Kurze Beschreibung
Beschafft werden soll eine PE-CVD-Anlage zur Beschichtung von Oberflächen mit sehr dünnen Schichten aus MoS2 und WS2. Vor der Abscheidung soll eine Reinigung / Reinigungsätze / Reinigungssputtern in einer eigenen Kammer möglich sein. Die Reinheit der Oberfläche soll durch den Transport via Zentralhandlerkammer erhalten bleiben (Vakuumbedingung kritisch).