der Rezipienten A oder B soll gegeben sein.
Alle Rezipienten sollen mit geeigneten Fenstern, die einfachen optischen Zugang für alle Arbeitsschritte ermöglichen, ausgestattet sein. Weiterhin sind an beiden Rezipienten Flansche gemäß den Anforderungen der hier und unter (4) gelisteten Methodik, sowie für typische Erweiterungen vorzusehen. Die genaue Anzahl und Position der Flansche werden bei Auftragsvergabe in Abstimmung und unter Berücksichtigung der technischen Möglichkeiten spezifiziert.
Das Vakuumsystem soll auf luftgedämpften, schwingungsisolierenden Füßen montiert sein, welche den störungsfreien Betrieb des Rastersondenmikroskops in allen Betriebsmodi durch Ausfilterung von Störungen der Umgebung erlaubt.
Das System soll Vorrichtungen für eine komfortable Durchführung des Ausheizvorgang bereitstellen und idealerweise die Heizelemente fest eingebaut haben. Weiterhin sind mit dem System ein Ausheizzelt, Ausheizpaneele oder vergleichbare thermische Isolierung zur komfortablen Anbringung an dem Vakuumsystem zu liefern. Zusätzlich soll das System ein Kontrollsystem zur Steuerung des Ausheizvorgangs beinhalten, welches speziell eine digitale Zeit- und Temperatursteuerung ermöglicht. Dieses Kontrollsystem soll weiterhin mit Sicherheitsschaltsperren zur Kontrolle der Pumpen und Ventile sowohl während des Ausheizvorgangs als auch im normalen Betrieb ausgestattet sein. Das kombinierte Kontrollsystem soll externen Zugriff der Systemparameter per Software ermöglichen.
Das Vakuumsystem sowie die unter Punkten (1), (2) und (4) gelisteten Vakuumkomponenten sollen ausheizbar sein.
Mit dem System soll weiterhin ein Instrument zur Restgasanalyse von Rezipient B geliefert werden. Dieses Instrument soll einen Massenbereich von mindestens
1 – 200 amu abdecken. Das Instrument ist einsatzbereit, d. h. inklusive ggf. benötigter Elektronikeinheit und Software, zu liefern. Als Anschlussflansch soll DN40CF vorgesehen sein.
(2) Tieftemperatur Rastersondenmikroskop:
Das Rastersondenmikroskop muss den getrennten oder simultanen Betrieb als Rastertunnel- und frequenzmoduliertes Rasterkraftmikroskop durch getrennte oder simultane Messung eines Tunnelstroms und der Frequenzverschiebung eines Schwingungssensors ermöglichen.
Das Rastersondenmikroskop muss für die zuverlässige atomare Abbildung verschiedener Oberflächen ausgelegt sein. Speziell soll das Rastersondenmikroskop die Abbildung folgender Proben mit atomarer Auflösung ermöglichen:
(1) Oberflächen von metallischen Materialien (wie zum Beispiel Cu(111) oder Au(111)); (2) Oberflächen von halbleitenden Materialien (wie zum Beispiel Si(111) oder Si(001)); (3) Oberflächen von nichtleitenden Materialien (wie zum Beispiel NaCl(001), KBr(001), CaF2(111) oder CaCO3(104)).
Zur Demonstration dieser Leistungsfähigkeit ist speziell bei Lieferung des Gerätes als Abnahmekriterium vor Ort zu zeigen: (1) Erzielung von atomarem Kontrast auf metallischer oder halbleitender Probe bei Zimmertemperatur im Rastertunnelmodus; (2) Erzielung von atomarem Kontrast auf metallischer oder halbleitender Probe bei T < 6K im Rastertunnelmodus und (3) Erzielung von atomarem Kontrast auf nichtleitendem Einkristall (z. B. NaCl, KBr) bei T < 6K im frequenzmodulierten Rasterkraftmodus.
Als Sensorunterstützung für simultane Messung von Tunnelstrom und Frequenzverschiebung soll eine der folgenden 2 Optionen A oder B vorgesehen werden:
(A) In Option A ist die direkte Unterstützung von qPlus® Sensoren oder vergleichbaren, mechanisch angeregten Stimmgabel- oder piezoelektrischen Schwingungssensoren mit üblicherweise metallischer, nasschemisch geätzter Spitze und mit Schwingungsfrequenzen im Bereich 20-100kHz (im Folgenden als Sensortyp 1 bezeichnet) gegeben. Zusätzlich soll das Mikroskop bei dieser Option für den Betrieb mit Kolibri® Sensoren oder vergleichbaren elektrisch angeregten, längsschwingenden, elektrisch gekapselten piezoelektrischen Schwingungssensoren mit Schwingungsfrequenzen um 1MHz und angefügter Spitze (im Folgenden als Sensortyp 2 bezeichnet) ausgelegt sein. Zur Vorbereitung der Unterstützung dieses Sensortyps ist insbesondere ein zusätzliches elektrisches Kabel bereitzustellen, welches die Übertragung von Signalen um 1MHz von der Sensoraufnahme aus dem Vakuumsystem erlaubt.
(B) Alternativ kann das Gerät in Option B direkt für den Betrieb mit Sensortyp 2 ausgelegt sein, in diesem Fall ist die Unterstützung von Sensortyp 1 nicht zwingend notwendig.
Die oben genannten Abnahmekriterien sind in beiden Optionen mit jeweils nur einem Sensortyp zu erfüllen. Die direkt unterstützten Sensoren sollen in-situ wechselbar sein, also zum Sensortausch kein Belüften des Geräts erfordern.
Als Sensoren für die Messung von Tunnelstromsignalen, also im Betrieb als reines Rastertunnelmikroskop, sollen nasschemisch geätzte, scharfe metallische Spitzen eingesetzt werden können.
Die elektrische Signalaufbereitung des Schwingungssignals soll bei den für die Rasterkraftmikroskopie typischerweise benötigten Bandbreiten so rauscharm wie möglich ausgeführt sein. Im Fall von Option A ist die Signalverstärkung entweder vollständig außerhalb des Vakuumsystems realisiert oder technisch so ausgelegt, dass Signale um 1MHz ohne starke Dämpfung übertragen werden können. Idealerweise ermöglicht dieses Konzept weiterhin Feldemission von der Messspitze innerhalb des Messkopfes.
Das Grundrauschen der Stromdetektion (gemessen bei für Rastertunnelmikroskopie üblichen Bandbreiten) soll so klein wie möglich sein. Ströme von 2pA und weniger sollen messbar sein, sowie soll (ggf. bei verringerter Verstärkung) eine Bandbreite von mind. 10kHz realisierbar sein. Die Stromdetektion soll sowohl an Spitzen- als auch an Probenseite möglich sein.
Die mechanische Stabilität des Messkopfes muss durch geeignete Dämpfungssysteme innerhalb des Messkopfes gesichert sein und ein Rauschen oder Störungen entlang der Z Achse (im rastertunnelmikroskopischen Tunnelkontakt) von idealerweise 2 pm und weniger erlauben.
Das Gerät soll mit einer Anzahl von einsatzbereiten Schwingungssensoren des direkt unterstützen Typs mit hohen Schwingungsgüten Q, sowie mit Sensorträgern für die Montage individueller Schwingungssensoren geliefert werden. Weiterhin sind Sensorträger für reine Tunnelsensoren (ohne Spitzendraht) mitzuliefern, sowie fertig einsetzbare Tunnelsensoren beizufügen. Zusätzlich sind genügend Transfereinrichtungen zur Lagerung von Sensoren innerhalb des Vakuumsystems und/oder ggf. benötigte Vorrichtungen oder Werkzeuge für den Transfer zu liefern.
Das Mikroskop soll einen Betrieb im Temperaturbereich von 300K bis weniger als 6K erlauben, wobei sowohl die Probe als auch die Spitze Temperaturen von weniger als 6K erreichen sollen. Die Kühlung soll durch einen Badkryostaten realisiert sein, welcher eine möglichst lange Standzeit bei sowohl T < 6K (Betrieb mit flüssigem Helium) als auch bei T ~ 77K (Betrieb mit flüssigem Stickstoff) erlaubt. Das Rastersondenmikroskop soll eine Temperaturmessung am Messkopf ermöglichen und soll mit ggf. hierzu benötigtem Sensor, Elektronik, Anzeigegerät und/oder Software geliefert werden. Weiterhin ist eine Messung des Helium Füllstandes bei Betrieb mit flüssigem Helium durch einen geeigneten Sensor inklusive benötigter Elektronik, Anzeigegerät und/oder Software mitzuliefern.
Die Probenaufnahme im Messkopf soll zu Specs®/Omicron® Probenhaltern (oder Vergleichbaren) kompatibel sein. Die Probe soll in-situ und bei kaltem Messkopf wechselbar sein, ein Transfer zwischen dem unter (4) spezifizierten Manipulator sowie zu der im Folgenden spezifizierten Lagermöglichkeit muss möglich sein.
Die Messsonde muss durch geeignete Stellwerke relativ zur Probe positionierbar sein. Hierbei ist ein möglichst großer Bereich entlang der X, Y und Z Achsen zu ermöglichen. Speziell sollen Proben mit einer Höhe von 5 mm und mehr eingesetzt werden können, und ein möglichst großer Bereich lateral auf der Probe anfahrbar sein. Der Scanbereich des Mikroskops soll entlang der X, Y und Z Achsen ebenfalls möglichst groß sein. Speziell soll es möglich sein, flache Proben auf möglichst großer Skala untersuchen zu können.
In der Probenaufnahme innerhalb des Messkopfes sind mindestens zwei zusätzliche elektrische Kontakte zum Probenhalter bereitzustellen. Diese Kontakte sollen zusätzlich zum Rastertunnelsignal ausgeführt sein. Diese Kontakte sollen so ausgelegt sein, dass sie während rastersondenmikroskopischen Messungen benutzbar sind. Der Lieferumfang des Geräts soll geeignete Probenhalter mit Zugriff auf die zusätzlichen elektrischen Kontakte umfassen, sofern die Kontakte nicht grundsätzlich in den Probenhaltern ausgeführt sind.
Weiterhin soll der Lieferumfang zusätzliche Probenhalter (idealerweise aus Molybdän) für die Aufnahme und Präparation von halbleitenden Proben wie etwa Si(111) oder Si(001), sowie weitere Probenhalter (idealerweise aus Molybdän oder Tantal) für die Aufnahme von metallischen Proben wie z. B. Cu(111) oder Au(111) und weitere leere Probenplatten (idealerweise aus Molybdän oder Tantal) für individuelle Aufbauten beinhalten. Die Probenhalter müssen die probenspezifische in-situ Präparation der jeweiligen Probentypen im gelieferten Gerät ermöglichen.
In Nähe des Messkopfes sollen Lagerplätze für Proben und Messsensoren vorgesehen sein. Ein Transfer von Proben und Messsonden zwischen Lagerplatz und Messkopf muss in-situ und bei gekühltem Messkopf möglich sein. Weiterhin soll ein Transfer aus dem unter (4) spezifizierten Manipulatorarm in den Messkopf möglich sein ohne dass die Probe sich stark aufwärmt. Idealerweise wird mindestens eine der Probenlagerungen so ausgelegt, dass die Probe gekühlt gelagert werden kann.
Der Messkopf soll mindestens zwei optische Fenster zur optischen Kontrolle der Spitze und Probe besitzen, sowie mindestens einen Zugang vorsehen, der ein Aufbringen von Metallen, Molekülen oder anorganischen Verbindungen mit der unter (4) beschrieben Depositionsvorrichtung direkt auf die Probe im Messkopf erlaubt.
(3) Ansteuerungselektronik für Rastersondenmikroskop:
Eine Ansteuerelektronik für das kombinierte Rastertunnel- und Rasterkraftmikroskop im frequenzmodulierten Modus zur Erzeugung sämtlicher Nieder- und Hochspannungssignale sowie zur Aufbereitung, Analyse und Speicherung sämtlicher Eingangssignale ist mit der Vakuumkammer und dem Rastersondenmikroskop mitzuliefern. Die Elektronik soll weiterhin die Ansteuerung der Grobpositionierung der Messsonde relativ zur Probe realisieren.
Die Elektronik soll den derzeitigen Standard bezüglich der eingesetzten Hardware (speziell der Analog-Digital-, Digital-Analogwandlung sowie der Signalverarbeitungsleistung) und der eingesetzten Software (speziell der unten beschriebenen Bereitstellung von individueller Skriptmöglichkeit und eines Programmierinterfaces) erfüllen. Neben den 8 typischen Messkanälen Topographie, Tunnelstrom, Frequenzverschiebung, Phase, Amplitude, Anregungsamplitude, Kelvinsondensignal und Kelvinsondenfehlersignal sollen mind. 5 weitere analoge Eingangskanäle zur freien Verfügung vorhanden sein. Weiterhin soll der Anschluss einer externen Phasenregelschleife inklusive Zugriff auf das Eingangssignal des Topographieregelkreises möglich sein.
Die Elektronik soll alle üblichen Messmodi der Rastersondenmikroskopie unterstützen. Hierzu zählen insbesondere:
— Abbildungsmodus in Strom- und Frequenzverschiebungsregelung;
— „Multipass“ oder „lift-off“ Modus;
— Kelvinsondenmikroskopie;
— Spektroskopiemodi für Rastertunnelmikroskopie (z. B. STS, IETS);
— Spektroskopiemodi für Rasterkraftmikroskopie (z. B. Df(V), Df(Z));
— „Gridspektroskopie“, hierbei werden Daten systematisch entlang aller drei Raumrichtungen aufgenommen und als Volumendatensatz abgespeichert;
— Rasterkraftmikroskopie im Modus konstanter Amplitude;
— Manipulationsexperimente, speziell die Definition von und Bewegung entlang individuellen Pfaden auf der Probenoberfläche.
Für die Kelvinsondenmikroskopie und Rasterkraftmikroskopie im Modus konstanter Amplitude sind die jeweils zusätzlich benötigten Regler in der Elektronik bereitzustellen. Diese sind mindestens als proportional-integral Regler (oder vergleichbar) auszulegen. Der Topographieregelkreis soll weiterhin Vorrichtungen zum Schutz der Messspitze („tip guard“) in kritischem Zustand der Sensorschwingung oder der Messelektronik haben. Idealerweise ist auch eine Begrenzung des maximalen Frequenzverschiebungsbereiches der Frequenzdetektion möglich.
Zur Detektion der Frequenzverschiebung soll eine dedizierte Phasenregelschleife in speziell hierfür geeigneter Hard- oder Software verwendet und geliefert werden. Die Detektion soll beide Sensortypen unterstützen, also einen Detektionsbereich der Sensorschwingung von mind. 10kHz bis 1,5MHz ermöglichen und hinzu einen möglichst großen Bandbreitenbereich der Frequenzdemodulation erlauben, mindestens aber 1 kHz. Die Parameter zum Betrieb der Frequenzverschiebungsdetektion sollen per Software zugänglich sein. Das Eingangsrauschen des Schwingungssignalkanals soll möglichst gering sein.
Die Ausgangskanäle für die Piezosignale sollen sowohl eine hohe Auflösung zur fein adressierbaren Positionierung der Messsonde relativ zur Probe erlauben als auch ein möglichst geringes Eigenrauschen haben. Weiterhin soll eine mechanische Anregung der piezoelektrischen Sensoren durch Ausgangsrauschen auf den Piezosignalen unterdrückt werden.
Die Elektronik wird mit der zum Betrieb benötigten Software geliefert. Eventuell benötigte Programmupdates für die Messsoftware werden nach Möglichkeit ohne zeitliche Begrenzung zur Verfügung gestellt. Die Software soll dem derzeitig üblichen Standard bezüglich der Flexibilität der Experimente entsprechen und die oben gelisteten Modi unterstützen. Hierbei soll die Software speziell Möglichkeiten zur automatisierten Ansteuerung erlauben (z. B. durch eine Skriptsprache), sowie einen externer Zugriff (z. B. durch eine zur Verfügung gestellte API) ermöglichen. Beide Zugriffsmöglichkeiten sollen idealerweise den gesamten Funktionsbereich der Elektronik abdecken, d. h. Zugriff auf sowohl die Grobpositionierung, Scanbewegung und aufgezeichneten Signale zur Verfügung stellen. Weiterhin sollen in der Software Möglichkeiten vorhanden sein, die Signale nicht nur als Funktion der Spitzenposition, sondern auch als Zeitserien darzustellen. Mit dem System soll ebenfalls eine Möglichkeit zum Zugriff und zur Darstellung der Messdaten geliefert werden.
Ein nach derzeitigem Standard leistungsfähiger Computerarbeitsplatz inklusive Bildschirm für den Einsatz der Messsoftware wird mit dem Gerät mitgeliefert.
(4) Methodik zur Probenpräparation:
Das System soll in Rezipient B eine Probenaufnahme beinhalten, welche die Positionierung verschiedener Proben in den unter (2) spezifizierten Probenhaltern zu der an Rezipient B verbauten und im Folgenden gelisteten Methodik erlaubt. Dieser Manipulator soll eine Bewegung entlang aller drei Raumrichtungen X, Y und Z ermöglichen, sowie eine Rotation der Probe um 360° erlauben.
Die Probenaufnahme soll durch eine eingebaute Heizvorrichtung eine Probentemperatur von mindestens 1 070K ermöglichen und das System mit den hierfür benötigten Anschlusskabeln sowie dem benötigten Netzteil geliefert werden. Eine Messung der Temperatur des Manipulators soll durch Einbau eines geeigneten Sensors möglich sein. Idealerweise lässt sich das Netzteil über eine Programmierschnittstelle ansteuern.
Weiterhin soll diese oder eine weitere Probenaufnahme kühlbar sein, hierbei ist eine Probentemperatur von 150K und weniger zu erreichen. Das System soll das zum Kühlen benötigte Zubehör (exklusive kryogenen Medien) mitliefern, sowie ebenfalls eine Temperaturmessung durch Einbau eines geeigneten Sensors ermöglichen. Ein Transfer der gekühlten Probe von dieser Probenaufnahme in das Rastersondenmikroskop soll möglich sein.
Diese oder eine weitere Probenaufnahme soll für die Aufnahme der Messsonden ausgelegt sein und soll speziell ein Ionenbombardement der Messspitzen ermöglichen. Hierbei soll die Geometrie idealerweise ein Bombardement von vorne, d. h. mit dem Ionenstrahl senkrecht auf die Spitze gerichtet, vorsehen.
Mindestens eine der Probenaufnahmen soll mindestens einen elektrischen Kontakt (zusätzlich zur Masse) zu den Probenhaltern herstellen, welcher die Präparation von Oberflächen halbleitender Materialien, wie z. B. Si(111) oder Si(001), durch Direktstromheizung ermöglicht. Der elektrische Kontakt wie auch die Zuleitungen sollen für einen Strom von mindestens 8 A ausgelegt sein.
Das System soll eine Vorrichtung zur Deposition von verschiedenen Molekülen, Metallen, sowie anorganischen Verbindungen beinhalten. Diese Vorrichtung soll die gleichzeitige oder sequentielle Deposition von mindestens zwei Materialien ermöglichen, wobei die sequenzielle Deposition zeitlich nicht signifikant verzögert sein darf. Eine Temperatur von ca. 2 270K oder mehr zur Deposition von Metallen mit hohem Schmelzpunkt soll erreicht werden können. Weiterhin muss eine Vorrichtung geschaffen werden um mögliche Ionen, die bei Erhitzung der Materialien entstehen könnten, auszufiltern. Das Instrument ist voll einsatzbereit (d. h. inklusive Anschlusskabeln, Steuerungseinheit und ggf. benötigter Software) zu liefern und muss für den Ultrahochvakuumbetrieb ausgelegt sein. Die Vorrichtung soll an einem DN40CF Flansch montierbar sein und in Rezipient B entsprechend des benötigten Fokuspunktes relativ zur Probe positionierbar sein. Weiterhin soll es möglich sein, die Depositionsquelle zur direkten Deposition der Materialien auf die sich im Scankopf befindenden Probe an Rezipient A anzubauen.
Zur Kontrolle der Deposition soll das System mit einem Dünnschichtmonitor in Rezipient B ausgelegt sein. Dieser soll unter Ultrahochvakuumbedingungen an die Stelle der Probe positionierbar sein und eine Genauigkeit der Schichtdickenauflösung von mindestens 1 Å ermöglichen. Der Dünnschichtmonitor ist voll einsatzbereit, d. h. inklusive ggf. benötigten Vakuumbauteilen, Anschlusskabeln, Steuerungseinheit und ggf. benötigter Software zu liefern.
Zur Präparation von Messsonden und Oberflächen soll eine Ionenquelle zum Bombardement mit ionisierten Edelgasen geliefert werden. Um eine hohe Reinheit des Ionenstrahls sicherzustellen soll die Ionenquelle ein Filament beinhalten, welches sich idealerweise zusätzlich nicht line-in-sight zur Probe befindet. Einstellbare Strahlenergien sollen mindestens den Energiebereich von 0.5 bis 2keV abdecken und der Strahldurchmesser soll der Probengröße entsprechen. Das Instrument soll für den Betrieb im Ultrahochvakuum ausgelegt sein und inklusive Steuerungseinheit, elektrischen Anschlusskabeln sowie inkl. ggf. Software geliefert werden.
(5) weitere Vorgaben:
Das System soll – abgesehen von üblichen Verbrauchsmaterialien und Ressourcen wie z. B. kryogenen Medien, Druckluft oder Strom – einsatzbereit geliefert werden. Das System soll von qualifiziertem Personal vor Ort aufgebaut und in Betrieb genommen werden, hierbei sind insbesondere oben spezifizierte Abnahmekriterien bezüglich Auflösungsvermögen zu erfüllen. Der Versand des Systems ist vom Anbieter zu übernehmen. Mit oder zusätzlich zu der Abnahme des Geräts ist eine Einweisung des wissenschaftlichen Personals vor Ort durchzuführen.
Dem Lieferumfang sind Dokumentationen und/oder Bedienungsanleitungen aller Komponenten hinzuzufügen. Die Dokumentation soll so umfassend wie möglich sein.
Der Anbieter des Gerätes soll auch nach Lieferung Serviceleistungen anbieten. Hierbei soll geschultes Personal zu technischen Anfragen verfügbar sein, sowie die Beschaffung von ggf. benötigten Ersatzteilen und die Beauftragung im Reparaturfall möglich sein. Weiterhin soll über den Hersteller der als Hauptsensor eingesetzte Sensortyp mit hoher Qualität langfristig verfügbar sein.

Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2016-09-14. Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2016-08-15.

Anbieter
Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt: