Kathodenzerstäubungsanlage (Sputter)
Lieferung, Installation, Inbetrieb- und Endabnahme einer Kathodenzerstäubungsanlage (Sputter) für Forschung und Entwicklung zur Dünnfilmbeschichtung von Substraten mit verschiedenen Materialien mittels Kathodenzerstäubungsverfahren (Sputtern) unter Verwendung planarer Magnetronquellen (Targets). Bearbeitet werden sollen Substrate mit unterschiedlicher Geometrie, Abmessung und Gewicht.
Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2017-10-16.
Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2017-09-08.
Anbieter
Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:
Wer?
Wie?
Wo?
Geschichte der Beschaffung
| Datum |
Dokument |
| 2017-09-08
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Auftragsbekanntmachung
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| 2018-05-16
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Bekanntmachung über vergebene Aufträge
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