Kathodenzerstäubungsanlage (Sputter)

Max-Planck-Institut für Physik

Lieferung, Installation, Inbetrieb- und Endabnahme einer Kathodenzerstäubungsanlage (Sputter) für Forschung und Entwicklung zur Dünnfilmbeschichtung von Substraten mit verschiedenen Materialien mittels Kathodenzerstäubungsverfahren (Sputtern) unter Verwendung planarer Magnetronquellen (Targets). Bearbeitet werden sollen Substrate mit unterschiedlicher Geometrie, Abmessung und Gewicht.

Deadline

Die Frist für den Eingang der Angebote war 2017-10-16. Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2017-09-08.

Anbieter

Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:

• PREVAC sp z o. o.

Wer?

• Max-Planck-Institut für Physik

Wie?

• Maschinen für allgemeine und besondere Zwecke › Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke

Wo?

• Oberbayern › München, Kreisfreie Stadt

Geschichte der Beschaffung

Datum	Dokument
2017-09-08	Auftragsbekanntmachung
2018-05-16	Bekanntmachung über vergebene Aufträge

Auftragsbekanntmachung (2017-09-08)
Objekt
Umfang der Beschaffung
Titel: Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke
Referenznummer: AS17/10
Kurze Beschreibung:

Metadaten der Bekanntmachung
Originalsprache: Deutsch 🗣️
Dokumenttyp: Auftragsbekanntmachung
Art des Auftrags: Lieferungen
Verordnung: Europäische Union, mit GPA-Beteiligung
Gemeinsames Vokabular für öffentliche Aufträge (CPV)
Code: Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke 📦
Ort der Leistung
NUTS-Region: München, Kreisfreie Stadt 🏙️

Verfahren
Verfahrensart: Offenes Verfahren
Angebotsart: Angebot für alle Lose
Vergabekriterien
Wirtschaftlichstes Angebot

Öffentlicher Auftraggeber
Identität
Land: Deutschland 🇩🇪
Art des öffentlichen Auftraggebers: Sonstiges
Name des öffentlichen Auftraggebers: Max-Planck-Institut für Physik
Postanschrift: Föhringer Ring 6
Postleitzahl: 80805
Postort: München
Kontakt
Internetadresse: http://www.mpp.mpg.de 🌏
E-Mail: ausschreibung@mpp.mpg.de 📧
Telefon: +49 8932354217 📞
Fax: +49 8932354460 📠
URL der Dokumente: https://owncloud.mpp.mpg.de/owncloud/s/9ktv6wAZ0JcjmPp 🌏

Referenz
Daten
Absendedatum: 2017-09-08 📅
Einreichungsfrist: 2017-10-16 📅
Veröffentlichungsdatum: 2017-09-13 📅
Kennungen
Bekanntmachungsnummer: 2017/S 175-358004
ABl. S-Ausgabe: 175
Zusätzliche Informationen
Bieter sind nicht zugelassen.

Objekt
Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung:

Ein (1) Stück Kathodenzerstäubungsanlage (Sputter) für Forschung und Entwicklung zur Dünnfilmbeschichtung von Substraten mit verschiedenen Materialien mittels Kathodenzerstäubungsverfahren (Sputtern) unter Verwendung planarer Magnetronquellen (Targets). Bearbeitet werden sollen Substrate mit unterschiedlicher Geometrie, Abmessung und Gewicht.

I. Substrate

Material: Silizium, Germanium, Saphir, Wolframat-Einkristalle

Maximale Abmessung: Durchmesser < 100mm, Höhe < 50mm

Maximales Gewicht: < 500 Gramm.

II. Prozesse

Der Arbeitsablauf für alle im folgenden genannten Einzelprozesse muss für alle in I. genannten Substrattypen und Geometrien mit dem photolithografischen Lift-off Verfahren kompatibel sein.

Integrierte Einzelprozesse:

— Vorbehandlung: Reinigung und Rückätzung (Ionenquelle oder Rücksputterprozeß),

— Filmabscheidung: Gold, Aluminium, Wolfram, Siliziumdioxid.

III. Anlage

III.1. Allgemeine Beschreibung

— Keine Batchprozessierung erforderlich,

— Favorisiert wird eine Positionierung der Magnetrons in Top-down Anordnung.

Alternativ: konfokale Anordnung der Sputterquellen.

III.2. Mindestanforderung

— Eine Prozesskammer in Edelstahlausführung mit folgenden Prozesspositionen:

— eine Vorbehandlungsposition,

— drei DC-Magnetron Sputterquellen für Gold, Aluminium und Wolfram (Haftvermittlung) davon mindestens zwei Magnetronquellen mit Einrichtung für den gepulsten DC-Betrieb,

— eine RF-Magnetron Sputterquelle für Siliziumoxid,

— eine Hochtemperaturposition (Wolfram) mit RF-Magnetron Sputterquelle, T ≥ 500°C,

— mindestens eine freie unbelegte Prozessposition.

Anlagenkonzept entweder in Einzelkammerausführung oder in Cluster-Konfiguration

— Targets: Gold, Wolfram, Aluminium(Silizium), Siliziumdioxid,

— Zwei Gaslinien für Argon und Stickstoff, Ausführung der Gasleitungen in Edelstahl, innen elektropoliert und orbital verschweißt,

— Höheneinstellung (Target – Substrat) an allen Positionen,

— Substratbeheizung, T ≥ 300°C,

— Möglichkeit zur direkten manuellen Beladung der Prozesskammer,

— Vakuumsystem: trocken verdichtende Vorpumpe (keine Scroll- oder Membranpumpe) und Turbomolekularpumpe,

— Bei Prozesskammer ohne Schleusenkammer: Schieberventil zwischen Pumpensystem und Prozesskammer,

— Reinigungsmöglichkeit der Anlage durch Verwendung von Liner-Bleche,

— Rechner unabhängige manuelle Steuerungsmöglichkeit für alle Pumpen und Ventile,

— Manuelle und automatisierte Prozesssteuerung für jeden Einzelprozess,

— Rechnerunterstützte Prozesssteuerung und Überwachung.

III.3. Optionen

— Alle DC-Magnetron Positionen vorbereitet für den pulsed-DC Betrieb,

— Reaktives Sputtern mit Sauerstoff und Stickstoff (MFC-geregelt),

— Target: Wolfram hoher Reinheit,

— Quadrupol-Massenspektrometer,

— Anpassungsmöglichkeit auf unterschiedliche Targetgrößen (Adapterflansch),

— Gasflaschenschrank mit Flaschenanschluss und Entnahmestation für drei Gasflaschen (50 l).

IV. Spezifikationen

IV.1 Anlage

— Prozesskammerenddruck: < 5x10-7mbar, Leckrate: < 10-10 mbar lit/s,

— Bei Prozesskammer ohne Schleusenkammer: Abpumpzeit bis 5x10-6 mbar: < 3h,

— Stellfläche inklusive Wartungs- und Bedienungsfläche < 10qm (ohne Zusatzkomponenten).

IV.2 Prozesse

— Abscheidungsraten auf 100mm Standardwafer: < 50nm/min, Homogenität: < 10 %,

— Schichtdicken: bis zu 2µm (Aluminium),

— Lift-Off Kompatibilität,

— Ätzrate Vorbehandlungsprozess: >1nm/min, einstellbar.

V. Dokumentation

— vollständige Soft-und Hardware Dokumentation aller Anlagenteile.

VI. Werksabnahme und Prozessnachweis

— Werksabnahme und Prozessnachweis nach Vorgabe und vor Auslieferung der Anlage.

VII. Auslieferung, Installation, Endabnahme und Einweisung

— Die Anlieferung, Aufstellung, Installation und Inbetriebnahme der Anlage am endgültigen Standort am MPI für Physik in München erfolgt durch Mitarbeiter des Herstellers,

— Bestandteil der Endabnahme ist ein erneuter Prozessnachweis gemäß Werksabnahme,

— Im Rahmen der Endabnahme erfolgt die eine Einweisung von MPI-Mitarbeitern in die Benutzung der Anlage.

Dauer: 6 Monate
Beschreibung der Optionen: Siehe Vergabeunterlagen.
Ort der Leistung
Hauptstandort oder Erfüllungsort: Max-Planck-Institut für Physik, Föhringer Ring 6, 80805 München.

Rechtliche, wirtschaftliche, finanzielle und technische Informationen
Bedingungen für die Teilnahme
Befähigung zur Berufsausübung:

Bewerbergemeinschaften:

Bewerbergemeinschaften sind als Gesellschaft bürgerlichen Rechts (GbR), als offene Handelsgesellschaft (oHG) sowie in haftungsrechtlich vergleichbarer Form einer anderen EU-Rechtsordnung zugelassen. Es ist im Angebot aufzuzeigen, wer an der Bewerbergemeinschaft beteiligt ist. Dem Auftraggeber ist ein verantwortlicher Ansprechpartner aus der Bewerbergemeinschaft zu benennen. Im Angebot ist außerdem detailliert die aufgabenspezifische Aufteilung der Leistungserbringung darzulegen (siehe hierzu Anlage 5 Formblätter_Eigenerklärungen). Auch im Falle von Bewerbergemeinschaften (und selbstredend bei Unterauftragnehmern) muss gewährleistet sein, dass für den Auftraggeber nur eine gleichbleibende und im Falle von Unterauftragnehmer gesamtverantwortliche (Ansprech-) Stelle existiert, an die die zu bearbeitenden Anträge/ Anfragen versendet werden, mit der die komplette Korrespondenz abgewickelt wird, bei der ein über die Vertragslaufzeit gleichbleibender Personenkreis als Ansprechpartner für Rückfragen zur Verfügung steht und die für die Rechnungsstellung zuständig ist. Unter Berücksichtigung der diesbezüglichen Vorgaben in der Bekanntmachung dieses Vergabeverfahrens im EU-Amtsblatt oder den vorliegenden Vergabeunterlagen sind die geforderten Nachweise und Belege für/ von jedem Mitglied der Bewerbergemeinschaft jeweils mit dem Angebot vorzulegen.

Andere Unternehmen

Für die Leistungserbringung vorgesehene andere Unternehmen sollen mit dem Angebot (siehe Anlage 5 Formblätter_Eigenerklärungen) benannt werden. Zudem soll mit dem Angebot eine Verpflichtungserklärung vorgelegt werden, mit der die anderen Unternehmen erklären, dass Sie im Fall der Zuschlagserteilung an den (ihn verpflichtenden) Bewerber diesem mit Mitteln/ Kapazitäten im Rahmen und für die Erbringung der hier ausgeschriebenen Leistungen verbindlich zur Verfügung stehen. Ein Wechsel anderer Unternehmen ist nur nach vorheriger Zustimmung des Auftraggebers zulässig, die dieser aus wichtigem Grund verweigern kann. Die

Gründe für den beabsichtigten Wechsel sind dem Auftraggeber unaufgefordert darzulegen. Der Auftraggeber behält sich vor, auf eine solche Verpflichtungserklärung zu bestehen, in jedem Falle vor Auftragserteilung.

Wirtschaftliche und finanzielle Leistungsfähigkeit:

Zum Nachweis der wirtschaftlichen und finanziellen Leistungsfähigkeit sind die Formblätter „Eignungskriterien“ zu verwenden. Diese sind unter https://owncloud.mpp.mpg.de/owncloud/s/9ktv6wAZ0JcjmPp herunterzuladen und für das Angebot zu verwenden. Fehlen geforderte Angaben, Nachweise, Erklärungen und Unterlagen

ganz oder teilweise oder sind diese unvollständig oder entgegen den Vorgaben ausgefüllt, erfolgt, außer bei Angaben, Unterlagen, Nachweisen und Erklärungen, die von der Nachforderung ausgenommen sind, eine einmalige Nachforderung unter Fristsetzung. Werden diese nachgeforderten Angaben, Nachweise, Erklärungen

und Unterlagen nicht fristgemäß nachgereicht, erfolgt der Ausschluss des Angebots.

Verfahren
Zeitpunkt des Eingangs der Angebote: 12:00
Sprachen, in denen Angebote oder Teilnahmeanträge eingereicht werden können: Deutsch 🗣️
Gültigkeitsdauer des Angebots: 2018-01-31 📅
Datum der Angebotseröffnung: 2017-10-17 📅
Zeitpunkt der Angebotseröffnung: 10:00
Zusätzliche Informationen: Bieter sind nicht zugelassen.

Öffentlicher Auftraggeber
Identität
Andere Art des öffentlichen Auftraggebers: Einrichtung des privaten Rechts
Kontakt
Kontaktperson: Einkauf
Dokumente URL: https://owncloud.mpp.mpg.de/owncloud/s/9ktv6wAZ0JcjmPp 🌏

Ergänzende Informationen
Körper überprüfen
Name: Vergabekammer Südbayern bei der Regierung von Oberbayern
Postanschrift: Maximilianstr. 39
Postort: München
Postleitzahl: 80538
Land: Deutschland 🇩🇪
Telefon: +49 8921762411 📞
Quelle: OJS 2017/S 175-358004 (2017-09-08)

Bekanntmachung über vergebene Aufträge (2018-05-16)
Objekt
Umfang der Beschaffung
Gesamtwert des Auftrags: 1 EUR 💰
Metadaten der Bekanntmachung
Dokumenttyp: Bekanntmachung über vergebene Aufträge

Verfahren
Angebotsart: Entfällt

Referenz
Daten
Absendedatum: 2018-05-16 📅
Veröffentlichungsdatum: 2018-05-17 📅
Kennungen
Bekanntmachungsnummer: 2018/S 093-210917
Verweist auf Bekanntmachung: 2017/S 175-358004
ABl. S-Ausgabe: 93

Objekt
Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung:

Geometrie, Abmessung und Gewicht.

Material: Silizium, Germanium, Saphir, Wolframat-Einkristalle.

Maximale Abmessung: Durchmesser < 100 mm, Höhe < 50 mm.

—— Vorbehandlung: Reinigung und Rückätzung (Ionenquelle oder Rücksputterprozeß).

—— Filmabscheidung: Gold, Aluminium, Wolfram, Siliziumdioxid.

—— Keine Batchprozessierung erforderlich.

—— Favorisiert wird eine Positionierung der Magnetrons in Top-down Anordnung Alternativ: konfokale Anordnung der Sputterquellen.

—— Eine Prozesskammer in Edelstahlausführung mit folgenden Prozesspositionen:

— 3 DC-Magnetron Sputterquellen für Gold, Aluminium und Wolfram (Haftvermittlung) davon mindestens 2 Magnetronquellen mit Einrichtung für den gepulsten DC-Betrieb.

— eine Hochtemperaturposition (Wolfram) mit RF-Magnetron Sputterquelle, T ≥ 500

— mindestens eine freie unbelegte Prozessposition Anlagenkonzept entweder in Einzelkammerausführung oder in Cluster-Konfiguration.

—— Targets: Gold, Wolfram, Aluminium(Silizium), Siliziumdioxid.

—— 2 Gaslinien für Argon und Stickstoff, Ausführung der Gasleitungen in Edelstahl, innen elektropoliert und Orbital verschweißt.

—— Höheneinstellung (Target – Substrat) an allen Positionen.

—— Substratbeheizung, T ≥ 300

—— Möglichkeit zur direkten manuellen Beladung der Prozesskammer.

—— Vakuumsystem: trocken verdichtende Vorpumpe (keine Scroll- oder Membranpumpe) und Turbomolekularpumpe.

—— Bei Prozesskammer ohne Schleusenkammer: Schieberventil zwischen Pumpensystem und Prozesskammer.

—— Reinigungsmöglichkeit der Anlage durch Verwendung von Liner-Bleche.

—— Rechner unabhängige manuelle Steuerungsmöglichkeit für alle Pumpen und Ventile.

—— Manuelle und automatisierte Prozesssteuerung für jeden Einzelprozess.

—— Rechnerunterstützte Prozesssteuerung und Überwachung.

—— Alle DC-Magnetron Positionen vorbereitet für den pulsed-DC Betrieb.

—— Reaktives Sputtern mit Sauerstoff und Stickstoff (MFC-geregelt).

—— Target: Wolfram hoher Reinheit.

—— Quadrupol-Massenspektrometer.

—— Anpassungsmöglichkeit auf unterschiedliche Targetgrößen (Adapterflansch).

—— Gasflaschenschrank mit Flaschenanschluss und Entnahmestation für drei Gasflaschen (50 l).

—— Prozesskammerenddruck: < 5x10-7 mbar, Leckrate: < 10-10 mbar lit/s.

—— Bei Prozesskammer ohne Schleusenkammer: Abpumpzeit bis 5x10-6 mbar: < 3h.

—— Stellfläche inklusive Wartungs- und Bedienungsfläche < 10 qm (ohne Zusatzkomponenten).

—— Abscheidungsraten auf 100mm Standardwafer: < 50 nm/min, Homogenität: < 10 %.

—— Schichtdicken: bis zu 2 μm (Aluminium).

—— Lift-Off Kompatibilität.

—— Ätzrate Vorbehandlungsprozess: >1 nm/min, einstellbar.

—— vollständige Soft-und Hardware Dokumentation aller Anlagenteile.

—— Werksabnahme und Prozessnachweis nach Vorgabe und vor Auslieferung der Anlage.

—— Die Anlieferung, Aufstellung, Installation und Inbetriebnahme der Anlage am endgültigen Standort am MPI für Physik in München erfolgt durch Mitarbeiter des Herstellers.

—— Bestandteil der Endabnahme ist ein erneuter Prozessnachweis gemäß Werksabnahme.

—— Im Rahmen der Endabnahme erfolgt die eine Einweisung von MPI-Mitarbeitern in die Benutzung der Anlage.

Beschreibung der Optionen: Siehe Vergabeunterlagen
Ort der Leistung
Hauptstandort oder Erfüllungsort:

Max-Planck-Institut für Physik

Föhringer Ring 6

80805 München

Verfahren
Vergabekriterien
Qualitätskriterium (Bezeichnung): Siehe Vergabeunterlagen
Qualitätskriterium (Gewichtung): 100
Gewichtung des Preises: 0

Auftragsvergabe
Datum des Vertragsabschlusses: 2018-05-14 📅

Ergänzende Informationen
Körper überprüfen
Informationen zu Fristen für Nachprüfungsverfahren:

Ein Nachprüfungsantrag ist unzulässig, soweit mehr als 15 Kalendertage nach Eingang der Mitteilung des Auftraggebers, einer Rüge nicht abhelfen zu wollen, vergangen sind (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 4 GWB). Ein Nachprüfungsantrag ist zudem unzulässig, wenn der Zuschlag erfolgt ist, bevor die Vergabekammer den Auftraggeber über den Antrag auf Nachprüfung informiert hat (§§ 168 Abs. 2 Satz, 169 Abs. 1 GWB). Die Zuschlagserteilung ist möglich 15 Kalendertage nach Absendung der der Bieterinformation nach § 134 Abs. 1 GWB. Wird die Information auf elektronischem Weg oder per Fax versendet, verkürzt sich die Frist auf 10 Kalendertage (§ 134 Abs. 2 GWB). Die Frist beginnt am Tag nach der Absendung der Information durch den Auftraggeber; auf den Tag des Zugangs beim betroffenen Bieter und Bewerber kommt es nicht an. Die Zulässigkeit eines Nachprüfungsantrags setzt ferner voraus, dass die geltend gemachten Vergabeverstöße 10 Kalendertage nach Kenntnis gerügt wurden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 1 GWB). Verstöße gegen Vergabevorschriften, die aufgrund der Bekanntmachung erkennbar sind, müssen spätestens bis zum Ablauf der in der Bekanntmachung benannten Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 2 GWB). Verstöße gegen Vergabevorschriften, die erst in den Vergabeunterlagen erkennbar sind, müssen spätestens bis zum Ablauf der Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 3 GWB).

Quelle: OJS 2018/S 093-210917 (2018-05-16)

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