Hochvakuum-Beschichtungsanlage
Das DLR-Institut für Vernetzte Energiesysteme plant die Beschaffung einer Hochvakuum-Anlage, die in der Beschichtung von Substraten mittels Magnetron-Sputterabscheidung Verwendung finden soll.
Prozesse, die auf der Anlage vom Lieferanten eingefahren sein sollen, sind Sputterprozesse für die Herstellung von transparenten leitfähigen Oxiden (TCOs), sehr dünnen Silberschichten (low-e), Nitrid-, Oxid- und Oxinitrid-Schichten. Für alle Prozesse ist eine hohe Schichtdickenhomogenität über der gesamten Substratfläche erforderlich. Die Nitrid-, Oxid- und Oxinitrid-Schichten sollen von metallischen Targets in reaktiven Prozessen abgeschieden werden. Dabei soll eine Regelung der Prozessgase mittels sogenannter „closed loop control“ eingesetzt werden, um die Stöchiometrie der Schichten kontrolliert einstellen zu können. Die Anlage soll für die Beschichtung von Substraten mit einer Größe (L × B) von 300 mm × 300 mm konzipiert sein.
Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2018-01-26.
Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2017-12-19.
Anbieter
Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:
Wer?
Wie?
Wo?
Geschichte der Beschaffung
| Datum |
Dokument |
| 2017-12-19
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Auftragsbekanntmachung
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| 2018-03-29
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Bekanntmachung über vergebene Aufträge
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