Sputter-Anlage zur Abscheidung einkristalliner Iridium-Dünnschichten
Single-Modul-Abscheidungssystem zum Beschichten von 2-, 3- und 4“-Substraten mit einkristallinen Iridiumschichten durch Sputtern. Der Anlage muss mit einem Ladeschleusensystem ausgerüstet sein und Wachstumstemperaturen bi.
Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2017-09-18.
Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2017-08-10.
Wer?
Wie?
Wo?
Geschichte der Beschaffung
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Dokument |
| 2017-08-10
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Auftragsbekanntmachung
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| 2017-10-19
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Bekanntmachung über vergebene Aufträge
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