Sputteranlage
Hochvakuum-Sputteranlage zur Beschichtung mit metallischen und dielektrischen Schichten.
Die ausführlich beschriebenen Anforderungen an die gesuchte Leistung entnehmen Sie bitte dem Dokument „Kriterienkatalog“.
Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2017-03-17.
Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2017-02-14.
Anbieter
Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:
Wer?
Wie?
Wo?
Geschichte der Beschaffung
| Datum |
Dokument |
| 2017-02-14
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Auftragsbekanntmachung
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| 2017-05-16
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Bekanntmachung über vergebene Aufträge
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