201705 – EPD Anlage
Beschaffung einer EPD (Electrophoretic deposition)-Anlage. Manuelle Anlage zur Prozessieren von diversen Substraten in einem Einzelteilprozess. Die Anlage besteht aus einem Grundkörper mit einem Spritzschutz an den Seiten und hinten. In der Anlage sind je eine DI und N2 Pistole integriert. Das Becken muss einzeln nivellierbar sein. Freie Flächen sind durch Lochplatten abgedeckt. Die Arbeitshöhe beträgt 900 mm.
Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2017-03-13.
Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2017-02-09.
Anbieter
Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:
Wer?
Wie?
Wo?
Geschichte der Beschaffung
| Datum |
Dokument |
| 2017-02-09
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Auftragsbekanntmachung
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| 2017-05-11
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Bekanntmachung über vergebene Aufträge
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