Entspiegelungsanlage Ionenstrahlsputteranlage
Die gesuchte Anlage soll optische Beschichtungen von Halbleiter-Bauelementen durchführen. Hierfür wird das Verfahren des Ionenstrahl-Sputterns gefordert. Der Prozess soll in-situ über eine optische Messung kontrolliert werden. Die hierfür nötige Software soll die optischen Beschichtungen (wie Entspiegelungen, Verspiegelungen, Filter) nach den Vorgaben berechnen. Zusätzlich zur Beschichtung soll die Möglichkeit eines Ätzens des Halbleiters mit Argon und Stickstoff möglich sein. Es sind also 2 Ionenstrahlquellen nötig. Die Anlage soll über 4 Targets verfügen.
Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2017-07-10.
Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2017-06-09.
Wer?
Wie?
Wo?
Geschichte der Beschaffung
| Datum |
Dokument |
| 2017-06-09
|
Auftragsbekanntmachung
|