Höchstauflösender Laser Direktbelichter
Die Ausschreibung betrifft eine Direktbelichter für die lithographische Strukturierung von Schichten auf Panelsubstraten. Mit dem System sollen Feinstleiterbahnen auf Panelformat erzeugt werden, daher ist eine Auflösung bis in den Submikrometerbereich notwendig.
Das System muss ausgelegt sein für die Belichtung von Polymermaterialen, die sensitiv sind in einem Wellenlängenbereich von 300 bis 500 nm. Es muss das Handling von Substraten bis zu einer Größe von 610 x 510 mm möglich sein.
Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2017-09-25.
Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2017-09-08.
Wer?
Wie?
Wo?
Geschichte der Beschaffung
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Dokument |
2017-09-08
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Auftragsbekanntmachung
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