E_848_219415 cl-wit – 5 manuelle Nassbänke, 2 IPA-Trockner, 2 manuelle Nassbänke, 2 Spin Rinse Dryer: Das Ausschreibungspaket umfasst folgende manuellen Nassbänke (wet benches) und Komponenten für den Parallelbetrieb von 150 mm und 200 mm Wafern: * Neubeschaffung einer Nassbank für Metall-Ätzen (FeOL and BeOL). * Neubeschaffung einer Nassbank für Nitrid-Ätzen (FeOL and BeOL). * Neubeschaffung einer Nassbank für anisotropes Si-Ätzen (FeOL and BeOL). * Neubeschaffung einer Nassbank für anisotropes Si-Ätzen (Post-Processing). * Neubeschaffung einer Nassbank für die Bearbeitung organischer Materialien und Lift-Off-Prozesse unter Verwendung von z.B. NMP, Aceton, IPA. * Neubeschaffung von 2 IPA-Trocknern für 200 mm (Optional: Parallelbetrieb 150 mm und 200 mm). Neubeschaffung einer Nassbank für Metall- und Oxid-Ätzen. * Neubeschaffung einer Nassbank für Spezial-Bearbeitung (Glas-Substrate). * Neubeschaffung von 2 SRD's für die 200 mm Prozessierung. Die Anlagen sind für den Einsatz in der Halbleiter-MEMS-Fertigung in einem ISO 4 Reinraum vorgesehen. Die Nassbänke erlauben die Prozessierung und Überwachung von 150 mm und 200 mm Wafern im Parallelbetrieb in Teflon-Carriern oder teilweise sogenannten Wafer Holder Tandem. Zeitaufgelöste Aufzeichnung und Überwachung aller relevanter Prozess-Daten (z. B. alle Bedienschritte, Fehlermeldungen und Prozessparametern) mit Datum und Uhrzeit sowie eine Schnittstelle zur leichten Datensicherung. Alle verwendeten Materialien (Dichtungen, Ventile, Arbeitsflächen, Auffangwannen etc.) müssen für die jeweiligen Prozesse ausgelegt und reinraumkompatibel sein. Die Anlagen verfügen über alle notwendigen Sicherheitseinrichtungen (Leck-Sensorik, Signal-Lampen, UPS, Löschanlage für die Lösemittelnassbank etc.). Alle notwendigen Schnittstellen für bauseitige Entsorgung und Medienversorgung sind vorhanden.
Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2016-03-03.
Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2016-02-02.
Anbieter
Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:
Auftragsbekanntmachung (2016-02-02) Objekt Umfang der Beschaffung
Titel: Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke
Menge oder Umfang: 7 Manuelle Nassbänke;2 IPA-Trockner, 2 Spin Rinse Dryer.
Metadaten der Bekanntmachung
Originalsprache: Deutsch 🗣️
Dokumenttyp: Auftragsbekanntmachung
Art des Auftrags: Lieferungen
Verordnung: Europäische Union, mit GPA-Beteiligung
Gemeinsames Vokabular für öffentliche Aufträge (CPV)
Code: Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke📦
Verfahren
Verfahrensart: Verhandlungsverfahren
Angebotsart: Angebot für ein oder mehrere Los(e)
Vergabekriterien
Wirtschaftlichstes Angebot
Öffentlicher Auftraggeber Identität
Land: Deutschland 🇩🇪
Art des öffentlichen Auftraggebers: Sonstiges
Name des öffentlichen Auftraggebers: Fraunhofer Gesellschaft e. V.
Postanschrift: Hansastr. 27 c
Postleitzahl: 80686
Postort: München
Kontakt
Internetadresse: http://www.fraunhofer.de🌏
E-Mail: einkauf@zv.fraunhofer.de📧
Anforderung Unterlagen – erhältlich bei: Die Vergabeunterlagen können ausschließlich über das Vergabeportal der deutschen e-Vergabe unter www.deutsche-evergabe.de abgerufen werden.
Nach § 11 der Vergabeordnung haben wir uns entschieden die Vergabeunterlagen ausschließlich digital über die Deutsche eVergabe anzubieten.
Die Nutzung der Plattform www.deutsche-evergabe.de ist kostenpflichtig.
Bewerber unterliegen mit der Angebotsabgabe auch den Bestimmungen über nichtberücksichtigte Angebot (§22 EG VOL).
Anforderung Unterlagen – erhältlich bei: Die Vergabeunterlagen können ausschließlich über das Vergabeportal der deutschen e-Vergabe unter www.deutsche-evergabe.de abgerufen werden.
Nach § 11 der Vergabeordnung haben wir uns entschieden die Vergabeunterlagen ausschließlich digital über die Deutsche eVergabe anzubieten.
Das Ausschreibungspaket umfasst folgende manuellen Nassbänke (wet benches) und Komponenten für den Parallelbetrieb von 150 mm und 200 mm Wafern:
* Neubeschaffung einer Nassbank für Metall-Ätzen (FeOL and BeOL).
* Neubeschaffung einer Nassbank für Nitrid-Ätzen (FeOL and BeOL).
* Neubeschaffung einer Nassbank für anisotropes Si-Ätzen…
… (FeOL and BeOL).
… (Post-Processing).
* Neubeschaffung einer Nassbank für die Bearbeitung organischer Materialien und Lift-Off-Prozesse unter Verwendung von z.B. NMP, Aceton, IPA.
* Neubeschaffung von 2 IPA-Trocknern für 200 mm (Optional: Parallelbetrieb 150 mm und 200 mm).
Neubeschaffung einer Nassbank für Metall- und Oxid-Ätzen.
* Neubeschaffung einer Nassbank für Spezial-Bearbeitung (Glas-Substrate).
* Neubeschaffung von 2 SRD's für die 200 mm Prozessierung.
Die Anlagen sind für den Einsatz in der Halbleiter-MEMS-Fertigung in einem ISO 4 Reinraum vorgesehen. Die Nassbänke erlauben die Prozessierung und Überwachung von 150 mm und 200 mm Wafern im Parallelbetrieb in Teflon-Carriern oder teilweise sogenannten Wafer Holder Tandem. Zeitaufgelöste Aufzeichnung und Überwachung aller relevanter Prozess-Daten (z. B. alle Bedienschritte, Fehlermeldungen und Prozessparametern) mit Datum und Uhrzeit sowie eine Schnittstelle zur leichten Datensicherung. Alle verwendeten Materialien (Dichtungen, Ventile, Arbeitsflächen, Auffangwannen etc.) müssen für die jeweiligen Prozesse ausgelegt und reinraumkompatibel sein. Die Anlagen verfügen über alle notwendigen Sicherheitseinrichtungen (Leck-Sensorik, Signal-Lampen, UPS, Löschanlage für die Lösemittelnassbank etc.). Alle notwendigen Schnittstellen für bauseitige Entsorgung und Medienversorgung sind vorhanden.
Die Anlagen sind für den Einsatz in der Halbleiter-MEMS-Fertigung in einem ISO 4 Reinraum vorgesehen. Die Nassbänke erlauben die Prozessierung und Überwachung von 150 mm und 200 mm Wafern im Parallelbetrieb in Teflon-Carriern oder teilweise sogenannten Wafer Holder Tandem. Zeitaufgelöste Aufzeichnung und Überwachung aller relevanter Prozess-Daten (z. B. alle Bedienschritte, Fehlermeldungen und Prozessparametern) mit Datum und Uhrzeit sowie eine Schnittstelle zur leichten Datensicherung. Alle verwendeten Materialien (Dichtungen, Ventile, Arbeitsflächen, Auffangwannen etc.) müssen für die jeweiligen Prozesse ausgelegt und reinraumkompatibel sein. Die Anlagen verfügen über alle notwendigen Sicherheitseinrichtungen (Leck-Sensorik, Signal-Lampen, UPS, Löschanlage für die Lösemittelnassbank etc.). Alle notwendigen Schnittstellen für bauseitige Entsorgung und Medienversorgung sind vorhanden.
Losnummer: 1
Bezeichnung des Loses: Manuelle Nassbänke
Kurze Beschreibung:
E_848_219415 cl-wit:Das Ausschreibungspaket umfasst folgende manuellen Nassbänke (wet benches) und Komponenten für den Parallelbetrieb von 150 mm und 200 mm Wafern:* Neubeschaffung einer Nassbank für Metall-Ätzen (FeOL and BeOL).* Neubeschaffung einer Nassbank für Nitrid-Ätzen (FeOL and BeOL).* Neubeschaffung einer Nassbank für anisotropes Si-Ätzen (FeOL and BeOL).* Neubeschaffung einer Nassbank für anisotropes Si-Ätzen (Post-Processing).* Neubeschaffung einer Nassbank für die Bearbeitung organischer Materialien und Lift-Off-Prozesse unter Verwendung von z.B. NMP, Aceton, IPA.* Neubeschaffung von zwei IPA-Trocknern für 200 mm (Optional: Parallelbetrieb 150 mm und 200 mm).Die Anlagen sind für den Einsatz in der Halbleiter-MEMS-Fertigung in einem ISO 4 Reinraum vorgesehen. Die Nassbänke erlauben die Prozessierung und Überwachung von 150 mm und 200 mm Wafern im Parallelbetrieb in Teflon-Carriern oder teilweise sogenannten Wafer Holder Tandem. Zeitaufgelöste Aufzeichnung und Überwachung aller relevanter Prozess-Daten (z. B. alle Bedienschritte, Fehlermeldungen und Prozessparametern) mit Datum und Uhrzeit sowie eine Schnittstelle zur leichten Datensicherung. Alle verwendeten Materialien (Dichtungen, Ventile, Arbeitsflächen, Auffangwannen etc.) müssen für die jeweiligen Prozesse ausgelegt und reinraumkompatibel sein. Die Anlagen verfügen über alle notwendigen Sicherheitseinrichtungen (Leck-Sensorik, Signal-Lampen, UPS, Löschanlage für die Lösemittelnassbank etc.). Alle notwendigen Schnittstellen für bauseitige Entsorgung und Medienversorgung sind vorhanden.
E_848_219415 cl-wit:Das Ausschreibungspaket umfasst folgende manuellen Nassbänke (wet benches) und Komponenten für den Parallelbetrieb von 150 mm und 200 mm Wafern:* Neubeschaffung einer Nassbank für Metall-Ätzen (FeOL and BeOL).* Neubeschaffung einer Nassbank für Nitrid-Ätzen (FeOL and BeOL).* Neubeschaffung einer Nassbank für anisotropes Si-Ätzen (FeOL and BeOL).* Neubeschaffung einer Nassbank für anisotropes Si-Ätzen (Post-Processing).* Neubeschaffung einer Nassbank für die Bearbeitung organischer Materialien und Lift-Off-Prozesse unter Verwendung von z.B. NMP, Aceton, IPA.* Neubeschaffung von zwei IPA-Trocknern für 200 mm (Optional: Parallelbetrieb 150 mm und 200 mm).Die Anlagen sind für den Einsatz in der Halbleiter-MEMS-Fertigung in einem ISO 4 Reinraum vorgesehen. Die Nassbänke erlauben die Prozessierung und Überwachung von 150 mm und 200 mm Wafern im Parallelbetrieb in Teflon-Carriern oder teilweise sogenannten Wafer Holder Tandem. Zeitaufgelöste Aufzeichnung und Überwachung aller relevanter Prozess-Daten (z. B. alle Bedienschritte, Fehlermeldungen und Prozessparametern) mit Datum und Uhrzeit sowie eine Schnittstelle zur leichten Datensicherung. Alle verwendeten Materialien (Dichtungen, Ventile, Arbeitsflächen, Auffangwannen etc.) müssen für die jeweiligen Prozesse ausgelegt und reinraumkompatibel sein. Die Anlagen verfügen über alle notwendigen Sicherheitseinrichtungen (Leck-Sensorik, Signal-Lampen, UPS, Löschanlage für die Lösemittelnassbank etc.). Alle notwendigen Schnittstellen für bauseitige Entsorgung und Medienversorgung sind vorhanden.
E_848_219415 cl-wit:
* Neubeschaffung von zwei IPA-Trocknern für 200 mm (Optional: Parallelbetrieb 150 mm und 200 mm).
Menge oder Umfang: 5 Stück.
Losnummer: 2
Bezeichnung des Loses: IPA-Trockner
Kurze Beschreibung:
E_848_219415 cl-wit:Neubeschaffung von zwei IPA-Trocknern für 200 mm (Optional: Parallelbetrieb 150 mm und 200 mm).· Prozessierung von 200 mm Wafer mit Waferdicken von 390 bis 1500 µm (Optional: Parallelbetrieb 150 mm und 200 mm).· Entregris Standard Process Carrier verwendbar.· Mehrere Rezeptfunktionen.· IPA-Versorgung mit Flasche möglich.· Incl. aller erforderlichen Sicherheitseinrichtungen.Refurbished Geräte werden auch akzeptiert.
E_848_219415 cl-wit:Neubeschaffung von zwei IPA-Trocknern für 200 mm (Optional: Parallelbetrieb 150 mm und 200 mm).· Prozessierung von 200 mm Wafer mit Waferdicken von 390 bis 1500 µm (Optional: Parallelbetrieb 150 mm und 200 mm).· Entregris Standard Process Carrier verwendbar.· Mehrere Rezeptfunktionen.· IPA-Versorgung mit Flasche möglich.· Incl. aller erforderlichen Sicherheitseinrichtungen.Refurbished Geräte werden auch akzeptiert.
Neubeschaffung von zwei IPA-Trocknern für 200 mm (Optional: Parallelbetrieb 150 mm und 200 mm).
· Prozessierung von 200 mm Wafer mit Waferdicken von 390 bis 1500 µm (Optional: Parallelbetrieb 150 mm und 200 mm).
· Entregris Standard Process Carrier verwendbar.
· Mehrere Rezeptfunktionen.
· IPA-Versorgung mit Flasche möglich.
· Incl. aller erforderlichen Sicherheitseinrichtungen.
Refurbished Geräte werden auch akzeptiert.
Menge oder Umfang: 2 Stück.
Losnummer: 3
Kurze Beschreibung:
E_848_219412 cl-wit:Das Ausschreibungspaket umfasst die Neubeschaffung folgender manueller Nassbänke (wet benches) und weiterer Komponenten für den Parallelbetrieb von 150 mm und 200 mm Wafern:* Neubeschaffung einer Nassbank für Metall- und Oxid-Ätzen;* Neubeschaffung einer Nassbank für Spezial-Bearbeitung (Glas-Substrate);* Neubeschaffung von zwei SRD's für die 200 mm Prozessierung.Die Anlagen sind für den Einsatz in der Halbleiter-MEMS-Fertigung in einem ISO 4 Reinraum vorgesehen. Die Nassbänke erlauben die Prozessierung und Überwachung von 150 mm und 200 mm Wafern im Parallelbetrieb in Teflon-Carriern. Zeitaufgelöste Aufzeichnung und Überwachung aller relevanter Prozess-Daten (z. B. alle Bedienschritte, Fehlermeldungen und Prozessparametern) mit Datum und Uhrzeit sowie eine Schnittstelle zur leichten Datensicherung. Alle verwendeten Materialien (Dichtungen, Ventile, Arbeitsflächen, Auffangwannen etc.) müssen für die jeweiligen Prozesse ausgelegt und reinraumkompatibel sein. Die Anlagen verfügen über alle notwendigen Sicherheitseinrichtungen (Leck-Sensorik, Signal-Lampen, UPS, etc.). Alle notwendigen Schnittstellen für bauseitige Entsorgung und Medienversorgung sind vorhanden.
E_848_219412 cl-wit:Das Ausschreibungspaket umfasst die Neubeschaffung folgender manueller Nassbänke (wet benches) und weiterer Komponenten für den Parallelbetrieb von 150 mm und 200 mm Wafern:* Neubeschaffung einer Nassbank für Metall- und Oxid-Ätzen;* Neubeschaffung einer Nassbank für Spezial-Bearbeitung (Glas-Substrate);* Neubeschaffung von zwei SRD's für die 200 mm Prozessierung.Die Anlagen sind für den Einsatz in der Halbleiter-MEMS-Fertigung in einem ISO 4 Reinraum vorgesehen. Die Nassbänke erlauben die Prozessierung und Überwachung von 150 mm und 200 mm Wafern im Parallelbetrieb in Teflon-Carriern. Zeitaufgelöste Aufzeichnung und Überwachung aller relevanter Prozess-Daten (z. B. alle Bedienschritte, Fehlermeldungen und Prozessparametern) mit Datum und Uhrzeit sowie eine Schnittstelle zur leichten Datensicherung. Alle verwendeten Materialien (Dichtungen, Ventile, Arbeitsflächen, Auffangwannen etc.) müssen für die jeweiligen Prozesse ausgelegt und reinraumkompatibel sein. Die Anlagen verfügen über alle notwendigen Sicherheitseinrichtungen (Leck-Sensorik, Signal-Lampen, UPS, etc.). Alle notwendigen Schnittstellen für bauseitige Entsorgung und Medienversorgung sind vorhanden.
E_848_219412 cl-wit:
Das Ausschreibungspaket umfasst die Neubeschaffung folgender manueller Nassbänke (wet benches) und weiterer Komponenten für den Parallelbetrieb von 150 mm und 200 mm Wafern:
* Neubeschaffung einer Nassbank für Metall- und Oxid-Ätzen;
* Neubeschaffung einer Nassbank für Spezial-Bearbeitung (Glas-Substrate);
* Neubeschaffung von zwei SRD's für die 200 mm Prozessierung.
Die Anlagen sind für den Einsatz in der Halbleiter-MEMS-Fertigung in einem ISO 4 Reinraum vorgesehen. Die Nassbänke erlauben die Prozessierung und Überwachung von 150 mm und 200 mm Wafern im Parallelbetrieb in Teflon-Carriern. Zeitaufgelöste Aufzeichnung und Überwachung aller relevanter Prozess-Daten (z. B. alle Bedienschritte, Fehlermeldungen und Prozessparametern) mit Datum und Uhrzeit sowie eine Schnittstelle zur leichten Datensicherung. Alle verwendeten Materialien (Dichtungen, Ventile, Arbeitsflächen, Auffangwannen etc.) müssen für die jeweiligen Prozesse ausgelegt und reinraumkompatibel sein. Die Anlagen verfügen über alle notwendigen Sicherheitseinrichtungen (Leck-Sensorik, Signal-Lampen, UPS, etc.). Alle notwendigen Schnittstellen für bauseitige Entsorgung und Medienversorgung sind vorhanden.
Die Anlagen sind für den Einsatz in der Halbleiter-MEMS-Fertigung in einem ISO 4 Reinraum vorgesehen. Die Nassbänke erlauben die Prozessierung und Überwachung von 150 mm und 200 mm Wafern im Parallelbetrieb in Teflon-Carriern. Zeitaufgelöste Aufzeichnung und Überwachung aller relevanter Prozess-Daten (z. B. alle Bedienschritte, Fehlermeldungen und Prozessparametern) mit Datum und Uhrzeit sowie eine Schnittstelle zur leichten Datensicherung. Alle verwendeten Materialien (Dichtungen, Ventile, Arbeitsflächen, Auffangwannen etc.) müssen für die jeweiligen Prozesse ausgelegt und reinraumkompatibel sein. Die Anlagen verfügen über alle notwendigen Sicherheitseinrichtungen (Leck-Sensorik, Signal-Lampen, UPS, etc.). Alle notwendigen Schnittstellen für bauseitige Entsorgung und Medienversorgung sind vorhanden.
Losnummer: 4
Bezeichnung des Loses: Spin Rinse Dryer
Kurze Beschreibung:
E_848_219415 cl-wit:Neubeschaffung von zwei SRD's für die 200 mm Prozessierung:· Prozessierung von 200 mm Wafer mit Waferdicken von 390 bis 1500 µm (Optional: Parallelbetrieb 150 mm und 200 mm).· Entregris Standard Process Carrier verwendbar.· Mehrere Rezeptfunktionen.· 1 – 2000 rpm +/- 1 %.· Ionisationseinheit.· geheizter Stickstoff verfügbar.
E_848_219415 cl-wit:Neubeschaffung von zwei SRD's für die 200 mm Prozessierung:· Prozessierung von 200 mm Wafer mit Waferdicken von 390 bis 1500 µm (Optional: Parallelbetrieb 150 mm und 200 mm).· Entregris Standard Process Carrier verwendbar.· Mehrere Rezeptfunktionen.· 1 – 2000 rpm +/- 1 %.· Ionisationseinheit.· geheizter Stickstoff verfügbar.
Neubeschaffung von zwei SRD's für die 200 mm Prozessierung:
· 1 – 2000 rpm +/- 1 %.
· Ionisationseinheit.
· geheizter Stickstoff verfügbar.
Es werden Varianten akzeptiert ✅
Menge oder Umfang:
7 Manuelle Nassbänke;
2 IPA-Trockner, 2 Spin Rinse Dryer.
Beschreibung der Optionen: Optional soll Zubehör angeboten werden.
Dauer: 5 Monate
Referenznummer: E_848_219415 cl-wit
Bezeichnung des von der EU finanzierten Projekts oder Programms: EFRE-Mittel.
Ort der Leistung
Hauptstandort oder Erfüllungsort: 01109 Dresden.
Rechtliche, wirtschaftliche, finanzielle und technische Informationen Bedingungen für die Teilnahme
Befähigung zur Berufsausübung: (1) Firmenprofil.
Wirtschaftliche und finanzielle Leistungsfähigkeit:
(2) Angaben zum Umsatz der letzten 3 Geschäftsjahre;
(3) Eigenerklärung über das ordnungsgemäße Abführen von Steuern und Abgaben sowie der Beiträge zur gesetzlichen Sozialversicherung;
(4) Eigenerklärung, dass weder ein Insolvenzverfahren in Eröffnung ist, eröffnet wurde oder mangels Masse abgelehnt wurde noch das sich das Unternehmen in Liquidation befindet;
(5) Eigenerklärung, dass nachweislich keine schweren Verfehlungen begangen wurden, die die Zuverlässigkeit als Bewerber in Frage stellen;
(6) Auszug aus dem Gewerbezentralregister gemäß § 150a GewO (wird durch den Auftraggeber angefordert).
Technische und berufliche Fähigkeiten:
(7) Komplette Referenzen (Kontaktdaten, Ansprechpartner) von vergleichbaren Anlagen für CMOS und MEMS Prozessierungen, nicht älter als 3 Jahre;
(8) Nennung der Anzahl der gelieferten vergleichbaren Systeme für die Halbleiterindstrie in Europa;
(9) Nennung der Anzahl der gelieferten vergleichbaren Systeme für die Halbleiterindstrie weltweit;
(10) Angabe der Entfernung des Servicestandortes zum Institut IPMS;
(11) Angabe der Anzahl der Mitarbeiter im Service.
Auftragsausführung
Wichtigste Finanzierungsbedingungen und Zahlungsmodalitäten und/oder Verweis auf die einschlägigen Bestimmungen, die sie regeln: Nach VOL und Vergabeunterlagen.
Rechtsform der Gruppe von Wirtschaftsteilnehmern, an die der Auftrag vergeben werden soll: Gesamtschuldnerisch haftend mit bevollmächtigtem Vertreter.
Sonstige besondere Bedingungen:
Bei evtl. Einsatz von Nachunternehmern sind diese zu benennen, ihre Eignung ist ebenfalls anhand der unter III.2.) aufgeführten Eignungskriterien nachzuweisen Ferner ist zu bestätigen, dass sie im Auftragsfall zur Verfügung stehen, deren Anteil am Umfang des Auftragsgegenstandes ist darzulegen.
Bei evtl. Einsatz von Nachunternehmern sind diese zu benennen, ihre Eignung ist ebenfalls anhand der unter III.2.) aufgeführten Eignungskriterien nachzuweisen Ferner ist zu bestätigen, dass sie im Auftragsfall zur Verfügung stehen, deren Anteil am Umfang des Auftragsgegenstandes ist darzulegen.
Verfahren
Mindestzahl der Bewerber: 3
Höchstzahl der Bewerber: 5
Objektive Auswahlkriterien:
Gemäß Eignungskriterien, Referenzen, Anzahl der installierten Geräte, Servicestandort und -Mitarbeiter.
Anforderung Unterlagen – erhältlich bei: Die Vergabeunterlagen können ausschließlich über das Vergabeportal der deutschen e-Vergabe unter www.deutsche-evergabe.de abgerufen werden.
Nach § 11 der Vergabeordnung haben wir uns entschieden die Vergabeunterlagen ausschließlich digital über die Deutsche eVergabe anzubieten.
Bewerber unterliegen mit der Angebotsabgabe auch den Bestimmungen über nichtberücksichtigte Angebot (§22 EG VOL).
Ergänzende Informationen Körper überprüfen
Name: Vergabekammer des Bundes beim Bundeskartellamt
Postanschrift: Villemombler Straße 76
Postort: Bonn
Postleitzahl: 53123
Land: Deutschland 🇩🇪
Informationen zu Fristen für Nachprüfungsverfahren:
Solange ein wirksamer Zuschlag (Vertragsschluss) noch nicht erteilt ist, kann als Rechtsbehelf ein Nachprüfungsantrag bei der unter VI.4.1) genannten Stelle gestellt werden.
Bewerber/Bieter müssen Vergaberechtsverstöße unverzüglich bei der unter I.1) genannten Vergabestelle rügen, bevor sie einen Nachprüfungsantrag stellen. Wir weisen ausdrücklich auf die Antragsfrist des § 107 Abs. 3 Nr. 4 Gesetz gegen Wettbewerbsbeschränkungen (GWB) hin.
Informationen zu Fristen für Nachprüfungsverfahren
Bewerber/Bieter müssen Vergaberechtsverstöße unverzüglich bei der unter I.1) genannten Vergabestelle rügen, bevor sie einen Nachprüfungsantrag stellen. Wir weisen ausdrücklich auf die Antragsfrist des § 107 Abs. 3 Nr. 4 Gesetz gegen Wettbewerbsbeschränkungen (GWB) hin.
Bieter, deren Angebote nicht berücksichtigt werden soll, werden vor dem Zuschlag gem. §101a GWB informiert.
Dienststelle, bei der Informationen über das Überprüfungsverfahren eingeholt werden können
Name: Vergabestelle siehe I.1)
Quelle: OJS 2016/S 025-039840 (2016-02-02)
Bekanntmachung über vergebene Aufträge (2016-06-28) Objekt Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung:
Gesamtwert des Auftrags: 2 000 000 EUR 💰
Metadaten der Bekanntmachung
Dokumenttyp: Bekanntmachung über vergebene Aufträge
Gemeinsames Vokabular für öffentliche Aufträge (CPV)
Zusätzlicher CPV-Code: Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke📦 Ort der Leistung
NUTS-Region: Dresden, Kreisfreie Stadt
🏙️
Auftragsvergabe
Datum des Vertragsabschlusses: 2016-06-10 📅
Öffentlicher Auftraggeber Identität
Andere Art des öffentlichen Auftraggebers: Forschungsgesellschaft e. V.
Ergänzende Informationen Körper überprüfen
Informationen zu Fristen für Nachprüfungsverfahren:
Bewerber/Bieter müssen Vergaberechtsverstöße unverzüglich bei der unter I.1) genannten Vergabestelle rügen, bevor sie einen Nachprüfungsantrag stellen. Wir weisen ausdrücklich auf die Antragsfrist des §107 Abs. 3 Nr. 4 Gesetz gegen Wettbewerbsbeschränkungen (GWB) hin.
Informationen zu Fristen für Nachprüfungsverfahren
Bewerber/Bieter müssen Vergaberechtsverstöße unverzüglich bei der unter I.1) genannten Vergabestelle rügen, bevor sie einen Nachprüfungsantrag stellen. Wir weisen ausdrücklich auf die Antragsfrist des §107 Abs. 3 Nr. 4 Gesetz gegen Wettbewerbsbeschränkungen (GWB) hin.
Für Mediationsverfahren zuständige Stelle
Name: Vergabeprüfstelle des BMBF Referat Z 23
Postanschrift: Heinemannstraße 2
Postort: Bonn
Postleitzahl: 53175
Land: Deutschland 🇩🇪
Quelle: OJS 2016/S 126-225159 (2016-06-28)