Lieferung von 4 Reinraumgeräten für das ZGH
Im Rahmen des Forschungsbaus „Zentrum für Grenzflächendominierte Höchstleistungswerkstoffe“ (ZGH) werden die folgenden vier Reinraumgeräte benötigt:
— Eine Silizium-Tiefenätzanlage (engl. Advanced Silicon Etching (ASE)),
— Eine Anlage zur plasmaunterstützten chemischen Gasphasenabscheidung (engl. Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD)),
— Eine Anlage zum reaktiven Ionenstrahlätzen (engl. Reactive Ion Beam Etching (RIBE)) und
— Eine Reaktiv-Ionenätzanlage (engl. Reactive Ion Etching (RIE)).
Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2017-01-13.
Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2016-12-01.
Wer?
Wie?
Wo?
Geschichte der Beschaffung
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Dokument |
| 2016-12-01
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Auftragsbekanntmachung
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